本发明专利技术提供一种HDD用玻璃基板的制造方法，使清洗、干燥后的玻璃基板的外周端部不会残留缺陷。HDD用玻璃基板的制造方法包括用清洗液(31)清洗玻璃基板(50)的清洗工序，在清洗工序中，针对玻璃基板(50)使清洗液(31)沿着与玻璃基板(50)的主表面平行且彼此不同的多个方向依次流动，以便进行清洗。在清洗槽(30)的上下设置清洗液供给排出装置(32、33)，使清洗液(31)在清洗槽(30)内，相对于玻璃基板(50)沿着上下方向中的从下向上的1个方向和从上向下的1个方向依次切换流动。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】HDD用玻璃基板的制造方法、HDD用玻璃基板以及HDD用磁记录介质
本专利技术涉及一种HDD用玻璃基板的制造方法、HDD用玻璃基板以及HDD用磁记录介质。
技术介绍
近年来,伴随着在HDD (hard disk drive:硬盘驱动器)用磁记录介质中存储的信息的高密度化，磁头的悬浮高度日益减小，即使是数百nm的附着物也会引起头碰撞(headcrash)或热粗糙(thermal asperity)。尤其在搭载了 DFH(dynamic flying height:动态飞行高度)机构的磁头的情况下，磁头的悬浮高度微小至数nm，从而强烈要求HDD用磁记录介质的清洁性。此外，伴随着记录区域的扩大，记录区域将扩展到记录介质的最外周部。因此，要求直至记录介质的最外周部为止的高清洁性。用于HDD用磁记录介质的基板的HDD用玻璃基板，在其制造过程中，在检查工序之前被用清洗液清洗。在该清洗工序中，玻璃基板例如在收容于称为清洗支架的专用容器内的状态下被放入清洗槽，在清洗槽内用清洗液冲洗。如专利文献I的记载所述，清洗支架的结构为:多个支撑用杆以指定的间隔相互平行地架设在一对对置壁之间。在各支撑用杆的周面，沿着周方向形成有凹槽。玻璃基板的两侧端部和下端部被3根支撑用杆支撑而被嵌入凹槽，以竖立的状态收容于清洗支架。清洗后，玻璃基板保持着收容于清洗支架的状态被加以干燥。先行技术文献专利文献专利文献1:日本专利公开公报特开2009-87472号
技术实现思路
但是，如果在清洗、干燥后的玻璃基板的外周端部留下缺陷(defect)，则在玻璃基板的主表面上形成记录层而制成磁记录介质时，记录区域会出现障碍。因此，本专利技术的目的在于提供一种在清洗、干燥后的玻璃基板的外周端部不会残留缺陷的HDD用玻璃基板的制造方法、利用该制造方法制得的HDD用玻璃基板、以及利用了该HDD用玻璃基板的HDD用磁记录介质。本专利技术的一个方面涉及HDD用玻璃基板的制造方法，该制造方法包括用清洗液清洗玻璃基板的清洗工序，在清洗工序中，针对玻璃基板使清洗液沿着与玻璃基板的主表面平行且彼此不同的多个方向依次流动以便进行清洗。本专利技术的另一个方面涉及利用上述的HDD用玻璃基板的制造方法制得的HDD用玻璃基板。本专利技术的另外一个方面涉及在上述的HDD用玻璃基板的主表面上形成记录层而制得的HDD用磁记录介质。上述的内容以及其他的本专利技术的目的、特征及优点从以下详细的记载和附图中，将显而易见。【附图说明】图1是本专利技术的实施方式所涉及的HDD用玻璃基板的立体图。图2是本专利技术的实施方式所涉及的HDD用玻璃基板的制造工序图。图3是表示二次抛光工序中所使用的双面抛光机的主要部结构的概略侧视图。图4是表示最终清洗工序之后在玻璃基板的外周端部发现的缺陷的一例的图纸代用照片。图5是最终清洗工序中所使用的清洗支架的立体图。图6是上述清洗支架的侧视图。图7是上述清洗支架的主视图。图8是表示在最终清洗工序中相对于玻璃基板清洗液流动的方向的一例的说明图。图9是表示在最终清洗工序中相对于玻璃基板清洗液流动的方向的另一例的说明图。【具体实施方式】下面，参照附图来说明本专利技术的实施方式。但本专利技术并不限定于该实施方式。以往，在清洗、干燥后的玻璃基板的外周端部会残留缺陷，因此，存在在玻璃基板的主表面上形成记录层而制成磁记录介质时，记录区域会出现障碍的问题。本专利技术人通过发现如下内容而创造了本专利技术，S卩:以往，由于在清洗槽内清洗液只沿I个方向流动，因此，在玻璃基板的外周端部产生被遮在支撑用杆的后面(相对于清洗液的液流为后面)的部分，该部分成为清洗不到的部分，该清洗不到的部分在玻璃基板的外周端部成为缺陷而残留下来。另外，本实施方式在玻璃基板的清洗工序等中，当提到上、下、左、右、前、后、横等方向时，只要没有特别预先说明，就是指相对于以玻璃基板的主表面与重力方向平行的方式将所述玻璃基板竖立时的所述主表面而言的方向。〈HDD用玻璃基板的制造方法>参照图1所示的玻璃基板50和图2所示的制造工序图来说明HDD用玻璃基板的制造方法。在本实施方式中，HDD用玻璃基板50经过圆盘加工工序、研磨(lapping)工序、一次抛光(polishing)(粗抛光)工序、二次抛光(精密抛光)工序、化学强化工序、最终清洗工序、检查工序等而被制成。玻璃基板50所使用的玻璃原材料由以二氧化硅(SiO2)为主成分的玻璃组合物构成。玻璃组合物可以包含镁、钙及/或铈，也可以不包含。具有代表性的玻璃组合物例如包含 Si02、Al2O3' B2O3> Li20、Na2O, K2O, Mg。、CaO、BaO、SrO, ZnO 等。[圆盘加工工序]在圆盘加工工序中、通过使熔融的玻璃原材料流入模具并进行冲压成形来制作圆盘状的玻璃基板(将其称为坯料)。此时的玻璃基板的大小例如外径为2.5英寸、1.8英寸、I英寸、0.8英寸等、板厚为2mm、lmm、0.8mm、0.63mm等。在所得到的玻璃基板的中心部用例如金刚石芯钻等形成圆孔，制成环形的玻璃基板。[研磨工序]研磨工序包括第I研磨工序和第2研磨工序。在第I研磨工序中，研磨玻璃基板的表面和背面两面，对玻璃基板的整体形状即玻璃基板的平行度、平坦度以及厚度等进行预调。在第2研磨工序中，接着第I研磨工序再次研磨玻璃基板的表面背面两面，对玻璃基板的整体形状即玻璃基板的平行度、平坦度以及厚度等进行进一步微调。在研磨工序中，使用具备粘贴有例如金刚石丸(diamond pellet)的上下平板的双面研磨机(grindingmachine)。[一次抛光工序]在一次抛光工序中，对玻璃基板的表面和背面两面进行粗抛光，以便在接下来的二次抛光工序中能高效地获得最终所要求的表面粗糙度。在该一次抛光工序中，使用具备粘贴有例如作为抛光垫的聚氨酯泡沫垫的上下一对平板的双面抛光机(polishingmachine)。作为抛光液，例如含有二氧化铈作为磨粒的泥浆(slurry)态的抛光液被加以使用。但并非限定于此。[ 二次抛光工序]在二次抛光工序中，接着一次抛光工序对玻璃基板的表面和背面两面进行精密抛光，以便获得最终所要求的表面粗糙度。在该二次抛光工序中，使用如图3所示能够同时对玻璃基板50的表面和背面两面进行抛光的双面抛光机10。双面抛光机10具备相互平行地上下隔开距离而配置的沿彼此相反的方向可旋转的圆板状的上平板11和下平板12。该上下一对的平板11、12的各对置面粘贴有用于抛光玻璃基板的表面和背面两面的抛光垫(本实施方式中为聚氨酯制的绒面革(suede)垫)P。在平板11、12之间配置多个可旋转的支架13，多个玻璃基板50被嵌入安装在各支架13中。支架13在支撑着玻璃基板50的状态下，一边自转一边相对于平板11、12的旋转中心公转。针对正在进行这种动作的上下平板11、12以及支架13，将含有磨粒(本实施方式中为胶体硅(colloidal silica))的泥浆状的抛光液分别提供到上平板11的抛光垫P与玻璃基板50之间以及下平板12的抛光垫P与玻璃基板50之间，由此对玻璃基板50的表面和背面两面进行精密抛光。另外,在图3中,符号14为抛光液回收装置,符号15为抛光液储存罐,符号16为抛光液供应管，符号17为润滑液储存罐，符号18为润本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种HDD用玻璃基板的制造方法，其特征在于包括：清洗工序，用清洗液清洗玻璃基板，其中，在清洗工序中，针对玻璃基板使清洗液沿着与玻璃基板的主表面平行且彼此不同的多个方向依次流动，以便进行清洗。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.06.30 JP 2011-1462301.一种HDD用玻璃基板的制造方法，其特征在于包括: 清洗工序，用清洗液清洗玻璃基板，其中， 在清洗工序中，针对玻璃基板使清洗液沿着与玻璃基板的主表面平行且彼此不同的多个方向依次流动，以便进行清洗。2.根据权利要求1所述的HDD用玻璃基板的制造方法，其特征在于，使清洗液沿着玻璃基板的主表面的上下方向和横向方向流动。3.根据权利要求2所述的HDD用玻璃基板的制造方法，其特征在于，使清洗液沿着玻璃基板的主表面的上下方向彼此相反的2个方向和横向方向彼此相反的2个方向流动。4.根据权利要求1至3中任一项所述的H...
【专利技术属性】
技术研发人员：岛津典子，福本直之，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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