玻璃基板的蚀刻方法及蚀刻浸泡装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种玻璃基板的蚀刻方法及蚀刻浸泡装置，该玻璃基板的蚀刻方法包括如下步骤：步骤1.提供待蚀刻的玻璃基板(1)、刻蚀槽(3)、蚀刻药液及供给管路(7)；步骤2.在刻蚀槽(3)内设置一浸泡槽(9)；步骤3.所述供给管路(7)向浸泡槽(9)内注入蚀刻药液直至注入预定量的蚀刻药液；步骤4.将待蚀刻的玻璃基板(1)送入刻蚀槽(3)内；步骤5.升高浸泡槽(9)直至其内蚀刻药液完全浸没玻璃基板(1)；步骤6.达到预定浸泡时间后，降低浸泡槽(9)露出玻璃基板(1)。该玻璃基板的蚀刻方法简单、易操作，能够缩短蚀刻制程时间，提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示器的制程领域，尤其涉及一种玻璃基板的蚀刻方法及蚀刻浸泡装置。
技术介绍
液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用，如：移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。薄膜晶体管液晶显示器一般包括壳体、设于壳体内的液晶面板及设于壳体内的背光模组(Backlight module)。其中，液晶面板的结构是由一薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)、一彩色滤光片基板(Color Filter，CF)、以及一配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。上述TFT-LCD的制程过程一般包括：前段阵列(Array)制程，主要是制造TFT基板及CF基板；中段成盒(Cell)制程，主要是将TFT基板与CF基板贴合，在二者之间添加液晶，形成液晶面板；及后段模组组装制程，主要是将液晶面板与背光模组、PCB等其它零部件进行组装。前段阵列制程又包括：玻璃基板的清洗与干燥、镀膜、涂光刻胶、曝光、显影、蚀刻、去除光刻胶等制程。蚀刻制程分为干法蚀刻与湿法蚀刻。湿法蚀刻是使用液体化学试剂，即蚀刻药液以化学腐蚀的方式去除无光刻胶覆盖的薄膜，以在玻璃基板上形成所需的电路图案。现有技术中，对TFT-LCD的玻璃基板进行湿法蚀刻有喷淋和浸泡两种方式。浸泡是将玻璃基板完全浸入蚀刻药液进行蚀刻。请参阅图1、图2，传统的对TFT-LCD的玻璃基板进行浸泡的方法，主要包括：步骤1’、传动装置100将待蚀刻的玻璃基板200输送入刻蚀槽300内，数个挡板400上升构成一容置空间；步骤2’、供给管路500向该由数个挡板400上升构成的容置空间内注入蚀刻药液，直至待蚀刻的玻璃基板200完全浸入蚀刻药液，进行浸泡蚀刻。上述方法需要先将玻璃基板200输送至刻蚀槽300内，再注满蚀刻药液，才能进行浸泡蚀刻，造成蚀刻制程的时间较长，不利于提高生产效率。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种玻璃基板的蚀刻方法，能够缩短蚀刻制程时间，提高生产效率。本专利技术的目的还在于提供一种蚀刻浸泡装置，能够使得蚀刻药液在极短的时间内浸没送到的待蚀刻的玻璃基板，利于提高生产效率，且结构简单、易实现。为实现上述目的，本专利技术提供一种玻璃基板的蚀刻方法，包括如下步骤：步骤1、提供待蚀刻的玻璃基板、刻蚀槽、蚀刻药液及供给管路；步骤2、在刻蚀槽内设置一浸泡槽；步骤3、所述供给管路向浸泡槽内注入蚀刻药液直至注入预定量的蚀刻药液；步骤4、将待蚀刻的玻璃基板送入刻蚀槽内；步骤5、升高浸泡槽直至其内蚀刻药液完全浸没玻璃基板；步骤6、达到预定浸泡时间后，降低浸泡槽露出玻璃基板。所述浸泡槽的材质为PVC。所述供给管路位于浸泡槽的一侧以注入蚀刻药液。所述浸泡槽的底部两端设有气缸，为步骤5与步骤6中所述浸泡槽的升降提供动力。所述步骤4通过传动装置将待蚀刻的玻璃基板送入刻蚀槽内，所述传动装置包括数个位于刻蚀槽内的滚轮，所述浸泡槽包围该数个滚轮，在步骤5升高该浸泡槽后，所述数个滚轮位于浸泡槽内。在所述步骤3注入到预定量的蚀刻药液时，所述步骤4将待蚀刻的玻璃基板送入到刻蚀槽内预定的位置。所述玻璃基板为用于TFT-LCD的玻璃基板。本专利技术还提供一种玻璃基板的蚀刻浸泡装置，包括刻蚀槽、传动装置、浸泡槽、及供给管路，所述浸泡槽位于刻蚀槽内，所述传动装置包括数个位于刻蚀槽内的滚轮，所述浸泡槽包围该数个滚轮，所述供给管路用于供给蚀刻药液给浸泡槽。所述浸泡槽的材质为PVC。该蚀刻浸泡装置还包括设于所述浸泡槽的底部两端的气缸，为所述浸泡槽于刻蚀槽内的升降提供动力。本专利技术的有益效果：本专利技术玻璃基板的蚀刻方法，在刻蚀槽内设置浸泡槽，在玻璃基板进入刻蚀槽之前向所述浸泡槽内注入预定量的蚀刻药液，在玻璃基板进入刻蚀槽之后立即通过气缸升高浸泡槽，使玻璃基板瞬时完全浸入蚀刻药液，减少了蚀刻制程的时间，提高了生产效率；本专利技术蚀刻浸泡装置，通过在刻蚀槽内设置浸泡槽，并在浸泡槽的底部两端设置气缸，由气缸实现浸泡槽的快速升降，能够使得蚀刻药液在极短的时间内浸没玻璃基板，利于提高生产效率，且结构简单、易实现。为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制。附图说明下面结合附图，通过对本专利技术的具体实施方式详细描述，将使本专利技术的技术方案及其它有益效果显而易见。附图中，图1为现有的玻璃基板的蚀刻浸泡方法步骤1’的示意图；图2为现有的玻璃基板的蚀刻浸泡方法步骤2’的示意图；图3为本专利技术玻璃基板的蚀刻方法的流程图；图4为本专利技术玻璃基板的蚀刻浸泡装置的结构示意图；图5为本专利技术玻璃基板的蚀刻方法的步骤4的示意图；图6为本专利技术玻璃基板的蚀刻方法的步骤5的示意图。具体实施方式为更进一步阐述本专利技术所采取的技术手段及其效果，以下结合本专利技术的优选实施例及其附图进行详细描述。请参阅图3至图6，本专利技术提供一种玻璃基板的蚀刻方法，包括如下步骤：步骤1、提供待蚀刻的玻璃基板1、刻蚀槽3、蚀刻药液6及供给管路7；步骤2、在刻蚀槽3内设置一浸泡槽9；步骤3、所述供给管路7向浸泡槽9内注入蚀刻药液6直至注入预定量的蚀刻药液6；步骤4、将待蚀刻的玻璃基板1送入刻蚀槽3内；步骤5、升高浸泡槽9直至其内蚀刻药液6完全浸没玻璃基板1；步骤6、达到预定浸泡时间后，降低浸泡槽9露出玻璃基板1。具体的，所述步骤1中待蚀刻的玻璃基板1为用于TFT-LCD的玻璃基板；所述供给管路7一端置于刻蚀槽3内，另一端插入储存于机台(未图示)内的蚀刻药液中，用于供给蚀刻药液6给后续所述步骤3中的浸泡槽9。所述步骤2为在刻蚀槽3内设置一浸泡槽9。所述浸泡槽9用于盛装蚀刻药液6，以对玻璃基板1进行蚀刻浸泡，其由具有耐腐蚀性的材料制成，优选的，所述浸泡槽9由PVC制成。特别需要指出的是，所述浸泡槽9的底部两端分别设有一气缸11，所述气缸11作为动力源，为后续步骤5、步骤6中所述浸泡槽9的升降提供动力。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供待蚀刻的玻璃基板(1)、刻蚀槽(3)、蚀刻药液(6)及供给管路(7)；步骤2、在刻蚀槽(3)内设置一浸泡槽(9)；步骤3、所述供给管路(7)向浸泡槽(9)内注入蚀刻药液(6)直至注入预定量的蚀刻药液(6)；步骤4、将待蚀刻的玻璃基板(1)送入刻蚀槽(3)内；步骤5、升高浸泡槽(9)直至其内蚀刻药液(6)完全浸没玻璃基板(1)；步骤6、达到预定浸泡时间后，降低浸泡槽(9)露出玻璃基板(1)。

【技术特征摘要】
1.一种玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供待蚀刻的玻璃基板(1)、刻蚀槽(3)、蚀刻药液(6)及供
给管路(7)；
步骤2、在刻蚀槽(3)内设置一浸泡槽(9)；
步骤3、所述供给管路(7)向浸泡槽(9)内注入蚀刻药液(6)直至注
入预定量的蚀刻药液(6)；
步骤4、将待蚀刻的玻璃基板(1)送入刻蚀槽(3)内；
步骤5、升高浸泡槽(9)直至其内蚀刻药液(6)完全浸没玻璃基板(1)；
步骤6、达到预定浸泡时间后，降低浸泡槽(9)露出玻璃基板(1)。
2.如权利要求1所述的玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，所述浸泡槽
(9)的材质为PVC。
3.如权利要求1所述的玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，所述供给管
路(7)位于浸泡槽(9)的一侧以注入蚀刻药液(6)。
4.如权利要求1所述的玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，所述浸泡槽
(9)的底部两端设有气缸(11)，为步骤5与步骤6中所述浸泡槽(9)的升降
提供动力。
5.如权利要求1所述的玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，所述步骤4
通过传动装置(13)将待蚀刻的玻璃基板(1)送入刻蚀槽(3)内，所述传动
装置(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：李嘉，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44