降低通气噪声的结构及立式氧化炉制造技术

本实用新型专利技术一种降低通气噪声的结构，用于降低供气管路向立式氧化炉通气时的噪声，其包括具有气体缓冲腔的内壳，该气体缓冲腔包括进气缓冲腔和反向出气缓冲腔，进气缓冲腔与反向出气缓冲腔之间具有相互连通的通道，供气管路与进气缓冲腔相连通，其中，反向出气缓冲腔的出气方向与进气缓冲腔的进气方向相反。该降低通气噪声的结构能有效地降低供气管路向立式氧化炉通入气体时所产生的噪声，并具有制造简单，成本低和适用性广等优点。此外，本实用新型专利技术还提供了一种采用上述降低通气噪声的结构的立式氧化炉，其在供气管路末端增加上述一种降低通气噪声的结构，能有效降低噪声，消除噪声对周围环境和人体的伤害，营造一个良好的工作环境。

【技术实现步骤摘要】
降低通气噪声的结构及立式氧化炉
本技术涉及一种降噪结构，具体涉及一种降低通气噪声的结构及使用该降低通气噪声的结构的立式氧化炉。
技术介绍
在半导体集成电路制造中，对硅片的加工处理特别是氧化处理是非常重要的一个环节，比如，以热氧化生长的方式在硅片上生成二氧化硅，用于Gate Oxide (栅氧化)，Pad Oxide (垫层氧化)，Sac Oxide (牺牲氧化)或Field Oxide (场氧化)，也可以用作Anneal (退火)和Well Drive (阱驱动)等工艺。目前，立式氧化炉已取代卧式氧化炉硅片成为主要的氧化处理设备，其具有控温精度高、可靠性好及适用于集成电路尤其是大规模集成电路制造过程中各种氧化、退火和薄膜生长等工艺的优点。在立式氧化炉的使用过程中，为避免外界大气对氧化工艺的影响需要通过风循环系统对立式氧化炉内的微环境注入大量的N2,以排出微环境内的其他气体，形成一个富N2环境。而风循环系统中的N2是通过供气管路一端直接连接到位于立式氧化炉内的风循环管路来进行输送的，在供气管路的另一端连接有源源不断生产N2的设备，其中，在供气管道与立式氧化炉间还具有N2流量计以控制向风循环管路输送N2的量。现有技术中，由于供气管路的直径(约6毫米)较小，气体流量较大，在N2由供气管路直接进入到风循环管路(直径600mm)时，也即类似于气体直接通入到相对封闭的大空间中，气体前后的压力发生巨大变化，导致其流动状态剧烈改变，会产生明显噪声的问题，进而对周围环境和人体造成伤害。为此，如何提供一种降低通气噪声的结构及使用该降低通气噪声的结构的立式氧化炉，以有效地降低通入气体时产生的噪声，消除噪声对周围环境和人体的伤害，营造一个良好的工作环境是目前业界亟需解决的问题之一。
技术实现思路
本技术的目的为，针对上述问题，提出了一种降低通气噪声的结构及立式氧化炉，其能有效地降低通入气体时产生的噪声，消除噪声对周围环境和人体的伤害，营造一个良好的工作环境。为实现上述目的，本技术一种降低通气噪声的结构，用于降低供气管路向立式氧化炉通气时的噪声，其具有气体缓冲腔的内壳，所述气体缓冲腔包括进气缓冲腔和反向出气缓冲腔，所述进气缓冲腔与所述反向出气缓冲腔之间具有相互连通的通道，所述供气管路与所述进气缓冲腔相连通，其中，所述反向出气缓冲腔的出气方向与所述进气缓冲腔的进气方向相反。在优选或可选的实施例中，还包括与所述内壳外部具有一定空间距离的外壳体，其中，所述内壳和外壳体具有一个或多个接触面。在优选或可选的实施例中，至少一个所述接触面上包括至少一个第一出气孔。在优选或可选的实施例中，所述第一出气孔的形状为圆形、椭圆形或矩形中的一种或多种。在优选或可选的实施例中，所述第一出气孔的形状为圆形，其直径为I?3mm。在优选或可选的实施例中，所述内壳和外壳体间具有一个或多个密闭的隔离腔，其中所述隔离腔内填充有空气。在优选或可选的实施例中，所述内壳的外侧壁和/或外壳体的内侧壁上还附有隔音材料。在优选或可选的实施例中，位于所述进气缓冲腔内的所述供气管路的管壁上具有至少一个第二出气孔，其中，所述供气管路末端端口开启或闭合，所述第二出气孔的形状为圆形、椭圆形或矩形中的一种或多种。在优选或可选的实施例中，所述第二出气孔的形状为圆形，其直径为0.5?2_。在优选或可选的实施例中，位于所述反向出气缓冲腔一侧的所述通道的端口处还连接有一反向出气管。在优选或可选的实施例中，所述反向出气管的管壁上具有至少一个第三出气孔，其中，所述反向出气管末端端口开启或闭合，所述第三出气孔的形状为圆形、椭圆形或矩形中的一种或多种。在优选或可选的实施例中，所述第三出气孔的形状为圆形，其直径为0.5?2_。此外，本技术还提供了一种立式氧化炉，其在供气管路的末端包括上述所说的一种降低通气噪声的结构。从上述技术方案可以看出，本技术一种降低通气噪声的结构，用于降低供气管路向立式氧化炉通气时的噪声，其包括具有气体缓冲腔的内壳，该气体缓冲腔包括进气缓冲腔和反向出气缓冲腔，进气缓冲腔与反向出气缓冲腔之间具有相互连通的通道，供气管路与进气缓冲腔相连通，其中，反向出气缓冲腔的出气方向与进气缓冲腔的进气方向相反。该降低通气噪声的结构能有效地降低供气管路向立式氧化炉通入气体时所产生的噪声，并具有制造简单，成本低和适用性广等优点。此外本技术还提供了一种采用上述降低通气噪声的结构的立式氧化炉，其在供气管路末端增加上述一种降低通气噪声的结构，能有效降低噪声，消除噪声对周围环境和人体的伤害，营造一个良好的工作环境。【附图说明】为能更清楚理解本技术的目的、特点和优点，以下将结合附图对本技术的较佳实施例进行详细描述，其中:图1为本技术一【具体实施方式】的降低通气噪声的结构的整体示意图；图2为本技术一【具体实施方式】的降低通气噪声的结构的剖面示意图；图3为本技术一【具体实施方式】的降低通气噪声的结构的内部解剖示意图。【具体实施方式】体现本技术特征与优点的一些典型实施例将在后段的说明中详细叙述。应理解的是本技术能够在不同的示例上具有各种的变化，其皆不脱离本技术的范围，且其中的说明及图示在本质上当作说明之用，而非用以限制本技术。上述及其它技术特征和有益效果，将结合附图1-3对本技术降低通气噪声的结构及立式氧化炉的一较佳实施例进行详细说明。以下将具体说明本技术一种降低通气噪声的结构及立式氧化炉，其中该降低通气噪声的结构用于降低供气管路向立式氧化炉通气时的噪声，其包括具有气体缓冲腔的内壳，该气体缓冲腔包括进气缓冲腔和反向出气缓冲腔，进气缓冲腔与反向出气缓冲腔之间具有相互连通的通道，供气管路与进气缓冲腔相连通，其中，反向出气缓冲腔的出气方向与进气缓冲腔的进气方向相反。该降低通气噪声的结构能有效地降低供气管路向立式氧化炉通入气体时所产生的噪声，并具有制造简单，成本低和适用性广等优点。此外，本技术还提供了一种采用上述降低通气噪声的结构的立式氧化炉，其在供气管路末端增加上述一种降低通气噪声的结构，能有效降低噪声，消除噪声对周围环境和人体的伤害，营造一个良好的工作环境。此外，用于降低供气管路向立式氧化炉通气时噪声的结构具体可以设置在供气管路的末端以向立式氧化炉的风循环管路进行供气；当然该降低通气噪声的结构也可以设置于立式氧化炉内，使得供气管路与该降低通气噪声的结构相连通后再向氧化炉中进行通气，其中，上述所说气体可以为凡也可以为其他气体；为此该降低通气噪声的结构的具体安装位置在此不再一一赘述，均应在本技术的保护范围之内。请参阅图1-3，如图1、图2和图3所示，该降低通气噪声的结构包括具有气体缓冲腔的内壳3,与内壳3外部具有一定空间距离的外壳体4,内壳3和外壳体4具有一个或多个接触面，其中，至少一个上述接触面上包括至少一个第一出气孔1，上述供气管路2与气体缓冲腔相连通。具体来说，上述内壳3所包围的气体缓冲腔对供气管路内的气体起到缓冲作用，再由上述第一出气孔I排出，以减缓气体流动并分散排出，从而降低气体进入立式氧化炉的风循环管路时所产生的噪声；上述内壳3和外壳体4具有一个或多个接触面，使得该内壳3和外壳体4间形成一个或多个密闭的隔离腔5，进一步地本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种降低通气噪声的结构，用于降低供气管路向立式氧化炉通气时的噪声，其特征在于，具有气体缓冲腔的内壳，所述气体缓冲腔包括进气缓冲腔和反向出气缓冲腔，所述进气缓冲腔与所述反向出气缓冲腔之间具有相互连通的通道，所述供气管路与所述进气缓冲腔相连通，其中，所述反向出气缓冲腔的出气方向与所述进气缓冲腔的进气方向相反。

【技术特征摘要】
1.一种降低通气噪声的结构，用于降低供气管路向立式氧化炉通气时的噪声，其特征在于，具有气体缓冲腔的内壳，所述气体缓冲腔包括进气缓冲腔和反向出气缓冲腔，所述进气缓冲腔与所述反向出气缓冲腔之间具有相互连通的通道，所述供气管路与所述进气缓冲腔相连通，其中，所述反向出气缓冲腔的出气方向与所述进气缓冲腔的进气方向相反。2.根据权利要求1所述的一种降低通气噪声的结构，其特征在于，还包括与所述内壳外部具有一定空间距离的外壳体，其中，所述内壳和外壳体具有一个或多个接触面。3.根据权利要求2所述的一种降低通气噪声的结构，其特征在于，至少一个所述接触面上包括至少一个第一出气孔。4.根据权利要求3所述的一种降低通气噪声的结构，其特征在于，所述第一出气孔的形状为圆形、椭圆形或矩形中的一种或多种。5.根据权利要求4所述的一种降低通气噪声的结构，其特征在于，所述第一出气孔的形状为圆形，其直径为I?3mm。6.根据权利要求2所述的一种降低通气噪声的结构,其特征在于,所述内壳和外壳体间具有一个或多个密闭的隔离腔，其中所述隔离腔内填充有空气。7.根据权利要求1至6任一项所述的一种降低通...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋辰龙，
申请(专利权)人：北京七星华创电子股份有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11