加热电阻元件及其制造方法、热敏头和打印机技术

技术编号:1025224 阅读:195 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及加热电阻元件及其制造方法、热敏头和打印机。具体而言,提供了一种加热电阻元件,包括:隔离衬底(9);结合到隔离衬底(9)表面上的聚热层(10);以及设置在聚热层(10)上的加热电阻器(11),其中:在隔离衬底(9)和聚热层(10)之间的结合表面(9a)的至少其中之一上,该隔离衬底(9)和聚热层(10)的至少其中之一在与加热电阻器(11)相对的区域中设有凹进部分(16),以形成中空部分(17);以及该凹进部分(16)在其各个角部处具有10μm或更大的曲率半径。相应地,可抑制由热或负载所引起应力集中的发生以提高耐用性,并且实现了足够的强度和加热效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及加热电阻元件及其制造方法、热,敏头和打印才几。
技术介绍
通常,在设置于打印机热敏头中的加热电阻器中,为了提高加热 电阻器的加热效率并降低功耗,在与加热电阻器相对的区域中形成中 空部分,并使得该中空部分用作具有低热传导率的隔热层,由此控制从加热电阻器流到隔离衬底侧的热量(例如参见JP 2007-83532A)。作为形成中空部分的方法,采用了以下方式蚀刻硅衬底,并形 成凹进部分(具有大于等于lpm且小于等于l(XVm的深度),以通过在 700。C或更低温度下进行的阳极结合(anodic bonding)将用作聚热层的 薄板玻璃(具有10,到100pm的厚度)结合于其上。在这种情况下, 难以制造或操作具有100(im或更小厚度的薄板玻璃,因此,将具有相 对易于操作的厚度的薄板玻璃结合到硅衬底表面上,然后通过蚀刻或 抛光来去除(chipped)所结合表面相反一侧的表面,以获得期望的厚度 尺寸。。可通过进行各向异性蚀刻而形成凹进部分,其包括大致等于加热 电阻器尺寸的开口并具有较大的深度尺寸,但所形成的凹进部分具有 带有急剧弯曲的角部的形状。因此,热或负载在角部处引起应力集中, 这或会在其中生成裂口或裂紋。此外,在这种情况下,由于在硅衬底 的凹进部分的开口附近的角部处引起的应力集中,也对结合到硅衬底 上以封闭凹进部分的开口的薄板玻璃施加了应力,罔此不能使用厚度 尺寸为10pm或更小的薄板玻璃,这限制了热效率的提高。另一方面,在进行各向同性蚀刻的情况下,凹进部分形成为使得其角部具有预定值或更大的曲率半径。然而,在这种情况下,凹进部 分的深度尺寸可设定为不超过凹进部分开口尺寸的大约二分之一,并 且在提供了深的凹进部分的情况下,开口尺寸相对于加热电阻器会变 得更大,这使得难以获得期望的强度。
技术实现思路
鉴于上述情况提出了本专利技术,因此其目的在于提供加热电阻元件 及其制造方法、热敏头和打印机,其中,该加热电阻元件能够抑制由 热或负载所引起应力集中的发生以提高耐用性并且还实现了足够的 强度和加热效率。为了达到上述目的,本专利技术提供了以下方式。本专利技术提供了加热电阻元件,包括隔离衬底;结合到隔离衬底 表面上的聚热层;以及设置在聚热层上的加热电阻器,其中在隔离村底和聚热层之间的结合表面的至少其中之一上,该隔离衬底和聚热 层的至少其中之一在与加热电阻器相对的区域中设有凹进部分,以形 成中空部分;以及该中空部分包括在其各个角部处具有l(Vm或更大 的曲率半径。基于本专利技术,隔离衬底和聚热层相互结合,其中,凹进部分在隔 离衬底和聚热层的至少一个结合表面上形成,并且形成于隔离衬底和 聚热层之间的该中空部分形成在与加热电阻器相对的区域中。相应 地,由加热电阻器所产生的热量到隔离衬底的传递受该中空部分控 制,因此,热量可以被更为有-丈地使用。在这种情况下,凹进部分在其各个角部处具有10(im或更大的曲率半径,结果抑制了位于凹进部分各个角部处发生的应力集中,并且即便当加热加热电阻器或负载起作用时,隔离衬底和聚热层也保持在良好状态。此外,通过常规的各向同性蚀刻不能形成具有比开口尺寸 的二分之一更大的深度尺寸的凹进部分。结果,基于本专利技术,可抑制由热或负载所引起应力集中的生成以提高耐用性,并且能够实现足够的强度和加热效率。在上述专利技术中,中空部分的深度可设定为大于等于l(im且小于等 于100nm。因此,当包含在中空部分中的气体的厚度充分地保证为liim或更 大时,可获得极好的隔热效果,并且可将加热电阻元件的功耗抑制得 较低。此外,当中空部分的深度设定为lOOiim或更小时,加热电阻元 件的厚度可制作得较小。此外,在上述专利技术中,聚热层的厚度可设定为大于等于2pm且 小于等于100 nm。在上述本专利技术中,隔离衬底和聚热层可由无^5威玻璃形成。结果,即使在长时间使用之后碱离子也不会被洗脱。因此,可防 止碱离子对加热电阻器以及位于聚热层和隔离衬底附近的电极,或设 置在其附近的驱动器IC产生不利影响。此外,无石威玻璃比Pyrex(注册商标)玻璃更便宜,且其可加工性更 为优异,由此加热电阻元件可以以低成本地制造。此外,在上述专利技术中,在隔离衬底的结合表面和聚热层的结合表 面处于相互附着的状态下,隔离衬底和聚热层可通过加热到退火点至 软化点的温度范围而相互结合。结果,即便是当隔离衬底和聚热层由相同的玻璃材料形成时隔离 衬底和聚热层也可以容易地相互结合,并且隔离衬底和聚热层之间的 热膨胀系数的差异可得以消除,以抑制由于热量而引起的翘曲(wr叩) 或变形。此外,在上述专利技术中,中空部分可以与外界完全地密封,并且其 内部可充有气体。结果,施加给加热电阻器的压紧力可由充入中空部分的气体的压 力来支承,因此,可提供具有高耐压能力的加热电阻元件。此外,在上述专利技术中,气体优选地为惰性气体。因此,可防止加热电阻器退化(如氧化),并且可提高其可靠性和耐用性。此外,在上述专利技术中,中空部分可以与外界完全地密封,并且该中空部分的内部可降压到大气压力或更低。结果,即使当温度由于加热电阻器的运行而改变时,也可抑制中空部分的内压力的变化。此外,本专利技术提供了包括上述任何一种加热电阻元件的热敏头。 基于本专利技术,即便是在长时间使用之后也可防止中空部分成为热源的不利,并且可防止因诸如3也尾的现象所导致的打印质量下降。 此外,本专利技术提供了包括上述热敏头的打印机。 基于本专利技术,可以低成本、长时间清晰而无间断地打印。此外,本专利技术提供了用于加热电阻元件的制造方法,包括凹进 部分形成步骤,即在隔离衬底和聚热层之间的结合表面的至少其中之 一上形成凹进部分;结合步骤,即使得隔离衬底和聚热层之间的结合 表面相互附着,以结合该隔离衬底和聚热层;以及电阻器形成步骤, 即在聚热层上的一定位置处形成加热电阻器,该位置与凹进部分相 对,其中,该凹进部分形成步骤包括形成在各个角部处具有lOpm或 更大曲,率半径的凹进部分。基于本专利技术,在凹进部分形成步骤中,形成了在各个角部处具有 10um或更大曲率半径的凹进部分,因此,抑制了在通过将隔离衬底 和聚热层相互结合而形成的中空部分的各个角部处所引起的应力集 中,并且可制造出具有改善的隔离效率的加热电阻元件。在上述专利技术中,凹进部分形成步骤可包括通过喷石少形成凹进部分。此外,凹进部分形成步骤可包括通过使用模具(die)进行高温压制 而形成凹进部分。结果,通过喷砂或高温压制可容易地形成在各角部处均具有1 Opm 或更大曲率半径的凹进部分,并且该凹进部分与通过蚀刻或类似方法 光滑地形成凹进部分的情况相比具有充分地更为粗4造的内表面。相应地,除了上述效果之外,提高了包含在中空部分(通过封闭凹进部分形 成)内的气体的气态分子和隔离衬底之间接触的机会,以促进热量更为 活跃地从气体散失到隔离衬底,结果是可容易地制造加热电阻元件, 该加热电阻元件即^f更是长时间使用之后也免于中空部分成为热源的 不利。基于本专利技术,获得了可抑制由热或负载所引起应力集中的发生以 提高耐用性以及实现足够的强度和加热效率的效果。附图说明在附图中图1为示出了根据本专利技术实施例的热敏式打印机结构的垂直截面图2为示出了根据本专利技术实施例的热敏头的前视图,其中,该热 敏头设置在图1的热敏式打印机中;图3为沿着图2的a 本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种加热电阻元件,包括: 隔离衬底; 结合到所述隔离衬底的表面上的聚热层;以及 设置在所述聚热层上的加热电阻器, 其中: 在所述隔离衬底和所述聚热层之间的结合表面的至少其中之一上,所述隔离衬底和所述聚热层的至少 其中之一在与所述加热电阻器相对的区域中设有凹进部分,以形成中空部分;以及 所述中空部分在其各个角部处具有10μm或更大的曲率半径。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:顷石圭太郎师冈利光东海林法宜佐藤义则三本木法光
申请(专利权)人:精工电子有限公司
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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