感光性树脂组合物及其应用制造技术

技术编号:10405422 阅读:125 留言:0更新日期:2014-09-10 14:27
本发明专利技术是有关一种感光性树脂组合物及其应用,所述感光性树脂组合物包含:碱可溶性树脂(A);含乙烯性不饱和基的化合物(B);光起始剂(C);及溶剂(D);该含乙烯性不饱和基的化合物(B)包含二恶烷类不饱和化合物(B-1)及下述结构式(2)所示的异氰脲酸酯类不饱和化合物(B-2)。其具有耐高温及耐高湿性的优点。本发明专利技术还提供一种于基板上形成薄膜的方法、一种基板上的薄膜及一种装置。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术是有关一种感光性树脂组合物及其应用,所述感光性树脂组合物包含:碱可溶性树脂(A);含乙烯性不饱和基的化合物(B);光起始剂(C);及溶剂(D);该含乙烯性不饱和基的化合物(B)包含二恶烷类不饱和化合物(B-1)及下述结构式(2)所示的异氰脲酸酯类不饱和化合物(B-2)。其具有耐高温及耐高湿性的优点。本专利技术还提供一种于基板上形成薄膜的方法、一种基板上的薄膜及一种装置。【专利说明】感光性树脂组合物及其应用
本专利技术有关一种感光性树脂组合物及使用该组合物所形成的薄膜及装置。特别是提供一种所得产品具耐高温及耐高湿性的感光性树脂组合物及其应用。
技术介绍
在制造液晶显示元件的领域中,于基板上形成一保护膜为重要的技术。当制造如液晶显示元件或固态成像装置等的光学元件时,需在严苛条件下进行处理程序,例如在基板表面以酸性溶液或碱性溶液浸泡,或以溅镀(Sputtering)形成配线电极层时产生局部高温。因此,需在这些元件的表面上铺设保护膜,以防止制造时元件受损。现今,该保护膜通常都以感光性树脂组合物经涂布、曝光、显影等工序而形成于基板上。为使该保护膜具有抵御上述严苛条件处理的特性,该保护膜除需具有高透明度、表面硬度及平滑性的基本特性外,还需要与基板间具有优异的附着力,更重要的,该保护膜需具有良好的耐水性、耐溶剂性、耐酸性、耐碱性等特性。于前述特性中,由于该保护膜是形成于彩色滤光片或是基板上,对透明度的要求极高,若保护膜的透明度不佳,当应用于液晶显示元件时,将造成液晶显示元件的亮度不足,而影响液晶显示元件的显示品质。为提高保护膜的透明度,日本专利特开2010-054561号公开一保护膜用的感光组合物,其包含(A)碱可溶性粘结树脂;(B)乙烯性不饱和基的化合物;(C)光起始剂;及(D)溶剂;其中该(B)乙烯性不饱和基的化合物中不饱和键的结合当量为介于90至450g/eq,且(B)乙烯性不饱和基的化合物中,单一化合物的不饱和双键为介于2至4个之间,及该(A)碱可溶性粘结树脂的重量平均分子量为介于10,000至20,000间。另一方面,日本专利特开2004-240241号公开一感光组合物,其包含(A)共聚合物,该共聚物由乙烯性不饱合羧酸(酐)、具环氧基的乙烯性不饱合基的化合物及其他乙烯性不饱合基的化合物所共聚合而得;⑶乙烯性不饱合基的聚合物 '及(C)光起始剂,其为2- 丁二酮--2-(0_肟醋酸盐)、1,2_ 丁二酮-1-(4-吗啉基苯基)-2-(0-苯甲酰肟)、1,2-辛二酮-1--2-或其类似物。然而这些感光性组合物虽可制得高透明性的保护膜,但却有耐高温及耐高湿性不佳的缺点。因此,如何同时达到目前业界对高透明性及耐高温及耐高湿性佳的要求,为本专利技术所属
中努力研究的目标。
技术实现思路
本专利技术利用提供特殊含乙烯性不饱和基的化合物及光起始剂的成分,而得到透明性、耐高温及耐高湿性俱佳的感光性树脂组合物。因此,本专利技术提供一种感光性树脂组合物,其包含:碱可溶性树脂㈧;含乙烯性不饱和基的化合物⑶;光起始剂(C);及溶剂(D);其中,该含乙烯性不饱和基的化合物(B)包含二恶烷类不饱和化合物(B-1)及下述结构式(2)所示的异氰脲酸酯类不饱和化合物(B-2),且该二恶烷类不饱和化合物(B-1)与该异氰脲酸酯类不饱和化合物(B-2)的使用量重量比(Β-1)/(Β-2)自0.05至15 ;其中,该二恶烷类不饱和化合物(B-1)包含如下结构式(1-1)所示的具1,3_二恶烷(d1xane)骨架的二恶烷类不饱和化合物及/或如下结构式(1-2)所示的具1,3_ 二恶戊烷(d1xolane)骨架的二恶烷类不饱和化合物:【权利要求】1.一种感光性树脂组合物,其包含: 碱可溶性树脂(A); 含乙烯性不饱和基的化合物(B); 光起始剂(C) '及 溶剂⑶; 其中,该含乙烯性不饱和基的化合物(B)包含二恶烷类不饱和化合物(B-1)及下述结构式(2)所示的异氰脲酸酯类不饱和化合物(B-2),且该二恶烷类不饱和化合物(B-1)与该异氰脲酸酯类不饱和化合物(B-2)的使用量重量比(Β-1)/(Β-2)自0.05至15 ;其中,该二恶烷类不饱和化合物(B-1)包含如下结构式(1-1)所示的具1,3-二恶烷骨架的二恶烷类不饱和化合物及/或如下结构式(1-2)所示的具1,3-二恶戊烷骨架的二恶烷类不饱和化合物: 2.根据权利要求1的感光性树脂组合物,其中,该碱可溶性树脂(A)包含碱可溶性树脂(A-1),该碱可溶性树脂(A-1)是由不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(al)、含环氧基的不饱和化合物(a2)及/或其他不饱和化合物(a3)所共聚合而得。3.根据权利要求1的感光性树脂组合物,其中,该光起始剂(C)包含O-酰基肟类化合物(C-1)。4.根据权利要求3的感光性树脂组合物,其中,该O-酰基肟类化合物(C-1)包含由下述结构式(3)所示的硫代O-酰基肟类化合物(C-1-1): 5.根据权利要求1的感光性树脂组合物,其中,基于该碱可溶性树脂(A)的使用量为100重量份,该含乙烯性不饱和基的化合物(B)的使用量为20至150重量份;该二恶烷类不饱和化合物(B-1)的使用量为10至140重量份;该异氰脲酸酯类不饱和化合物(B-2)的使用量为10至140重量份;该溶剂(D)的使用量为500至2000重量份。6.根据权利要求1的感光性树脂组合物,其中,基于该含乙烯性不饱和基的化合物(B)的使用量为100重量份,该光起始剂(C)的使用量为I至15重量份。7.根据权利要求3的感光性树脂组合物,其中,基于该含乙烯性不饱和基的化合物(B)的使用量为100重量份,该O-酰基肟类化合物(C-1)的使用量为I至12重量份。8.根据权利要求4的感光性树脂组合物,其中,基于该含乙烯性不饱和基的化合物(B)的使用量为100重量份,该硫代O-酰基肟类化合物(C-1-1)的使用量为I至10重量份。9.一种于基板上形成薄膜的方法,其包含使用根据权利要求1至8中任一项的感光性树脂组合物施予该基板上。10.一种基板上的薄膜,其由权利要求9的方法所制得。11.根据权利要求10的薄膜,其为液晶显示元件或有机电激发光显示器中基板用的平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材的保护膜。12.一种装置,其包含权利要求10或11的薄膜。【文档编号】G03F7/004GK104035277SQ201410076502【公开日】2014年9月10日 申请日期:2014年3月4日 优先权日:2013年3月6日【专利技术者】蔡宇杰 申请人:奇美实业股份有限公司本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种感光性树脂组合物,其包含:碱可溶性树脂(A);含乙烯性不饱和基的化合物(B);光起始剂(C);及溶剂(D);其中,该含乙烯性不饱和基的化合物(B)包含二恶烷类不饱和化合物(B‑1)及下述结构式(2)所示的异氰脲酸酯类不饱和化合物(B‑2),且该二恶烷类不饱和化合物(B‑1)与该异氰脲酸酯类不饱和化合物(B‑2)的使用量重量比(B‑1)/(B‑2)自0.05至15;其中,该二恶烷类不饱和化合物(B‑1)包含如下结构式(1‑1)所示的具1,3‑二恶烷骨架的二恶烷类不饱和化合物及/或如下结构式(1‑2)所示的具1,3‑二恶戊烷骨架的二恶烷类不饱和化合物:其中:结构式(1‑1)中,R1至R8各自独立代表氢原子或烃基,且R1至R8中至少一个在其端部包含乙烯性不饱和基作为取代基;结构式(1‑2)中,R1至R6各自独立代表氢原子或烃基,且R1至R6中至少一个在其端部包含乙烯性不饱和基作为取代基;其中:X1、X2及X3各自独立代表氢原子、(甲基)丙烯酰基或具有1至20个碳原子的烃基;且X1、X2及X3中至少两个为(甲基)丙烯酰基;及R9、R10及R11各自独立代表氧亚烷基。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:蔡宇杰
申请(专利权)人:奇美实业股份有限公司
类型:发明
国别省市:中国台湾;71

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