光刻设备和装置制造方法制造方法及图纸

光刻或曝光设备(1)具有投影系统(12、14、18)和控制器(500)。投影系统包括固定部件(12)和运动部件(14、18)。投影系统被构造成投影多个辐射光束到目标上的多个位置上。该位置根据图案选择。控制器被构造成控制设备以第一模式或第二模式操作。在第一模式，投影系统输送第一量的能量到所选位置。在第二模式，投影系统输送第二量的能量到所选位置。第二量的能量大于第一量的能量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光刻设备和装置制造方法相关申请的交叉参考本申请要求2012年1月17日提交的美国临时申请61/587,357的权利，该申请通过引用整体合并于此。
本专利技术涉及光刻或曝光设备和制造装置的方法。
技术介绍
光刻或曝光设备是在衬底或部件衬底上施加希望图案的机器。该设备例如可以用于集成电路(IC)、平板显示器和具有细微特征的其他装置或结构的制造。在传统的光刻或曝光设备中，可以称为掩模或刻线的图案形成装置可用来形成对应于IC的单个层、平板显示器或其他装置的电路图案。这种图案可转移到衬底(例如硅晶片或玻璃板)(部分)上，例如经由成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。在类似方面，曝光设备是在衬底(或其一部分)上或中形成希望图案中使用辐射光束的机器。除了电路图案之外，图案形成装置可用来生成其他图案，例如彩色滤光图案或点阵。代替传统掩模，图案形成装置可包括图案形成阵列，其包括生成电路或其他可应用图案的单独可控制元件的阵列。与传统基于掩模的系统相比，这种“无掩模”系统的优点在于图案可更快速和更低成本地设置和/或更改。因此，无掩模系统包括可编程的图案形成装置(例如空间光调制器、对比度装置等)。可编程的图案形成装置被编程(例如电子或光学地)以便使用单独可控制元件的阵列形成希望图案的光束。可编程图案形成装置的类型包括微型反射镜阵列、液晶显示器(LCD)阵列、光栅光阀阵列、自发射对比度装置阵列等。可编程的图案形成装置还可由电子光学偏转器形成，其被构造成例如运动投影到衬底上的辐射点，或间断地引导辐射光束远离衬底，例如到辐射光束吸收器。在任何这样的布置中，辐射光束可以是连续的。
技术实现思路
无掩模光刻设备可设置例如光栅以便在衬底的目标部分上形成图案。光栅可以设置被构造成发射光束的自发射对比度装置和被构造成将光束的至少一部分投影到目标部分上的投影系统。该设备可设置致动器以相对于衬底运动光栅或其一部分。由此，在光束和衬底之间可以具有相对运动。通过在运动过程中转换“接通”或“断开”自发射对比度装置，可以在衬底上形成图案。根据本专利技术的一种实施方式，提供一种光刻设备，光刻设备包括：投影系统，其包括固定部件和运动部件，其被构造成将多个辐射光束投影到目标上的根据图案选择的位置上；以及控制器，其被构造成控制光刻设备以第一模式或第二模式操作，其中，在第一模式中，投影系统将第一量的能量输送到所选位置，并且在第二模式中，投影系统将大于第一量的能量的第二量的能量输送到所选位置。根据本专利技术的一种实施方式，提供一种装置制造方法，其包括使用包括固定部件和运动部件的投影系统以便将多个辐射光束投影到目标上的根据图案选择的位置上；并且控制光刻设备以第一模式或第二模式操作，其中在第一模式中，投影系统将第一量的能量输送到所选位置，并且在第二模式中，投影系统将大于第一量的能量的第二量的能量输送到所选位置。附图说明现在只通过例子参考示意附图，描述本专利技术的实施方式，附图中相应的附图标记指示相应部件，并且在附图中：图1描绘根据本专利技术的实施方式的光刻设备的一部分；图2描绘根据本专利技术的实施方式的图1的光刻设备的一部分的顶视图；图3描绘根据本专利技术的实施方式的光刻设备的一部分的高度示意的透视图；图4描绘根据本专利技术的实施方式通过图3的光刻设备在衬底上投影的示意顶视图。图5描绘根据本专利技术的实施方式的一部分的横截面图；图6描绘根据本专利技术的实施方式通过光刻设备在衬底的一部分上投影的示意顶视图；图7描绘根据本专利技术的实施方式通过光刻设备在衬底的一部分上投影的示意顶视图；以及图8描绘根据本专利技术的实施方式通过光刻设备在衬底的一部分上投影的示意顶视图。具体实施方式本专利技术的实施方式涉及一种设备，其可包括例如具有自发射对比度装置的一个或多个阵列的可编程的图案形成装置。有关这种设备的进一步信息可在PCT专利申请公开no.WO2010/032224A2、美国专利申请公开no.US2011-0188016、美国专利申请no.US61/473636和美国专利申请no.61/524190中找到，这些申请通过引用整体合并在此。但是，本专利技术的实施方式可与包括例如以上描述的那些的任何形式的可编程的图案形成装置一起使用。图1示意描绘光刻或曝光设备的一部分的示意横截面侧视图。在此实施方式中，该设备具有在X-Y平面内大致固定的单独可控制的元件，如下面进一步描述，虽然不必须如此。设备1包括保持衬底的衬底台2，以及以多达六个自由度运动衬底台2的定位装置3。衬底可以是涂覆抗蚀剂衬底。在一种实施方式中，衬底是晶片。在一种实施方式中，衬底是多边形(例如矩形)衬底。在一种实施方式中，衬底是玻璃板。在一种实施方式中，衬底是塑料衬底。在一种实施方式中，衬底是箔片。在一种实施方式中，该设备适用于辊-辊制造。设备1还包括多个单独控制的自发射对比度装置4，其被构造成发射多个光束。在一种实施方式中，自发射对比度装置4是辐射发射二极管，例如发光二极管(LED)、有机LED(OLED)、聚合物LED(PLED)或激光二极管(例如固态激光二极管)。在一种实施方式中，每个单独控制元件4是蓝-紫激光二极管(例如Sanyo型号no.DL-3146-151)。这种二极管可通过例如Sanyo、Nichia、Osram和Nitride的公司提供。在一种实施方式中，二极管发射UV辐射，例如具有大约365nm或大约405nm的波长。在一种实施方式中，二极管可提供选自0.5-200mW的范围的输出功率。在一种实施方式中，激光二极管(裸模)的尺寸选自100-800微米的范围。在一种实施方式中，激光二极管具有选自0.5–5微米2的范围的发射区域。在一种实施方式中，激光二极管具有选自5-44度的范围的发散角度。在一种实施方式中，二极管具有提供大于或等于大约6.4x108W/(m2.sr)的总亮度的构型(例如发射区域、发散角度、输出功率等)。自发射对比度装置4布置在框架5上，并可以沿着Y方向和/或X方向延伸。虽然示出一个框架5，设备可具有图2所示的多个框架5。另外布置在框架5上的是透镜12。框架5以及自发射对比度装置4和透镜12可以在X-Y平面中大致静止。框架5、自发射对比度装置4和透镜12可以通过致动器7在Z方向上运动。替代或另外地，透镜12可以通过致动器相对于此特殊透镜在Z方向上运动。任选地，每个透镜12可设置致动器。自发射对比度装置4可被构造成发射光束，并且投影系统12、14和18可被构造成在衬底的目标部分上投影光束。自发射对比度装置4和投影系统形成光栅。设备1可包括致动器(例如马达)11以使光栅或其一部分相对于衬底运动。具有布置其上的场透镜14和成像透镜18的框架8可通过致动器转动。场透镜14和成像透镜18的组合形成可动光学器件9。在使用中，框架8围绕其自身轴线10转动，例如在图2的箭头所示的方向上。框架8使用致动器(例如马达)11围绕轴线10转动。另外，框架8可以通过马达7在Z方向上运动，使得可动光学器件9可以相对于衬底台2位移。其中具有开口的开口结构13可在透镜12和自发射对比度装置4之间定位在透镜12上方。开口结构13可限制透镜12、相关的自发射对比度装置4和/或相邻透镜12/自发射对比度装置4的衍射作用。所示设备可通过转动框架8并同时在光栅下方运动衬本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光设备，包括：投影系统，其包括固定部件和运动部件，能够投影多个辐射光束到目标上的根据图案选择的位置上；以及控制器，能够控制设备以第一模式或第二模式操作；其中在第一模式，投影系统输送第一量的能量到所选位置，并且在第二模式，投影系统输送大于第一量的能量的第二量的能量到所选位置。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2012.01.17 US 61/587,3571.一种曝光设备，包括：投影系统，其包括固定部件和运动部件，能够投影多个辐射光束到目标上的根据图案选择的位置上；以及控制器，能够控制设备以第一模式或第二模式操作；其中在第一模式，投影系统输送第一量的能量到所选位置，并且在第二模式，投影系统输送大于第一量的能量的第二量的能量到所选位置；以及其中，在第一模式，投影系统以第一速率投影多个辐射光束到所选位置上，并在第二模式，投影系统以第二速率投影多个辐射光束到所选位置上，第二速率低于或等于第一速率。2.根据权利要求1所述的设备，包括：衬底支承件，其能够支承具有目标的衬底并使衬底相对于投影系统在扫描方向上运动，使得投影系统能够投影在衬底的连续扫描区域上；其中在第一模式，衬底相对于投影系统以第一速度运动，并且在第二模式，衬底相对于投影系统以低于第一速度的第二速度运动。3.根据权利要求2所述的设备，其中，第二模式包括第一子模式，在第一子模式，第二速率大致等于第一速率，并且第二速度比第一速度低一整数因数，使得每个扫描区域与整数数量的其他扫描区域部分重叠。4.根据权利要求2所述的设备，其中，第二模式包括第二子模式，在第二子模式中，第二速率比第一速率低一减速因数，并且第二速度比第一速度低该减速因数。5.根据权利要求2所述的设备，其中，第二模式包括第三子模式，在第三子模式中，第二速率比第一速率低一减速因数，并且第二速度比第一速度低该减速因数与整数因数的乘积，其中每个扫描区域与整数数量的其他扫描区域部分重叠。6.根据权利要求2所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：P·蒂内曼斯，A·布利科，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL