阵列基板及其检测方法和检测装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种阵列基板，包括设置在基板上的待检测结构，所述待检测结构的下方设置有用于检测待检测结构是否断开的附加层，所述附加层的颜色与待检测结构的颜色不同并且图案形状一致。本发明专利技术还提供了一种用于上述阵列基板的检测方法和检测装置。通过本发明专利技术的阵列基板及其检测方法和检测装置，可以实现对阵列基板生产过程中出现的断开型不良的早期检测，从而可以尽早实现不良原因的发现和消除，提高生产效率和产品良率。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其检测方法和检测装置
本专利技术属于显示
；更具体地，涉及一种阵列基板及其检测方法和检测装置。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)因其体积小，功耗低、无辐射等特点，在当前的平板显示器市场占据了主导地位。TFT-LCD由阵列基板和彩膜基板对盒形成。在阵列基板中相互交叉地配置限定像素区域的栅极扫描线和数据信号线，并在各像素区域中配置像素电极和薄膜晶体管。当前的TFT-1XD制造工艺中，亮线和亮点是制造过程中的主要不良。其中，亮线不良大部分是由于灰尘引起的栅极扫描线或者数据信号线断开型不良，表现在显示屏上就是不随着屏幕色彩变化的亮线。亮点不良则有多种原因，例如灰尘，薄膜残留等等。针对4-掩模(4-mask)技术而言,最主要的两种不良是GT Bridge (Gray Tone Bridge,搭接导通)和沟道断开，分别是由于沟道部分a-Si残留和a-Si被刻蚀太多引起的亮点不良。这两种不良在生产过程中很难发现，只有到了阵列测试(array test)阶段，才可以实现对于GT Bridge的检出。对于沟道断开型的不良，如果沟道部分没有完全断开的话，它的充放电功能还可以完成，则在阵列测试阶段也很难被发现。只有到了液晶盒测试阶段，才会以条纹不良的形式表现出来。综上所述，所有这些不良最快也要在阵列测试阶段才能被检测出来，而沟道断开型的不良一直到液晶盒测试阶段才能检出。这样就造成设备调整时间的滞后，使得不良持续发生，产生大批相似的不良。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的主要目的在于提供阵列基板及其检测方法和检测装置，可以实现对阵列基板生产过程中出现的断开型不良的早期检测，从而可以尽早实现不良原因的发现和消除，提闻生广效率和广品良率。一种阵列基板，包括设置在基板上的待检测结构，所述待检测结构的下方设置有用于检测待检测结构是否断开的附加层，所述附加层的颜色与待检测结构的颜色不同并且图案形状一致。所述待检测结构为下述结构的至少一种:栅极、栅极扫描线、数据信号线、有源层、源极、漏极。所述附加层的上方还设置有透明保护层。所述附加层为铜层、硅的氧化物层、硅的氮化物层和加有染色剂的聚酰亚胺层中的一种。附加层和透明保护层的厚度均不大于5000人。一种用于上述的阵列基板的检测方法，包括:向形成有附加层的阵列基板上照射白光；如果经过所述阵列基板反射后的光线的颜色有附加层的颜色，则对应所述附加层颜色的待检测结构发生断开型不良；如果经过所述阵列基板反射后的光线的颜色没有附加层的颜色，则所述待检测结构没有发生断开型不良；在判断反射光的颜色时，在反射光的光路上设置一与所述附加层颜色相同的滤光单元，通过透过滤光单元的光来判断经过所述阵列基板反射后的光线的颜色。一种用于上述阵列基板的检测装置，包括:测试基台、光源及滤光单元；所述测试基台用于放置待检测的阵列基板，所述光源为白光光源，用于向形成有附加层的阵列基板上照射白光，所述滤光单元用于过滤与所述附加层颜色不相同的光。所述滤光单元为与所述附加层颜色相同的滤光片。还包括光检测单元，所述光检测单元用于识别与所述附加层颜色相同的光。还包括外罩，所述光源和所述滤光单元分别位于所述测试基台两侧的上方，且所述光检测单元位于所述滤光单元的上方，所述外罩位于整个检测装置的外侧用于容纳所述检测装置。综上所述，通过在阵列基板中形成与待检测结构不同的颜色的附加层，并检测阵列基板反射光线的颜色，可实现对于阵列基板图形断开型不良的早期检测，及时发现阵列基板中的断开型不良，从而能尽早调整设备，减少不良品的产生。【附图说明】图1为阵列基板结构中发生沟道断开型不良的平面示意图；图2为图1中Al-Al向的剖面图；图3为对应于图2的正常阵列结构的剖面图；图4为根据本专利技术第二实施例的具有第二附加层的阵列基板结构的平面示意图；图5为图4中A2-A2向的剖面图；图6为检测阵列基板中断开型不良的装置的结构示意图。附图标记说明:1-栅极；2_源/漏极；3_有源层；5-像素电极；6_沟道下方有源层断开型不良；7_数据信号线断开型不良；8-基板；9-栅绝缘层；10-钝化层；11-第二附加层；12-第二透明保护层；13-测试基台；14-阵列基板；15-光源；16-滤光单兀； 17-光检测单元；18-外罩。【具体实施方式】为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例的附图，对本专利技术实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本专利技术的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。除非另作定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本专利技术所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本专利技术专利申请说明书以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也相应地改变。为了实现对阵列基板生产过程中出现的断开型不良的早期检测，从而可以尽早实现不良原因的发现和消除，提高生产效率和产品良率。本专利技术提供一种阵列基板，包括设置在基板上的待检测结构，所述待检测结构的下方设置有用于检测待检测结构是否断开的附加层，所述附加层的颜色与待检测结构的颜色不同并且图案形状一致。。所述待检测结构为下述结构的至少一种:栅极、栅极扫描线、数据信号线、有源层、源极、漏极。为了保护附加层的结构，可以进一步的在所述附加层的上方设置有透明保护层，所述透明保护层材料可为常用的透明的保护层材料，例如与阵列基板中栅绝缘层相同的材料，优选为硅的氮化物(SiNx)。所述附加层的颜色只要与其上方的待检测结构的颜色不同即可，不做限制，所述附加层可以为铜层、硅的氧化物层、硅的氮化物层和加有染色剂的聚酰亚胺层中的一种。附加层和透明保护层应该尽量薄，以防止造成像素电容效应的增加和基板应力的变化。附加层和透明保护层各自的厚度均不大于5000A，优选为10A-3000 A。本专利技术还提供了一种用于上述的阵列基板的检测方法，包括:向形成有附加层的阵列基板上照射白光；判断经过所述阵列基板反射后的光线的颜色，如果为附加层的颜色，则确定所述附加层上方的结构发生断开型不良，如果不是附加层的颜色或含有微量附加层的颜色，则确定所述附加层上方的结构没有发生断开型不良；在判断反射光的颜色时，在反射光的光路上设置一与所述附加层颜色相同的滤光单元，通过透过滤光单元的光来判断经过所述阵列基板反射后的光线的颜色。本专利技术还提供了一种用于上述的阵列基板的检测装置，包括:测试基台、光源及滤光单元；所述测试基台用于放置待检测的阵列基板，所述光源为白光光源，用于向形成有附加层的阵列基板上照射白光，所述滤光单元用于过滤与所述附加层颜色不相同的光。所述滤光单元为与所述附加层颜色相同的滤光片。进一步地，所述还包括光检测单元，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，包括设置在基板上的待检测结构，其特征在于，所述待检测结构的下方设置有用于检测待检测结构是否断开的附加层，所述附加层的颜色与待检测结构的颜色不同并且图案形状一致。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括设置在基板上的待检测结构，其特征在于，所述待检测结构的下方设置有用于检测待检测结构是否断开的附加层，所述附加层的颜色与待检测结构的颜色不同并且图案形状一致。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述待检测结构为下述结构的至少一种:栅极、栅极扫描线、数据信号线、有源层、源极、漏极。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述附加层的上方还设置有透明保护层。4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述附加层为铜层、硅的氧化物层、硅的氮化物层和加有染色剂的聚酰亚胺层中的一种。5.根据权利要求1-4任一所述的阵列基板，其特征在于，附加层和透明保护层的厚度均不大于5000 A。6.一种用于权利要求1所述的阵列基板的检测方法，包括: 向形成有附加层的阵列基板上照射白光； 如果经过所述阵列基板反射后的光线的颜色有附加层的颜色，则对应所述附加层颜色的待检测结构发生断开型不良；如果经过所述阵列基板反射后的光线的颜...

【专利技术属性】
技术研发人员：冀新友，郭建，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11