用于确定掩模图案的方法及信息处理装置制造方法及图纸

一种用于确定掩模图案的方法、记录介质及信息处理装置。通过使用信息处理装置来确定多个掩模的图案的方法，包括：获取关于包含多个图案元素的图案的数据；将所获取的多个图案元素分配到掩模中，将所获取的多个图案元素分解为所述掩模的图案，并且基于掩模的数量、每个掩模中的多个图案元素之间的距离以及连接每个掩模中的多个图案元素的线的角度来计算用于评价指数的评价值。在所述方法中，基于所计算出的评价值来确定每个掩模的图案。

【技术实现步骤摘要】
用于确定掩模图案的方法、记录介质及信息处理装置
本专利技术涉及一种用于确定掩模图案的方法、一种记录介质以及一种信息处理装置。
技术介绍
近年来，随着半导体器件的小型化的进展，已经难以通过使用曝光装置以高精度将所期望的图案转印到晶片上。这种情况的一个原因是减少的半间距，其为电路中所包括的图案之间的最短距离的一半。为了解决该问题，作为用于以高精度将例如22nm节点的微小图案转印到晶片上的技术，多次曝光构图已经引起关注。该技术用于将具有比曝光装置的分辨率极限的半间距更小的半间距的图案划分为多个掩模图案并且对它们进行曝光，以使用比在如过去那样曝光一次图案的情况更高的精度转印微小图案。多次曝光构图可能需要确定多个光刻友好掩模图案，据此可以改进例如聚焦深度的分辨性能并且可以改进良率。在美国专利申请公开N0.2007/31740的说明书以及美国专利申请公开N0.2010/223590的说明书中公开了用于确定这样的多个掩模图案的方法。美国专利申请公开N0.2007/31740的说明书公开了一种基于迭代方法来将分解规则应用于图案的方法。更具体地，所述方法包括:首先确定图案分解规则，基于所述规则来确定目标图案元素是属于第一掩模还是第二掩模，并且对于每个图案元素重复该操作。根据所述分解规则，图案是基于各图案之间的距离或图案的线宽度根据其是否严格的确定结果而分解。美国专利申请公开N0.2010/223590的说明书公开了一种用于通过假设用于光强度分布(有效光源分布)的两种类型的偶极子照明被形成在照射掩模的照射光学系统的光瞳平面上来确定用于执行曝光两次的多个掩模图案的方法。更具体地，该方法包括:分析X方向和y方向偶极子照明中的哪个照射适合于转印待分解的图案，并且确定两种类型的掩模图案。具有在y方向上延伸的纵向边沿的图案被确定为用于X方向偶极子照明的掩模图案，而具有在X方向上延伸的纵向边沿的图案被确定为用于y方向偶极子照明的掩模图案。在美国专利申请公开N0.2007/31740的说明书中，考虑图案的线宽度或各图案之间的距离但不考虑多个图案元素之间的角度来确定每个掩模图案。这产生具有一个掩模中所包括的不同角度的多个图案元素。当掩模受一个有效光源分布照射时，图案元素的分辨容易性可能变化，可能在分辨一些图案元素时有困难。根据美国专利申请公开N0.2010/223590的说明书，通过将图案元素的边沿的方向与偶极子照明的方向进行关联来划分掩模图案。然而，多个图案元素之间的相对位置关系(即多个图案元素之间的距离或角度)并未纳入考虑。这导致了在一个掩模中出现具有不同相对位置关系的多个图案元素。当掩模受一个有效光源分布照射时，图案元素的分辨容易性可能变化，可能在分辨一些图案元素时有困难。
技术实现思路
本专利技术的实施例确定在图案被分解为多个掩模图案时易于分辨的掩模图案。根据本专利技术的一方面，提供一种用于确定掩模图案的方法，其通过使用信息处理装置来确定用于多个掩模的图案，所述方法包括:获取关于包含多个图案元素的图案的数据；将所获取的多个图案元素分配到掩模中，将所获取的多个图案元素分解为所述掩模的图案，并且基于掩模的数量、每个掩模中的多个图案元素之间的距离以及连接每个掩模中的多个图案元素的线的角度来计算用于评价指标的评价值，其中，基于所计算出的评价值来确定每个掩模的图案。根据参照附图对示例性实施例的以下描述，本专利技术的其它特征将变得清楚。【附图说明】图1示出用于确定掩模图案的方法的流程图。图2A至图2C是用于解释一维布局技术的图。图3是用于解释待分解的切割图案的图。图4A和图4B是用于解释冲突图的图。图5示出各图案元素之间的距离和角度。图6A示出关于距离的评价值，图6B示出关于距离的评价值。图7A示出通过传统方法所分解的掩模图案，图7B示出根据本专利技术所分解的掩模图案。图8示出有效光源分布的参数。图9A示出通过传统方法所优化的有效光源分布，图9B示出根据本专利技术所优化的有效光源分布。【具体实施方式】实施例涉及可用于制造例如半导体集成电路、液晶面板、LED和图像传感器的器件的光刻技术，具体地说，其可以可能地用在形成用于多次曝光(如两次曝光)的掩模的图案并且确定曝光照射条件的处理中。图1是示出用于确定掩模图案的方法(下文中又称为图案确定方法)的流程图。通过计算机中的处理单元(如CPU或MPU)读取并且执行程序来实施该方法。实施该实施例的功能的软件或程序经过网络或通过记录介质提供给包括一个或多个计算机的信息处理装置。信息处理装置中的处理单元读取记录介质或存储介质中所记录或存储的程序以执行该程序。在远程位置处所提供的多个计算机可以通过有线或无线通信来相互交换数据，以执行程序的处理。首先，在步骤SlOl中，计算机中的处理单元获取关于待分解的图案的数据。该数据可以从数据输入设备输入，或可以从外部计算机或记录介质输入。该数据可以存储在计算机中的存储单元中，或可以对于每次使用而从存储单元读取并且获取。在该实施例中，根据一维布局技术的切割图案被应用为待分解的图案的示例。图2A示出在晶片上所形成的线和空间图案。术语“一维布局技术”是指通过凭借使用图2B中的黑色框内的孔洞图案和上下线来切割图2A所示的线和空间图案的线图案部分(黑色部分)来处理它以获取如图2C中的目标图案的技术。术语“切割图案”下文中是指图2B中的五个黑色框所表示的孔洞图案。一维布局技术中也包括通过以点图案进行填充来处理线和空间图案的空间部分的技术。根据该实施例，图3所示的切割图案用作待分解的图案。图3中以黑色着色的每个部分与切割图案的图案元素对应，并且是边23nm的正方形。例如，待分解的图案可以提供为多边形坐标数组。接下来，在步骤S102中，在约束条件下通过使用图论以冲突图来表示图案。例如，定义图4A所示的预定距离 401。如果图案元素的各中心位置之间的距离等于或小于所述预定距离，则这意味着存在掩模图案应相互不同的约束条件。图4A中的正方形的黑色框中的每一个表示图案元素，虚线表示把图案元素的中心位置作为其中心并且把距离401作为其半径的圆形。该条件具体地由图4B所示的冲突图表示。图案元素由点(顶点)402表示，并且具有等于或小于预定距离的距离的图案元素通过线段(边沿)403连接。线段403所连接的两端应通过不同掩模编号(颜色)着色。确定掩模编号(分解级别的编号)以及用于每个掩模的图案的问题也可以被称为着色问题，这是因为其特征在于图案元素以不同的颜色着色。下文中，掩模编号可以定义为颜色编号，并且可以通过使用不同着色的表示来描述确定掩模编号和每个掩模的图案的处理。接下来，在步骤S103中，分析并且获取在步骤S102中所获取的图案中所包括的各图案元素之间的距离。在步骤S104中，分析并且获取连接在步骤S102中所获取的图案中所包括的图案元素的线的角度。在步骤S105中，计算条件(如约束条件和边界条件)以及变量被公式化并且定义为混合整数规划问题。在步骤S106中，代价函数被定义为混合整数规划问题。以下将详细描述约束条件、边界条件、变量和代价函数。接下来，在步骤S107中，这些条件、变量和代价函数用于求解混合整数规划问题，多个图案元素被分配给掩模。对所述多个图案元素进行不同着色以确定掩模的图案。关于所确定本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于通过使用信息处理装置来确定用于多个掩模的图案的方法，所述方法包括：获取关于包含多个图案元素的图案的数据；以及将所获取的多个图案元素分配到掩模中，将所获取的多个图案元素分解为所述掩模的图案，并且基于掩模的数量、每个掩模中的多个图案元素之间的距离、以及连接每个掩模中的多个图案元素的线的角度来计算用于评价指标的评价值，其中，基于所计算出的评价值来确定每个掩模的图案。

【技术特征摘要】
2013.02.22 JP 2013-0335091.一种用于通过使用信息处理装置来确定用于多个掩模的图案的方法，所述方法包括: 获取关于包含多个图案元素的图案的数据；以及 将所获取的多个图案元素分配到掩模中，将所获取的多个图案元素分解为所述掩模的图案，并且基于掩模的数量、每个掩模中的多个图案元素之间的距离、以及连接每个掩模中的多个图案元素的线的角度来计算用于评价指标的评价值， 其中，基于所计算出的评价值来确定每个掩模的图案。2.如权利要求1所述的方法，其中，所述评价指标具有由连接掩模中的多个图案元素的线的角度与预定角度之间的差定义的项。3.如权利要求2所述的方法，其中，所述项具有随着连接掩模中的多个图案元素的线的角度与所述预定角度之间的差从O度增大并且接近90度而变坏的评价指标的评价值。4.如权利要求2所述的方法，其中，所述预定角度具有在各掩模之间不同地设置的值。5.如权利要求1所述的方法，其中，所述评价指标还包含由多个图案元素之间的最小距离定义的项。6.如权利要求1所述的方法，其中，通过将所述评价指标定义为代价函数并且将每个掩模中的多个图案元素之间的距离和用于连接多个图案元素的线的角度的约束条件定义为混合整数规划问题，来用混合整数规划确定每...

【专利技术属性】
技术研发人员：中山谅，行田裕一，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP