压力掩蔽系统及其使用方法技术方案

本发明专利技术公开了一种压力掩蔽系统及其使用方法，所述方法是对制品的包括一个或多个通路的目标表面进行压力清洁或压力涂布的方法，所述方法包括：使包括加压掩蔽流体的压力掩蔽体与至少一个通路的第一侧流体连通；使得所述加压掩蔽流体从所述第一侧穿过所述至少一个通路到达包括所述目标表面的第二侧；以及使用清洁材料清洁所述目标表面(或使用涂布材料涂布所述目标表面)，其中穿过所述至少一个通路的所述加压掩蔽流体防止所述清洁材料(或涂布材料)永久地改变所述至少一个通路的截面面积。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本说明书所公开主题的实施例涉及掩蔽系统(masking systems)。其他实施例涉及用于清洁带有通路的制品或用于涂布带有通路的制品的压力掩蔽系统。
技术介绍
在燃气涡轮发动机(例如像飞机发动机)中，空气被吸入到发动机的前部、由安装有轴的旋转型压缩机压缩，并与燃料混合。使混合物燃烧，并且使得热废气穿过安装在轴上的涡轮机。气体流转动涡轮机，所述涡轮机转动轴并驱动压缩机和风扇。热废气从发动机后方流动，从而驱动发动机和飞机向前。在燃气涡轮发动机的运行过程中，燃烧气体温度可以超过3000° F(约1650°C )，大大高于发动机的接触这些气体的金属零件的熔融温度。这些发动机的在高于金属零件熔融温度的气体温度下的运行是众所周知的技术，并且部分取决于通过各种方法将冷却空气供应到金属零件的外表面。这些发动机的尤其受到高温影响并因此要求尤其注意冷却的金属零件就是形成燃烧器的金属零件以及位于燃烧器的后部上的零件。金属温度可以通过使用通路诸如并入一些发动机部件中的冷却孔来维持低于熔融水平。有时，热障涂层(“TBC”)还可通过压力涂布工艺(例如，热喷涂工艺)来涂敷到部件。然而，热喷涂工艺和其他清洁工艺(例如，喷砂、喷丸、喷水洗涤)通常导致过度喷涂，所述过度喷涂部分或完全地阻塞部件的冷却孔。 因此，当前涂布(例如，热喷涂)工艺和清洁工艺涉及一种多步骤的高度劳动密集工艺:涂敷TBC涂层的部分层；允许部件和TBC充分冷却到部件能够很容易进行处理的温度；从上面发生热喷涂的应用夹具上除去部件；以及除去任何掩蔽件，随后接着使用喷水或其他清洁方法从冷却孔单独地除去充分冷却的凝固涂层。为了防止冷却孔变得阻塞超过它们能够进行令人满意的清洁的水平，在清洁前，仅仅涂敷期望TBC厚度的一部分。因此，整个工艺通常必须重复若干次，直至达到期望TBC厚度。这种复杂工艺导致低生产率、高周期时间，并且使得成本是将同一种TBC涂敷到类似无孔零件的成本的五到十倍。甚至在并未涂敷涂层时，用于清洁制品的目标表面的压力清洁方法可类似地使制品的冷却孔溢流并且阻塞。因此，替代压力掩蔽系统将是本领域中受欢迎的。
技术实现思路
本专利技术的一个实施例涉及一种对制品的包括一个或多个通路的目标表面进行压力清洁或压力涂布的方法。所述方法包括将包括加压掩蔽流体的压力掩蔽体(pressuremasker)流体地连接到至少一个通路的第一侧，并且使得所述加压掩蔽流体从所述第一侧到包括目标表面的第二侧穿过至少一个通路。所述方法进一步地包括通过分别将清洁材料或涂布材料投向目标表面来清洁目标表面或涂布目标表面。穿过所述至少一个通路的加压掩蔽流体防止清洁材料或涂布材料(如果适用的话)永久地改变所述至少一个通路的截面面积。本专利技术另一实施例涉及一种用于清洁或涂布制品的包括通路的目标表面的加压掩蔽系统。所述加压掩蔽系统包括压力掩蔽体，所述压力掩蔽体构造用于流体地连接到制品的至少一个通路的第一侧，并且使得加压掩蔽流体从第一侧到第二侧穿过所述通路。所述第二侧包括目标表面。所述系统进一步地包括构造用于将清洁材料投向目标表面的零件清洁器、或者构造用于将涂布材料投向目标表面的零件涂布器。加压掩蔽流体分别防止清洁材料或涂布材料永久地改变至少一个通路的截面面积。在本专利技术另一实施例中，公开一种对制品的包括一个或多个通路的目标表面进行压力清洁的方法。所述方法包括:将包括加压掩蔽流体的压力掩蔽体流体地连接到至少一个通路的第一侧；使得加压掩蔽流体从第一侧到包括目标表面的第二侧穿过至少一个通路；以及使用清洁材料清洁目标表面，其中穿过至少一个通路的加压掩蔽流体防止清洁材料永久地改变至少一个通路的截面面积。在本专利技术另一实施例中，公开一种用于清洁制品的包括通路的目标表面的加压掩蔽系统。所述加压掩蔽系统包括压力掩蔽体，所述压力掩蔽体流体地连接到制品的至少一个通路的第一侧，并且使得加压掩蔽流体从第一侧到第二侧穿过所述通路，其中所述第二侧包括目标表面。加压掩蔽系统进一步包括将清洁材料投向目标表面的零件清洁器，其中加压掩蔽流体防止清洁材料永久地改变至少一个通路的截面面积。在本专利技术另一实施例中，公开一种对制品的包括一个或多个通路的目标表面进行压力涂布的方法。所述方法包括:将包括加压掩蔽流体的压力掩蔽体流体地连接到至少一个通路的第一侧；使得加压掩蔽流体从第一侧到包括目标表面的第二侧穿过至少一个通路；以及使用涂布材料涂布目标表面，其中穿过至少一个通路的加压掩蔽流体防止涂布材料永久地改变至少一个通路的截面面积。在本专利技术另一实施例中，公开一种用于涂布制品的包括通路的目标表面的加压掩蔽系统。所述加压掩蔽系统包括压力掩蔽体，所述压力掩蔽体流体地连接到制品的至少一个通路的第一侧，并且使得加压掩蔽流体从第一侧到第二侧穿过所述通路，其中所述第二侧包括目标表面。加压掩蔽系统进一步包括将涂布材料投向目标表面的零件涂布器，其中加压掩蔽流体防止涂布材料永久地改变至少一个通路的截面面积。结合附图阅读以下详细描述，将会更完整地了解本说明书中讨论的实施例所提供的这些和另外特征。【附图说明】在附图中阐述的实施例实质是说明性的并且是示例性的，而非旨在限制由权利要求书限定的本专利技术。当结合附图阅读时，将更好地了解所示实施例的以下详细描述，其中相似结构采用相似参考数字指示，在附图中:图1是根据本说明书示出或描述的一个或多个实施例的压力掩蔽系统的示意图；图2是根据本说明书示出或描述的一个或多个实施例的压力掩蔽系统的透视图；图3是根据本说明书示出或描述的一个或多个实施例的另一压力掩蔽系统的透视图； 图4是根据本说明书示出或描述的一个或多个实施例的说明使用压力掩蔽系统对制品进行压力清洁的方法的流程图；图5是根据本说明书示出或描述的一个或多个实施例的说明压力掩蔽系统的示意图；图6是根据本说明书示出或描述的一个或多个实施例的压力掩蔽系统的透视图；图7是根据本说明书示出或描述的一个或多个实施例的另一压力掩蔽系统的透视图；以及，图8是根据本说明书示出或描述的一个或多个实施例的说明使用压力掩蔽系统对制品进行压力涂布的方法的流程图。【具体实施方式】下文将对本专利技术的一个或多个特有实施例进行描述。为了提供针对这些实施例的简要描述，可能不会在本说明书中描述实际实现方案中的所有特征。应当了解，在任何工程或设计项目中开发任何此类实际实现方案时，均应当做出与实现方案特定相关的各种决定，以实现开发人员的特定目标，例如，是否要遵守与系统相关以及与业务相关的限制，这些限制可能会因实现方案的不同而有所不同。此外，应当了解，此类开发可能复杂而且耗时，但无论如何对受益于本专利技术的一般技术人员而言，此类开发仍是常规的设计、建造和制造操作。介绍本专利技术的各种实施例的元件时，冠词“一(a)”、“一个(an)”、“该(the)”以及“所述(said)”旨在表示存在一个或多个元件。术语“包括(comprising) ”、“包括(including) ”以及“具有 ”旨在表示包括性的含义，并且表示除了所列元件之外，可能还有其他元件。本说明书所公开的压力掩蔽系统一般来说包括压力掩蔽体(pressure masker),以及用于清洁包括通路的制品的目标表面的零件清洁器、或用于涂布包括通路的制品的目标表面的零件涂布器。当零本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种对制品的包括一个或多个通路的目标表面进行压力清洁或压力涂布的方法，所述方法包括：使包括加压掩蔽流体的压力掩蔽体与至少一个通路的第一侧流体连通；使得所述加压掩蔽流体从所述第一侧穿过所述至少一个通路到达包括所述目标表面的第二侧；以及，通过分别将清洁材料或涂布材料投向所述目标表面来清洁所述目标表面或涂布所述目标表面，其中穿过所述至少一个通路的所述加压掩蔽流体防止所述清洁材料或所述涂布材料，如果适用的话，永久地改变所述至少一个通路的截面面积。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.12.29 US 13/339,449;2011.12.29 US 13/339,4681.一种对制品的包括一个或多个通路的目标表面进行压力清洁或压力涂布的方法，所述方法包括: 使包括加压掩蔽流体的压力掩蔽体与至少一个通路的第一侧流体连通； 使得所述加压掩蔽流体从所述第一侧穿过所述至少一个通路到达包括所述目标表面的第二侧；以及， 通过分别将清洁材料或涂布材料投向所述目标表面来清洁所述目标表面或涂布所述目标表面，其中穿过所述至少一个通路的所述加压掩蔽流体防止所述清洁材料或所述涂布材料，如果适用的话，永久地改变所述至少一个通路的截面面积。2.如权利要求1所述的方法，其中流体连接件包括多出口歧管连接件，所述多出口歧管连接件连接到所述第一侧并且包括内部通道，其中所述内部通道接收所述加压掩蔽流体并将所述加压掩蔽流体流体地分布到一个或多个通路。3.如权利要求1所述的方法，其中所述加压掩蔽流体包括氮或另一气体。4.如权利要求3所述的方法，其中所述气体包括氮。5.如权利要求3所述的方法，其中所述方法包括通过将所述清洁材料投向所述目标表面来清洁所述目标表面，并且其中喷砂器或喷丸装置使用所述清洁材料清洁所述目标表面。6.如权利要求1所 述的方法，其中所述通路包括冷却孔。7.如权利要求1所述的方法，其中所述加压掩蔽流体包括液体。8.如权利要求7所述的方法，其中所述液体包括磨料。9.如权利要求7所述的方法，其中所述方法包括通过将所述清洁材料投向所述目标表面来清洁所述目标表面，并且其中喷水装置使用所述清洁材料清洁所述目标表面。10.如权利要求1所述的方法，其中所述方法包括通过将所述清洁材料投向所述目标表面来清洁所述目标表面，并且其中在所述目标表面清洁完成后，所述加压掩蔽流体继续穿过所述至少一个通路。11.如权利要求1所述的方法，其中所述方法包括通过将所述清洁材料投向所述目标表面来清洁所述目标表面，并且其中所述加压掩蔽流体在小于所述清洁材料的清洁压力的掩蔽压力下穿过所述至少一个通路。12.如权利要求1所述的方法，其中所述方法包括通过将所述涂布材料投向所述目标表面来涂布所述目标表面，并且其中所述涂布材料包括MCrAlY，并且其中M是Ni或Co。13.如权利要求1所述的方法，其中所述方法包括通过将所述涂布材料投向所述目标表面来涂布所述目标表面，并且其中所述涂布材料包括氧化钇稳定氧化锆。14.如权利要求1所述的方法，其中所述方法包括通过将所述涂布材料投向所述目标表面来涂布所述目标表面，并且其中热喷涂枪投射所述涂布材料以便涂布所述目标表面。15.如权利要求1所述的方法，其中所述方法包括通过将所述涂布材料投向所述目标表面来涂布所述目标表面，并且其中在所述目标表面涂布完成后，所述加压掩蔽流体继续穿过所述至少一个通路。16.如权利要求1所述的方法，其中所述方法包括通过将所述涂布材料投向所述目标表面来涂布所述目标表面，并且其中所述加压掩蔽流体在小于所述涂布材料的涂布压力的掩蔽压力下穿过所述至少一个通路。17.一种用于清洁或涂布制品的包括通路的目标表面的加压掩蔽系统，所述加压掩蔽系统包括: 压力掩蔽体，所述压力掩蔽体构造用于流体地连接到所述制品的至少一个通路的第一侦牝并且使得加压掩蔽流体从所述第一侧到第二侧穿过所述通路，其中所述第二侧包括所述目标表面；以及 构造用于将清洁材料投向所述目标表面的零件清洁器或者构造用于将涂布材料投向所述目标表面的零件涂布器中的一个，其中所述加压掩蔽流体防止所述清洁材料或所述涂布材料分别永久地改变所述至少一个通路的截面面积。18.如权利要求17所述的加压掩蔽系统，其中所述流体连接件包括多出口歧管连接件，所述多出口歧管连接件连接到所述制品的所述第一侧并且包括内部通道，其中所述内部通道接收所述加压掩蔽流体并将所述加压掩蔽流体流体地分布到一个或多个通路。19.如权利要求17所述的加压掩蔽系统，其中所述加压掩蔽流体包括气体。20.如权利要求19所述的加压掩蔽系统，其中所述加压掩蔽系统包括所述零件清洁器，并且其中所述零件清洁器包括喷砂器。21.如权利要求19所述的加压掩蔽系统，其中所述加压掩蔽系统包括所述零件清洁器，并且其中所述零件清洁器包括喷丸装置。22.如权利要求17所述的加压掩蔽系统，其中所述加压掩蔽流体包括液体。23.如权利要求22所述的加压掩蔽系统，其中所述液体包括磨料。24.如权利要求22所述的加压掩蔽系统，其中所述加压掩蔽系统包括所述零件清洁器，并且其中所述零件清洁器包括喷水装置。25.如权利要求17所述的加压掩蔽系统，其中所述加压掩蔽系统包括构造用于将所述清洁材料投向所述目标表面的所述零件清洁器，并且其中所述加压掩蔽流体在小于所述清洁材料的清洁压力的掩蔽压力下穿过所述至少一个通路。26.如权利要求17所述的加压掩蔽系统，其中所述目标表面包括热障涂层。27.如权利要求17所述的加压掩蔽系统，其中所述至少一个通路包括冷却孔。28.如权利要求17所述的加压掩蔽系统，其中所述加压掩蔽系统包括构造用于将所述涂布材料投向所述目标表面的所述零件涂布器，并且其中所述涂布材料包括MCrAlY，并且其中M是Ni或Co。29.如权利要求17所述的加压掩蔽系统，其中所述加压掩蔽系统包括构造用于将所述涂布材料投向所述目标表面的所述零件涂布器，并且其中所述涂布材料包括氧化钇稳定氧化锆。30.如权利要求17所述的加压掩蔽系统，其中所述加压掩蔽系统包括构造用于将所述涂布材料投向所述目标表面的所述零件涂布器，其中所述零件涂布器包括热喷涂枪。31.如权利要求17所述的加压掩蔽系统，其中所述加压掩蔽系统包括构造用于将所述涂布材料投向所述目标表面的所述零件涂布器，并且其中所述加压掩蔽流体在小于所述涂布材料的涂布压力的掩蔽压力下穿过所述至少一个通路。32.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：MC贝利诺，JM罗马斯，MP伯克比尔，ED雷耶斯，
申请(专利权)人：通用电气公司，
类型：发明
国别省市：美国;US