太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法以及应用技术

本发明专利技术提出一种太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法以及应用,该太阳光谱选择性吸收涂层依次包括：基底层、红外反射层、吸收层和减反层；所述的吸收层由三层渐变太阳光谱吸收层组成，依次为外吸收层、中吸收层和内吸收层，所述内吸收层的材质为TiNx1Oy1，所述中吸收层的材质为TiNx2Oy2，所述外吸收层的材质为TiNx3Oy3。所述吸收层的光学参数梯度渐变，实现了涂层对太阳光谱的高效吸收,较高的热稳定性以及低热辐射率。

【技术实现步骤摘要】
太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法以及应用
本专利技术涉及一种中低温下使用的太阳能光热转化材料及其制备方法，特别是涉及一种可用于真空管式和平板式太阳能热水器的太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法。
技术介绍
太阳能光热利用是开发新能源和可再生能源最直接有效的途径之一，其中中低温(80-400°C)下使用的太阳能集热器具有易推广，普及率高的优势，已成为节能减排的重要手段。吸热体是太阳能集热装置的核心组件，早期的吸热体采用黑漆、电镀黑铬或黑镍作为吸收材料，尽管这些材料在太阳光波段具有高吸收率，可将太阳能有效地转化为热，与此同时，由于吸热体温度的升高，材料表面通过热辐射向外辐射电磁波，因此一般实际光热转化效率并不高。太阳光谱选择性吸收涂层在近二三十年内被广泛关注，它可在300nm-2500nm(太阳光98%的能量集中在此波段)的光谱范围内具有高吸收率，与黑体材料不同的是在2500nm以外的红外波段具有低吸收率(即低热辐射率)，大大降低了辐射散热，提高了光热转化效率。按应用范围太阳光谱选择性吸收涂层可分为两类:1)真空管式太阳能集热器中使用的太阳光谱选择性吸收涂层，这类涂层应用于真空环境中，对在大气下的热稳定性要求相对较低；2 )平板式太阳能集热器中使用的选择性吸收涂层，这类材料直接面对大气，长时间使用结构与成分不应发生变化，应具备较高的热稳定性。现阶段中低温下使用的太阳能集热器多采用真空管式，其吸收材料多为AlN或氧化铝中掺杂不锈钢或Al的陶瓷材料。这类材料的光热转化效率可高达90%以上，然而在大气下易被氧化，限制了这类材料不适用于平板式太阳能集热器中。采用物理气相沉积的方法在氧化物或氮化物中掺杂Ag、Au、W、Mo或Pt等金属已被发现在大气中具有较强的热稳定性，这些材料也已被应用于特殊的高温光热转化装置中，然而制备成本相对较高却限制了此类材料在中低温太阳能集热领域的应用。为了更好的推广平板式集热器，开发一种兼具光热转化效率高、热稳定性强及成本低廉的光热转化材料缺一不可。
技术实现思路
本专利技术目的在于提供一种中低温下使用的太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法，使其可以实现对太阳光谱的高效吸收，在使用温度范围内具有较高的热稳定性，还可以实现较低的热辐射率。本专利技术的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本专利技术提出的一种太阳光谱选择性吸收涂层，其依次包括:基底层、红外反射层、吸收层和减反层；所述的吸收层由三层渐变太阳光谱吸收层组成，依次为内吸收层、中吸收层和外吸收层，所述内吸收层的材质为TiNxlOyl，所述中吸收层的材质为TiNx2Oy2，所述外吸收层的材质为TiNx30y3。其中所述的内吸收层的厚度为20nm-50nm,中吸收层的厚度为10nm-50nm,外吸收层的厚度为10nm-50nm。本专利技术的目的及解决其技术问题还采用以下的技术方案来实现。依据本专利技术提出一种太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法，其包括以下步骤:步骤1，采用Al、Cu或玻璃作为基底层材料，将基底层材料置于真空清洗室中，通入一定量的氩气，进行射频氩离子清洗；步骤2，采用磁控溅射铝靶、铜靶或银靶在上述的基底层上制备红外反射层；步骤3，在通入氩气和氮气的条件下，将上述的红外反射层置于钛靶下，采用磁控溅射法在上述的红外反射层上制备内吸收层；然后通入一定量的氧气，继续以金属钛为靶材通过反应磁控溅射法在上述内吸收层上制备中吸收层；然后增加氧气流量，继续以金属钛为靶材通过反应磁控溅射法在上述中吸收层上制备外吸收层；步骤4，将步骤3得到的产品置于硅靶前，通入氩气和氧气，采用反应磁控溅射法在上述外吸收层上制备氧化硅层作为减反层。优选的，前述的太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法，其中所述的基底层的厚度为0.2-10mm ;所述的红外反射层的厚度为90_500nm ;所述的内吸收层、中吸收层和外吸收层的总厚度为40-150nm，所述的减反层的厚度为80_100nm。优选的，前述的太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法，其中所述内吸收层的材质为TiNxlOyl，其中本层材料中所含的氧一部分来自真空腔室中的残余水气和氧气，另一部则由于在空气中被氧化所致。在波长为400nm-600nm范围内，折射率处于1.9-2.5之间，消光系数处于0.6-1.2之间；在波长为900nm-1100nm范围内，折射率处于2.2-2.8，消光系数处于2.1-2.5 ;在波长为2000nm-2300nm范围内，折射率处于3.8-4.1，消光系数处于2.8_3.0 ο优选的，前述的太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法，其中所述中吸收层的材质为TiNx2Oy2,在波长为400nm-600nm范围内，折射率处于2.0-2.4之间，消光系数处于0.5-0.9之间；在波长处于900nm-l10nm范围内，折射率处于2.7-3.1，消光系数处于至1.3-1.5 ;在波长为2000nm-2300nm范围内，折射率处于3.6-3.8，消光系数处于1.0-1.2。优选的，前述的太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法，其中所述外吸收层的材质为TiNx3Oy3,在波长为400nm-600nm范围内，折射率处于2.2-2.5之间，消光系数处于0.3-0.5之间；此类材料在波长为900nm-1100nm范围内，折射率处于2.6-2.9，消光系数为0.4-0.6 ;在波长为2000nm-2300nm范围内，折射率处于2.8-3.0，消光系数处于0.2-0.3。本专利技术还提出一种太阳能集热器，其特征在于，在该太阳能集热器中包括上述的太阳光谱选择性吸收涂层。借由上述技术方案，本专利技术至少具有下列优点:本专利技术所公开的太阳光谱选择性吸收涂层通过吸收层光学参数的梯度渐变，可实现涂层对太阳光谱的高效吸收和较高的热稳定性。氮氧化钛吸收材料对红外波段(2.5微米以外)的光波具有高透的性能，当红外波段的光穿透吸收层后会经红外反射层反射，从而实现较低的热辐射率。最外层选取可与吸收层材料光学参数匹配的氧化硅作为减反层，使吸收层能更大限度的吸收太阳光谱。此类涂层具有以下主要优点:a、在太阳光波段可具有94%以上的吸收率(300nm-2500nm)，在100摄氏度下的热辐射率可低于4%，总体光热转化效率高达90%以上；b、通过制备梯度渐变吸收层，涂层的力学性能可得到提升，高温下不易脱膜，可增加涂层在高温下的使用寿命；C、涂层不仅可用于真空管式太阳能集热器，也可直接面对大气，应用于平板式太阳能集热器。此外本专利技术还具有以下特点:a、通过直流溅射的方法制备的红外反射层，选用在整个光波波段具有高消光系数的Al、Cu或Ag等金属，这些高消光系数的金属层对整个波段的光谱具有强反射的作用，特别利于反射透过吸收层的红外光谱(2500nm以外)；b、红外反射层之上是三层渐变太阳光谱吸收层，考虑反应气体的渐变会引起吸收层的光学参数的连续变化，采用了连续改变反应气体氧气的方法制备氮氧化钛梯度渐变吸收层；c、内吸收层的主要光学特征为消光系数在整个太阳光谱波段(0.3 μ m-2.5 μ m)均大于0.6，且随着波长增长有明显增加的趋势，此材料对整个波段的太阳光谱具有相对较强的吸收效果；d、中吸收层的消光系数在380nm-420nm之间具有一个极小值，低至0.5，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种太阳光谱选择性吸收涂层，其特征在于，依次包括：基底层、红外反射层、吸收层和减反层；所述的吸收层由三层渐变太阳光谱吸收层组成，依次为外吸收层、中吸收层和内吸收层，所述内吸收层的材质为TiNx1Oy1(1.10＞x1＞0.90,0.70＞y1＞0.50)，所述中吸收层的材质为TiNx2Oy2(0.80＞x2＞0.70,1.15＞y2＞1.05)，所述外吸收层的材质为TiNx3Oy3(0.55＞x3＞0.45,1.30＞y3＞1.10)。

【技术特征摘要】
1.一种太阳光谱选择性吸收涂层，其特征在于，依次包括:基底层、红外反射层、吸收层和减反层；所述的吸收层由三层渐变太阳光谱吸收层组成，依次为外吸收层、中吸收层和内吸收层，所述内吸收层的材质为TiNxlOyl (1.10 > Xl > 0.90，0.70 > yl > 0.50)，所述中吸收层的材质为TiNx2Oy2 (0.80 > x2 > 0.70，1.15 > y2 > 1.05)，所述外吸收层的材质为TiNx3Oy3 (0.55 > x3 > 0.45，1.30 > y3 > 1.10)。2.根据权利要求1所述的太阳光谱选择性吸收层，其特征在于，其中所述的外吸收层的厚度为10nm-50nm,中吸收层的厚度为10nm-50nm,内吸收层的厚度为20nm_50nm。3.一种太阳光谱选择性吸收涂层的制备方法，其特征在于包括以下步骤: 步骤1，采用Al、Cu或玻璃作为基底层材料，将基底层材料置于真空清洗室中，通入一定量的氩气，进行射频氩离子清洗； 步骤2，采用磁控溅射铝靶、铜靶或银靶在上述的基底层上制备红外反射层； 步骤3，在通入氩气和氮气的条件下，将上述的红外反射层置于钛靶下，采用磁控溅射法在上述的红外反射层上制备内吸收层；最后通入一定量的氧气，继续以金属钛为靶材通过反应磁控溅射法在上述内吸收层上制备中吸收层；然后增加氧气流量，继续以金属钛为靶材通过反应磁控溅射法在上述中吸收层上制备外吸收层； 步骤4，将步骤3得到的产品置于硅靶前，通入氩气和氧气，采用反应磁控溅射法在上述外吸收层上制备氧化硅层作为减反层。4.根据权利要求3所述方法制备的太阳光谱选择性吸收涂层，其特征在于，所述的基底层的厚度为0.2-10...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋斌斌，刘静，汪洪，
申请(专利权)人：中国建筑材料科学研究总院，北京航玻新材料技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11