一种彩膜基板及其制造方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种彩膜基板及其制造方法、显示装置，应用于显示技术领域，能够提高产品质量，降低成本，提高产品产能。所述彩膜基板包括交叉排列的多个第一黑矩阵和多个第二黑矩阵、以及彩膜；其中，所述彩膜至少包括第一彩膜、第二彩膜、第三彩膜，所述彩膜包括第一缺口和第二缺口，第一彩膜的第二缺口和第二彩膜的第一缺口之间的区域的面积与第二彩膜的第二缺口和第三彩膜的第一缺口之间的区域的面积不相等；彩膜基板还包括平坦层、第一隔垫物和第二隔垫物，第一隔垫物位于所述第一区域对应的所述平坦层上，第二隔垫物位于所述第二区域对应的所述平坦层上。本发明专利技术实施例提供一种彩膜基板及其制造方法，显示装置，用于显示装置的制造。

【技术实现步骤摘要】
一种彩膜基板及其制造方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种彩膜基板及其制造方法、显示装置。
技术介绍
目前彩膜基板中PS(Post spacer，隔垫物)通常分为两类，一类是起主要支撑作用的主要隔垫物(Main PS)和起辅助支撑作用的子隔垫物(Sub PS),Main PS和Sub PS的高度需要有一定的段差。现有技术中，为实现Main PS和Sub PS之间的段差，Main PS通常设置在对盒后与阵列基板的TFT直接接触的位置，Sub PS设置在彩膜与黑矩阵重叠的区域，使得Main PS与Sub PS之间出现段差，但是当Main PS与TFT直接接触时，容易引起TFT的接触不良，且SubPS容易发生倾斜，影响产品质量。或者在制作PS的构图工艺中，采用灰色调掩膜板或者半色调掩膜板对隔垫物层进行曝光，其中，Sub PS对应灰色调掩膜板或者半色调掩膜板的半透光区域，Main PS对应灰色调掩膜板或者半色调掩膜板的全透光区域，其余部分对应所述灰色调掩膜板或者半色调掩膜板的不透光区域，然后对隔垫物层进行显影，得到Main PS与Sub PS0通过上述构图工艺能够实现Main PS和Sub PS之间的段差，但采用灰色调掩膜板或者半色调掩膜板的构图工艺的成本较高，难以满足节约成本，提高产品产能的需要。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种彩膜基板及其制造方法、显示装置，能够提高产品质量，降低成本，提高产品产能。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案:一方面，提供一种彩膜基板，包括交叉排列的多个第一黑矩阵和多个第二黑矩阵、以及沿所述第二黑矩阵方向设置的彩膜；其中，所述彩膜至少包括第一彩膜、第二彩膜、第三彩膜，所述第一彩膜、第二彩膜以及第三彩膜被所述第二黑矩阵隔开，且所述第一彩膜、所述第二彩膜、所述第三彩膜呈周期性排布；所述彩膜与所述第一黑矩阵的重叠区域包括第一缺口和第二缺口，且所述第一缺口的开口方向与所述第二缺口的开口方向相反；所述第一彩膜的第二缺口和与所述第一彩膜的第二缺口相对的所述第二彩膜的第一缺口之间的区域为第一区域，所述第二彩膜的第二缺口和与所述第二彩膜的第二缺口相对的所述第三彩膜的第一缺口之间的区域为第二区域，所述第一区域的面积与所述第二区域的面积不相等；所述彩膜基板还包括平坦层、第一隔垫物和第二隔垫物，所述平坦层位于黑矩阵以及所述彩膜之上，所述第一区域对应的平坦层的厚度与所述第二区域对应的平坦层的厚度不相等；所述第一隔垫物位于与所述第一区域对应的所述平坦层上，所述第二隔垫物位于与所述第二区域对应的所述平坦层上，所述第一隔垫物和所述第二隔垫物的形状和尺寸均相同。可选的，所述第一黑矩阵与所述第二黑矩阵呈纵横排列，所述第一黑矩阵对应阵列基板的栅线，所述第二黑矩阵对应阵列基板的数据线。可选的，所述第一缺口的形状为三角形、半圆形、半椭圆形或半多边形中的任意一种；所述第二缺口的形状为三角形、半圆形、半椭圆形或半多边形中的任意一种。可选的，所述彩膜的第一缺口的形状为第一等腰三角形，所述第一等腰三角形的底边与所述彩膜的第一边重合；所述彩膜的第二缺口的形状为第二等腰三角形，所述第二等腰三角形的底边与所述彩膜的第二边重合。可选的，所述第一隔垫物和所述第二隔垫物均为圆台体，所述第一隔垫物靠近所述平坦层的下底面的面积大于所述第一隔垫物远离所述平坦层的上底面的面积，所述第二隔垫物靠近所述平坦层的下底面的面积大于所述第二隔垫物远离所述平坦层的上底面的面积。一方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括以上所述的任意一种彩膜基板。一方面，提供一种彩膜基板的制造方法，包括:通过一次构图工艺，在透明基板上形成交叉排列的多个第一黑矩阵图案和多个第二黑矩阵图案；在形成包括有所述第一黑矩阵图案和所述第二黑矩阵图案的基板上形成彩膜层图案；其中，所述彩膜层图案至少包括第一彩膜图案、第二彩膜图案、第三彩膜图案，所述第一彩膜图案、第二彩膜图案以及第三彩膜图案被所述第二黑矩阵图案隔开，且所述第一彩膜图案、所述第二彩膜图案、所述第三彩膜图案呈周期性排布每个所述彩膜图案与所述第一黑矩阵图案的重叠区域包括第一缺口和第二缺口，且所述第一缺口的开口方向与所述第二缺口的开口方向相反；所述第一彩膜图案的第二缺口和与所述第一彩膜图案的第二缺口相对的所述第二彩膜图案的第一缺口之间的区域为第一区域，所述第二彩膜图案的第二缺口和与所述第二彩膜图案的第二缺口相对的所述第三彩膜图案的第一缺口之间的区域为第二区域，所述第一区域的面积与所述第二区域的面积不相等；在形成有黑矩阵图案和所述彩膜层图案的基板上形成平坦层，所述第一区域对应的平坦层的厚度与所述第二区域对应的平坦层的厚度不相等；通过一次构图工艺，在所述平坦层上形成包括第一隔垫物图案和第二隔垫物图案的隔垫物层图案，所述第一隔垫物图案和所述第二隔垫物图案的形状和尺寸均相同。可选的，所述通过一次构图工艺，在透明基板上形成交叉排列的多个第一黑矩阵图案和多个第二黑矩阵图案包括:通过一次构图工艺，在透明基板上形成纵横排列的多个第一黑矩阵图案和多个第二黑矩阵图案；其中，所述第一黑矩阵图案对应阵列基板的栅线，所述第二黑矩阵图案对应阵列基板的数据线。可选的，所述彩膜层图案包括第一彩膜图案、第二彩膜图案、第三彩膜图案，所述在透明基板上形成包括有所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵的基板上形成彩膜层图案的步骤包括:在形成有所述黑矩阵图案的基板上形成一层第一滤光层材料，采用第一掩膜板对所述第一滤光层材料进行曝光、显影之后，形成包括有第一缺口和第二缺口的所述第一彩膜图案；在形成有所述第一彩膜图案的基板上形成一层第二滤光层材料，采用第二掩膜板对所述第二滤光层材料进行曝光、显影之后，形成包括有第一缺口和第二缺口的所述第二彩膜图案；在形成有所述第二彩膜图案的基板上形成一层第三滤光层材料，采用第三掩膜板对所述第三滤光层材料进行曝光、显影之后，形成包括有第一缺口和第二缺口的所述第三彩膜图案。可选的，所述通过一次构图工艺，在所述平坦层上形成包括第一隔垫物图案和第二隔垫物图案的隔垫物层图案的步骤包括:在所述平坦层上形成一层隔垫物层，采用全色调掩膜板对所述隔垫物层进行曝光、显影之后，形成包括第一隔垫物图案以及第二隔垫物图案的隔垫物层图案。本专利技术实施例提供一种彩膜基板及其制造方法、显示装置，所述彩膜基板至少包括第一彩膜，第二彩膜和第三彩膜，且每个所述彩膜存在第一缺口和第二缺口，使得由第一彩膜，第二彩膜和第三彩膜形成的所述第一区域和所述第二区域的面积不相等，从而能使得所述第一区域对应的平坦层的厚度和所述第二区域对应的平坦层的厚度不同，当第一隔垫物与第二隔垫物的形状尺寸均相同时，能够通过第一区域对应的平坦层和所述第二区域对应的平坦层的厚度差异实现第一隔垫物和第二隔垫物之间的段差，相较于现有技术，简化了构图工艺的步骤，提高了产品质量，降低了成本，同时提高了产品产能。【附图说明】为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1 (本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板，其特征在于，包括交叉排列的多个第一黑矩阵和多个第二黑矩阵、以及沿所述第二黑矩阵方向设置的彩膜；其中，所述彩膜至少包括第一彩膜、第二彩膜、第三彩膜，所述第一彩膜、第二彩膜以及第三彩膜被所述第二黑矩阵隔开，且所述第一彩膜、所述第二彩膜、所述第三彩膜呈周期性排布；所述彩膜与所述第一黑矩阵的重叠区域包括第一缺口和第二缺口，且所述第一缺口的开口方向与所述第二缺口的开口方向相反；所述第一彩膜的第二缺口和与所述第一彩膜的第二缺口相对的所述第二彩膜的第一缺口之间的区域为第一区域，所述第二彩膜的第二缺口和与所述第二彩膜的第二缺口相对的所述第三彩膜的第一缺口之间的区域为第二区域，所述第一区域的面积与所述第二区域的面积不相等；所述彩膜基板还包括平坦层、第一隔垫物和第二隔垫物，所述平坦层位于黑矩阵以及所述彩膜之上，所述第一区域对应的平坦层的厚度与所述第二区域对应的平坦层的厚度不相等；所述第一隔垫物位于与所述第一区域对应的所述平坦层上，所述第二隔垫物位于与所述第二区域对应的所述平坦层上，所述第一隔垫物和所述第二隔垫物的形状和尺寸均相同。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括交叉排列的多个第一黑矩阵和多个第二黑矩阵、以及沿所述第二黑矩阵方向设置的彩膜； 其中，所述彩膜至少包括第一彩膜、第二彩膜、第三彩膜，所述第一彩膜、第二彩膜以及第三彩膜被所述第二黑矩阵隔开，且所述第一彩膜、所述第二彩膜、所述第三彩膜呈周期性排布； 所述彩膜与所述第一黑矩阵的重叠区域包括第一缺口和第二缺口，且所述第一缺口的开口方向与所述第二缺口的开口方向相反； 所述第一彩膜的第二缺口和与所述第一彩膜的第二缺口相对的所述第二彩膜的第一缺口之间的区域为第一区域，所述第二彩膜的第二缺口和与所述第二彩膜的第二缺口相对的所述第三彩膜的第一缺口之间的区域为第二区域，所述第一区域的面积与所述第二区域的面积不相等； 所述彩膜基板还包括平坦层、第一隔垫物和第二隔垫物，所述平坦层位于黑矩阵以及所述彩膜之上，所述第一区域对应的平坦层的厚度与所述第二区域对应的平坦层的厚度不相等； 所述第一隔垫物位于与所述第一区域对应的所述平坦层上，所述第二隔垫物位于与所述第二区域对应的所述平坦层上，所述第一隔垫物和所述第二隔垫物的形状和尺寸均相同。2.根据权利要求1 所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一黑矩阵与所述第二黑矩阵呈纵横排列，所述第一黑矩阵对应阵列基板的栅线，所述第二黑矩阵对应阵列基板的数据线。3.根据权利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一缺口的形状为三角形、半圆形、半椭圆形或半多边形中的任意一种； 所述第二缺口的形状为三角形、半圆形、半椭圆形或半多边形中的任意一种。4.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜的第一缺口的形状为第一等腰三角形，所述第一等腰三角形的底边与所述彩膜的第一边重合；所述彩膜的第二缺口的形状为第二等腰三角形，所述第二等腰三角形的底边与所述彩膜的第二边重合。5.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一隔垫物和所述第二隔垫物均为圆台体，所述第一隔垫物靠近所述平坦层的下底面的面积大于所述第一隔垫物远离所述平坦层的上底面的面积，所述第二隔垫物靠近所述平坦层的下底面的面积大于所述第二隔垫物远离所述平坦层的上底面的面积。6.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求1至5任意一项权利要求所述的彩膜基板。7.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括: 通过一次构图工艺，在透明基板上形成交叉排列的多个第一黑矩阵图案和多个第二黑矩阵图案； 在形成包括有所述第一黑矩阵图案和所述第二黑矩阵图案的基板上形成彩膜层图案； 其中，所述彩膜层图案至少包括第一彩膜图...

【专利技术属性】
技术研发人员：张思凯，黎敏，吴洪江，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11