光刻设备、器件制造方法技术

本发明专利技术公开了一种曝光设备(1)，包括：投射系统(12，14)，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架(8)，其至少能够围绕轴线(10)旋转；以及致动器系统(11)，配置成将可移动框架位移至远离与可移动框架的几何中心对应的轴线的轴线并引起框架围绕通过框架的质心的轴线旋转。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】相关申请的交叉引用本申请要求于2011年12月27日递交的美国临时申请第61/580，417号、于2012年2月21日递交的美国临时申请第61/605,022号以及于2012年5月4日递交的美国临时申请第61/642，939号的权益，这些临时申请以引用的方式整体并入本文。
本专利技术涉及光刻或曝光设备和用于制造器件的方法。
技术介绍
光刻设备是一种将期望的图案应用到衬底上或衬底的一部分上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(1C)、平板显示器以及具有精细特征的其它装置或结构的制造中。在传统的光刻设备中，可以将称为掩模或掩模版的图案形成装置用于产生对应于1C、平板显示器或其它装置的单层的电路图案。可以将这一图案转移到衬底(例如硅晶片或玻璃板)(的一部分)上，例如经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。在类似的情况下，曝光设备是使用辐射束在衬底(或衬底的一部分)上或衬底(或衬底的一部分)中形成想要的图案的机器。除了电路图案，图案形成装置还可以用于产生其它图案，例如滤色片图案或点矩阵。替代传统的掩模，图案形成装置可以包括图案形成阵列，该图案形成阵列包括产生电路或其它可应用图案的独立可控元件的阵列。与传统的基于掩模的系统相比，这样的“无掩模”系统的优点是:可以更加快速地设置和/或更换图案，且成本较小。因此，无掩模系统包括可编程图案形成装置(例如空间光调制器、对比度装置等)。使用独立可控元件的阵列对可编程图案形成装置进行(例如电子或光学地)编程，用于形成期望的图案化的束。可编程图案形成装置的类型包括微反射镜阵列、液晶显示器(LCD)阵列、光栅光阀阵列、自发射式对比度装置阵列等。可编程图案形成装置还可以由光电偏转器形成，其配置成例如移动投射到衬底上的辐射的斑点或间歇地将辐射束从衬底引导离开，例如引导至辐射束吸收器。在任一这样的布置中，辐射束可以是连续的。
技术实现思路
在曝光设备中，具有高速度/加速度并且还具有高精确度的特定部件的移动对于提高产出和图案曝光精确度是至关重要的因素。通常，对于提高产出和图案曝光精确度的两种需求彼此冲突；较高的加速度/速度可以引起较高的内在的动力学振动(或变形)，这可以导致图案曝光精确度的下降。因此，期望例如提供一种系统，其可以提供可移动部件的较高的速度/加速度，并仍然保持图案曝光的精确度。根据本专利技术的实施例，提供一种曝光设备，包括:投射系统，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架，其至少能够围绕轴线旋转；致动器系统，配置成将可移动框架位移至远离与可移动框架的几何中心对应的轴线的轴线并引起框架围绕通过框架的质心的轴线旋转。根据本专利技术一个实施例，提供一种曝光设备，包括:投射系统，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架，其至少能够围绕轴线旋转；致动器系统，用以引起该框架旋转；以及致动器系统的控制器，配置成前馈回转补偿。根据本专利技术的一个实施例，提供一种曝光设备，包括:投射系统，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架，其至少能够围绕轴线旋转；和致动器系统，用以引起框架相对于相对于框架基本上静止的一部分旋转，并且具有致动器用以引起框架相对于所述一部分的位移；和可移动地连接至所述一部分的反作用质量，所述反作用质量具有致动器的一部分。根据本专利技术的一个实施例，提供一种曝光设备，包括:投射系统，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架，其至少能够围绕轴线旋转；和致动器系统，用以引起框架旋转，致动器系统包括围绕所述轴线的至少两个电动机；多个传感器，多个传感器中的每一个设置在将两个相邻电动机的角位置基本上二等分的角位置处。根据本专利技术的一个实施例，提供一种曝光设备，包括:投射系统，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架，其至少能够围绕轴线旋转；和致动器系统，用以引起框架旋转，致动器系统包括围绕所述轴线的第一组至少两个电动机和围绕所述轴线并且在第一组之下的第二组至少两个电动机，其中第二组围绕轴线相对于第一组旋转。根据本专利技术的一个实施例，提供一种曝光设备，包括:投射系统，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架，其至少能够围绕轴线旋转；和致动器系统，用以引起框架旋转；和传感器系统，用以在大体切向方向上测量框架。根据本专利技术的一个实施例，提供一种曝光设备，包括:投射系统，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架，其至少能够围绕轴线旋转；和致动器系统，用以引起框架旋转；和控制器，用以调节可移动框架的位置以至少部分补偿可移动框架的不平衡或另一可移动框架的不平衡。根据本专利技术的一个实施例，提供一种曝光设备，包括:投射系统，配置成将多个辐射束投射到目标上；可移动框架，其至少能够围绕轴线旋转；和致动器系统，用以引起框架旋转；和控制器，用以调节至少一个辐射束的特性，以至少部分补偿框架的不平衡或施加至框架的不平衡。根据本专利技术的一个实施例，提供一种器件制造方法，包括步骤:将多个辐射束投射到目标上；围绕轴线旋转包括透镜的可移动框架；以及将可移动框架位移至远离与可移动框架的几何中心对应的轴线的轴线，并引起框架围绕通过框架的质心的轴线旋转。根据本专利技术的一个实施例，提供一种器件制造方法，包括步骤:将多个辐射束投射到目标上；围绕轴线旋转包括透镜的可移动框架；以及使用具有回转补偿前馈的控制回路控制可移动框架的倾斜。根据本专利技术的一个实施例，提供一种器件制造方法，包括步骤:将多个辐射束投射到目标上；围绕轴线并相对于相对于框架基本上静止的一部分旋转包括透镜的可移动框架；以及吸收可移动地连接至所述一部分的反作用质量中的致动器反作用力，所述反作用质量具有用于定位框架的致动器的一部分。根据本专利技术的一个实施例，提供一种器件制造方法，包括步骤:将多个辐射束投射到目标上；使用致动器系统围绕轴线旋转包括透镜的可移动框架，该致动器系统包括围绕所述轴线的至少两个电动机；和使用多个传感器测量框架，多个传感器中的每一个位于将两个相邻电动机的角位置基本上二等分的角位置处。根据本专利技术的一个实施例，提供一种器件制造方法，包括步骤:将多个辐射束投射到目标上；使用致动器系统围绕轴线旋转包括透镜的可移动框架，该致动器系统包括围绕所述轴线的第一组至少两个电动机和围绕所述轴线并且在第一组之下的第二组至少两个电动机，其中第二组围绕轴线相对于第一组旋转。根据本专利技术的一个实施例，提供一种器件制造方法，包括步骤:将多个辐射束投射到目标上；使用致动器系统围绕轴线旋转包括透镜的可移动框架；以及使用传感器系统在基本上切向方向上测量框架。根据本专利技术的一个实施例，提供一种器件制造方法，包括步骤:将多个辐射束投射到目标上；使用致动器系统围绕轴线旋转可移动框架；以及调节框架的位置以至少部分地补偿框架的不平衡或另一可移动框架的不平衡。根据本专利技术的一个实施例，提供一种器件制造方法，包括步骤:将多个辐射束投射到目标上；使用致动器系统围绕轴线旋转可移动框架；以及调节至少一个辐射束的特性，以至少部分补偿框架的不平衡或施加至框架的不平衡。【附图说明】将参照示意的附图仅通过示例描述本专利技术的实施例，在附图中相同的参考标记表示相同的元件，并且在附图中:图1显示根据本专利技术的实施例的光刻或曝光设备的一部分；图2显示根据本专利技术的实施例的图1的光刻或曝光设备的一部分的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光设备，包括：投射系统，所述投射系统配置将多个辐射束投射到目标上；可移动框架，所述可移动框架至少能够围绕轴线旋转；致动器系统，用以使可移动框架旋转；和控制器，用以调节可移动框架的位置，以至少部分地补偿可移动框架的不平衡或另一可移动框架的不平衡。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.12.27 US 61/580,417;2012.02.29 US 61/605,022;1.一种曝光设备，包括: 投射系统，所述投射系统配置将多个辐射束投射到目标上； 可移动框架，所述可移动框架至少能够围绕轴线旋转； 致动器系统，用以使可移动框架旋转；和 控制器，用以调节可移动框架的位置，以至少部分地补偿可移动框架的不平衡或另一可移动框架的不平衡。2.根据权利要求1所述的曝光设备，包括多个可移动框架，每一个所述可移动框架至少能够围绕轴线旋转并且被公共框架支撑，其中所述另一可移动框架是所述多个可移动框架中的一个。3.根据权利要求2所述的曝光设备，其中所述控制器配置成调节可移动框架的位置，使得可移动框架施加在公共框架上的力与通过所述另一可移动框架作用在公共框架上的力结合而导致有效地抵消这些力。4.根据权利要求1-3中任一项所述的曝光设备，其中所述可移动框架的位置的调节包括所述可移动框架的相位角的改变。5.根据权利要求4所述的曝光设备，其中相位角的改变包括相位角从所述可移动框架的多个透镜中的一个透镜的角位置至所述可移动框架的所述多个透镜中的另一个透镜的角位置的改变。6.根据权利要求1-5中任一项所述的曝光设备，还包括测量系统，所述测量系统配置成测量至少一个可移动框架的不平衡。7.根据权利要求6所述的曝光设备，其中所述测量系统配置成获得所述至少一个可移动框架在被干扰时在与其旋转频率不同的频率下的第一测量信号，并且将所述第一测量信号与所述至少一个可移动框架在其旋转频率下的第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：H·巴特勒，A·布里克，P·亨纳斯，M·胡克斯，S·A·J·霍尔，H·范德斯库特，B·斯拉格海克，P·蒂纳曼斯，M·范德威吉斯特，K·扎尔，T·P·M·卡迪，R·比尔恩斯，O·菲思克尔，W·安吉内恩特，N·J·M·博施，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL