转子磁轴承、对其磁环涂覆和/或涂漆的方法及真空泵技术

本发明专利技术涉及转子磁轴承、对其磁环涂覆和/或涂漆的方法及真空泵，所述转子磁轴承被布置在转子上，其中所述磁轴承的磁环被布置在转子上的、为该磁环所设置的位置处，并且其中所述磁环的暴露的表面随后被涂覆和/或涂漆。此外本发明专利技术涉及一种转子磁轴承，其根据本发明专利技术的方法被涂覆和/或涂漆，和一种包含至少一个这种转子的真空泵。

【技术实现步骤摘要】
转子磁轴承、对其磁环涂覆和/或涂漆的方法及真空泵本专利技术涉及一种用于对转子磁轴承的磁环进行涂覆和/或涂漆的方法以及转子磁轴承和真空泵，该转子磁轴承具有多个在转子之上或之中布置的磁环。从实践中已知，转子磁轴承以及定子磁轴承的磁环特别是用于耐腐蚀地保护工艺组件。根据用途其可能是必需的，以便例如实现足够的耐腐蚀性。一种简单方法在于对单个部分进行涂覆或涂漆。磁轴承定子能通过浸渍、涂抹或其他方法（例如化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD））被容易地涂覆，因为磁轴承定子只具有有限的尺寸或扩展并且主要是外表面。反之，转子的磁轴承主要拥有仅能很难地到达的内表面，然而尽管如此其必须被尽可能均匀地涂覆，以便不将过大的额外的不平衡引入转子。本专利技术基本的技术问题是，给出一种方法，通过该方法，主要是位于内部的表面处的转子磁轴承能够被尽可能均匀地涂覆或涂漆。此外，应当给出一种转子磁轴承，其具有均匀的涂层而没有被封入空气。这个技术问题通过具有如权利要求1的特征的方法以及通过具有如权利要求13的特征的转子磁轴承解决。根据本专利技术的用于对被布置在转子上的磁轴承的磁环进行涂覆和/或涂漆的方法，其特征在于，转子上的磁轴承的磁环被布置在为磁环所设置的位置上，并且暴露的磁环表面随后被涂覆。本专利技术的创新在于，磁轴承的磁环被插入通常为磁环所设置的转子空隙中并且随后仅对该环进行涂覆和/或涂漆。为永久磁轴承所使用的磁性材料，例如钐钴（SmCo）或钕铁硼（NdFeB），相对于机械负载的反应是易碎的并且对拉力负载敏感。从实践中已知，转子中的配有永久磁铁的磁轴承，被有利地实现，从而使得所使用的永久磁铁被装配成能够承受所有处于压力负荷下的工作状态。这种预应力有利地通过磁铁的过盈配合和/或热压配合在其空隙中实现。从实践中已知，所述环被单独涂覆并且随后才被布置在转子的空隙中。磁环在非常高的压力下并且在转子受热时被插入转子中，因此这些磁环在转子冷却后具有固定的配合。磁环的单涂覆的漆在此处磨损并且不再有磁环的耐腐蚀性。根据本专利技术，将磁环（在其被涂覆之前）布置在为其所设置的转子空隙中，并且随后在转子中实施涂覆，则没有漆和没有涂层物质因安装而受到磨损。此外，根据本专利技术的方法具有的优点在于，所述漆有可能渗入磁环之间存在的间隙，并且因此耐腐蚀性通过根据本专利技术的涂层有所提高。用涂层材料或漆填充间隙导致磁环之间的密闭连接。当磁轴承被布置在真空泵的转子上时是有利的。在这个情况下，在真空泵工作时不必需密封气体。例如对于真空泵，如果在转子磁轴承区域中不需要密封气体，则由此省略了在其他情况下所必需的阀和通道和持续供应密封气体的装置。此外，根据本专利技术的方法具有的优点在于，不需要机械精加工。此外，能够使用实践中已知的磁环，而不必对其进行修正。根据本专利技术的另一实施例，磁环的内部的暴露的表面通过在被磁环限制的空间中装入至少一种涂层物质和/或至少一种漆并且旋转该转子来进行涂覆。因此，涂层物质和/或漆的尽可能无气泡的涂覆是可能的。此外通过转动转子可实现非常均匀的涂覆，因此转子的不平衡能够被尽可能地或完全地避免。磁环能被已经预先涂漆/涂覆地或未涂漆/涂覆地装入。任何情况下，通过根据本专利技术的方法的后续涂漆/涂覆可获得整体的并且甚至真空密封的转子磁轴承的蒙护（Versiegelung）。也存在着将内部的暴露的表面通过装入至少一种涂层物质和/或至少一种漆，并且通过具有磁环的转子磁轴承的翻转来进行涂覆的可能性。因此也实现了转子磁轴承的磁环的整体的涂覆。在这里，磁环之间的间隙也被倒空（ausgegossen）。特别有利地，在具有磁环的转子的翻转之后多余的漆被移除，例如被倒空。多余的漆的移除应不依赖于涂层物质和/或至少一种漆的施加方式被实施。根据本专利技术的一个特别优选实施例，涂覆和/或涂漆在真空下实现。这个方法具有的特别的优点在于，在磁环之间存在的接缝和倒角被涂层物质或漆灌注，并且因此能够不出现实际的泄漏并因此不出现以后的涂覆薄弱位置。如果涂覆和/或涂漆不在真空下进行，则在此同时或事后可能形成气泡。如果转子以后例如在真空泵中工作，也就是说在真空下工作，则存在的气泡可能膨胀并且在形成气泡的情况下在涂覆中裂开一些开口。之前被封入的气体能在朝高真空一侧的方向上运动并且在此处导致过程中的干扰，此外使出现的涂覆薄弱位置下面的材料可能被不期望地腐蚀。根据本专利技术的另一有利实施例，至少一种涂层物质和/或至少一种漆被喷射装置喷射。例如能使用喷枪或自动喷射装置。其他喷射手段同样是可设想的。存在着将喷射装置一次或多次地在磁环内部来回运动，以便施加多层的涂层物质和/或漆的可能性。根据本专利技术的另一有利实施例，为涂覆使用在受热时可硬化的或受UV照射时可硬化的合成材料和/或使用在受热时可硬化或受UV照射时可硬化的漆被使用。根据本专利技术的另一有利实施例，为涂覆使用化学气相沉积（CVD，英语：chemicalvapourdeposition）或物理气相沉积（PVD，英语：physicalvapourdeposition）。根据本专利技术的另一有利的实施例，为涂覆使用化学或电镀的金属沉积（例如镍）。其他涂层物质和漆同样是可使用的。根据本专利技术的另一特别有利的实施例，转子与转子磁轴承被布置在旋转装置中。转子置于旋转运动中，随后至少一种涂层物质和/或至少一种漆被装入由转子磁环限制的空间中。通过转子的旋转运动实现了特别是均匀的漆涂层。此外有可能的是，提供具有小的层厚度的非常薄的涂层或漆层。本专利技术的另一有利实施例提出，转子磁环被预装配到块中，所述块被插入转子中的容纳部，随后转子被置于旋转运动中并且与此同时或随后将至少一种涂层物质和/或至少一种漆装入由转子磁环所限制的空间中。这个方法确保以涂层物质或漆实现均匀的涂覆。有利地，多余的材料不依赖于涂覆方法的种类在施加涂层物质和/或漆后被移除。如果转子磁轴承的内空间例如被涂层材料和/或漆完全地填满，或所述空间的只一部分被涂层物质和/或漆填充并且该空间随磁环翻转，则必需的是，随后将多余的材料倒出。根据本专利技术有利的是，至少一种涂层物质和/或至少一种漆被布置在磁环内部的表面上的和/或在磁环之间的间隙中。因此可获得真空密封的漆层或涂层。可能的是，涂覆一个或多个层。具有不同材料的多个层也能被涂覆。有利地，具有多个在转子之上或之中布置的磁环（这些磁环借助根据本专利技术的方法涂覆和/或涂漆）的转子被制造，使得磁环在涂覆之前被插入为其所设置的转子空隙中，而不会磨损已经在环上存在的漆。可能的是，单个装配所述环或将所述环预先装配在一个块中，并且将整个块推入为该块所设置的空隙中。所述环或块只能在非常高的压力下被装入空隙中。为此，转子通常被加热，由此使其膨胀并且环或块能被插入。转子本身冷却，则具有固定配合的环即被布置在转子之中或之上。随后，环借助根据本专利技术的方法来涂覆和/或涂漆。因此均匀地和完整无缺地涂覆涂层物质和/或漆是可能的。此外所述漆能渗入到磁环的空隙和倒角，并且所述漆和/或涂层物质不再受到装配的损伤。根据一特别有利实施例，具有根据本专利技术的磁轴承的转子被布置在真空泵中。具有快速转动的转子的真空泵应尽可能没有具有不平衡。另一方面重要的是，转子磁轴承被设计为密封的和无被封入的气泡的。在施加真空时，被封入的气泡会损伤涂层或本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于对转子磁轴承的磁环进行涂覆和/或涂漆的方法，所述转子磁轴承被布置在转子上，其特征在于，所述磁轴承的磁环（4）被布置在所述转子（1）上的、为所述磁环（4）所设置的位置（3）处，并且所述磁环（4）的暴露的表面（10）随后被涂覆和/或涂漆。

【技术特征摘要】
2013.01.29 DE 102013100853.41.一种用于对转子磁轴承的转子磁环进行涂覆的方法，所述转子磁轴承被布置在转子上，其特征在于，所述磁轴承的转子磁环(4)被布置在所述转子(1)上的、为所述转子磁环(4)所设置的位置(3)处，通过加热所述转子(1)，具有固定配合的所述转子磁环(4)被布置在所述转子(1)上，并且所述转子磁环(4)的内部的、暴露的表面(10)随后被涂覆。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述转子磁环(4)的内部的、暴露的表面(10)通过装入至少一种涂层物质并且通过所述转子(1)的转动来涂覆。3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述内部的、暴露的表面(10)通过装入至少一种涂层物质并且通过翻转具有所述转子磁环(4)的转子(1)来涂覆。4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述涂覆在真空下实现。5.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述涂覆在真空下实现。6.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述涂覆在真空下实现。7.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述至少一种涂层物质被喷射。8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，喷射装置(11)被使用。9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述喷射装置(11)在喷射过程期间一次或多次地在所述转子磁环(4)内部来回运动。10.如权利要求1至9中任一项所述的方法，其特征在于，所述转子磁环(4)使用合成材料来进行涂覆。11.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述转子(1)被布置在转动装置(5、6)中，所述转子(1)被置于旋转运动中，随后所述至少一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：马可·安东纳奇，赫伯特·斯塔姆勒，
申请(专利权)人：普发真空有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE