具有可再活化的粘合剂的清洁表面制造技术

本发明专利技术所公开的清洁表面包括可再活化的粘合剂以捕获和保持污垢、粉尘和碎屑，并且包括间隔元件以允许所述清洁表面在待清洁的表面之上滑移。所述可再活化的粘合剂可被洗涤干净，但一旦干燥，重新获得捕获和保持污垢、粉尘和碎屑的能力，使得可再使用所述清洁表面。所公开的清洁表面组合了使用粘合剂以大大提高捕获污垢、粉尘和碎屑的能力，且同时可再使用。所述可再活化的粘合剂为可再活化的压敏粘合剂，所述可再活化的压敏粘合剂为聚合前体，所述聚合前体包含单体组分、至少2.0phr的疏水性二氧化硅、一种或多种聚合引发剂、一种或多种交联剂化合物，并且所述聚合前体基本上不含极性共聚单体，所述单体组分包含一种或多种丙烯酸烷基酯，所述一种或多种丙烯酸烷基酯的烷基具有平均4-14个C原子。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术所公开的清洁表面包括可再活化的粘合剂以捕获和保持污垢、粉尘和碎屑，并且包括间隔元件以允许所述清洁表面在待清洁的表面之上滑移。所述可再活化的粘合剂可被洗涤干净，但一旦干燥，重新获得捕获和保持污垢、粉尘和碎屑的能力，使得可再使用所述清洁表面。所公开的清洁表面组合了使用粘合剂以大大提高捕获污垢、粉尘和碎屑的能力，且同时可再使用。所述可再活化的粘合剂为可再活化的压敏粘合剂，所述可再活化的压敏粘合剂为聚合前体，所述聚合前体包含单体组分、至少2.0phr的疏水性二氧化硅、一种或多种聚合引发剂、一种或多种交联剂化合物，并且所述聚合前体基本上不含极性共聚单体，所述单体组分包含一种或多种丙烯酸烷基酯，所述一种或多种丙烯酸烷基酯的烷基具有平均4-14个C原子。【专利说明】具有可再活化的粘合剂的清洁表面
技术介绍
本专利技术涉及一种具有可再活化的粘合剂的清洁表面。特别地，本专利技术涉及一种具有可再活化的粘合剂和间隔元件的清洁表面。布料、擦拭物、拖把用于擦拭和清洁覆盖有污垢、粉尘和碎屑的表面。通常，大多数布料、擦拭物和拖把不能有效捕获和保留大大小小的污垢和碎屑粒子。已开发如美国专利7，691，760中所示的清洁片，其在清洁片的工作表面上包括粘合剂，以协助保留污垢和碎屑粒子。地板清洁系统的另一设计，如美国专利7，757，334中所示，包括协助保留污垢和碎屑粒子的粘合剂片材的叠堆，并具有上覆的框架以允许间隔粘合剂片材与进行清洁的表面。然而，对于两种设计，一旦粘合剂负载，则片材不再能够保留粒子并被废弃。
技术实现思路
本专利技术所公开的清洁表面包括可再活化的粘合剂以捕获和保持污垢、粉尘和碎屑，并且包括间隔元件以允许清洁表面在待清洁的表面之上滑移。可再活化的粘合剂可被洗涤干净，但一旦干燥，重新获得捕获和保持污垢、粉尘和碎屑的能力，从而可再使用清洁表面。所公开的清洁表面组合了使用粘合剂以大大提高污垢、粉尘和碎屑的捕获的能力，且同时可再使用。在一个实施例中，清洁表面包括凸起部分和凹入部分，凸起部分包括隔离物，凹入部分包括可再活化的压敏粘合剂。可再活化的压敏粘合剂为聚合前体，聚合前体包含单体组分、至少约2.0phr的疏水性二氧化硅、一种或多种聚合引发剂、一种或多种交联剂化合物，并且聚合前体基本上不含极性共聚单体，单体组分包含一种或多种丙烯酸烷基酯，一种或多种丙烯酸烷基酯的烷基具有平均4-14个C原子。在一个实施例中，隔离物包括上覆可再活化的压敏粘合剂的开孔清洁片。在一个实施例中，清洁表面包括清洁擦拭物，清洁擦拭物包括凸起部分和凹入部分，凹入部分包括可再活化的压敏粘合剂。在一个实施例中，清洁表面为清洁工具的一部分，清洁工具的一部分包括凸起部分和凹入部分，凹入部分包括可再活化的压敏粘合剂。在一个实施例中，隔离物可从可再活化的压敏粘合剂去除。在一个实施例中，可再活化的压敏粘合剂可被洗涤干净，但一旦干燥，则重新获得捕获和保持污垢、粉尘和碎屑的能力。在一个实施例中，可再活化的压敏粘合剂包含4至25phr之间的疏水性二氧化娃。在一个实施例中，相对于粘合剂的前体的质量，丙烯酸烷基酯的浓度为75重量％或更高。在一个实施例中，交联剂化合物具有如下浓度，浓度产生可通过使用浓度为0.15phr或更高的三丙二醇二丙烯酸酯作为参照交联剂化合物而获得的交联密度。在一个实施例中，凸起部分占清洁表面积的至少25%。在一个实施例中，凸起部分从凹入部分延伸至少1mm。【专利附图】【附图说明】图1为清洁表面的透视图；图2为图1的清洁表面的分解透视图；图3为图1的清洁表面的侧视图；图4为清洁表面的第二实施例的透视图；图5为应用于清洁工具的图4的清洁表面的透视图；图6为清洁表面的第三实施例的透视图。虽然以上说明的附图和图片示出了本专利技术的一些实施例，但正如讨论中所指出的那样，还可以想到其他的实施例。在所有情况下，本专利技术仅示例性而非限制性地展示了本专利技术。应当理解，本领域的技术人员可以设计出许多其他的修改和实施例，这些修改和实施例落入本专利技术的范围和精神内。附图可未按比例绘制。【具体实施方式】清洁表面10包括凸起部分12和凹入部分14，凸起部分12包括间隔物30，凹入部分14包括可再活化的压敏粘合剂20。清洁表面10为旨在与待清洁的表面接触的表面，并能够捕获和保留污垢、粉尘和碎屑。清洁表面10可为用于清洁工具40的组件的一部分，如图1-3所示和描述。清洁表面10可为可独立地使用或应用于清洁工具的擦拭物、布料或膜状结构，如图4-5所示和描述。清洁表面10可为清洁工具40的一部分，如图6所示和描述。清洁表面10上的隔离物30提供了在待清洁的表面与包含粘合剂20的清洁表面10的部分之间的距离。如果粘合剂20完全接触待清洁的表面，则清洁表面10将过于强烈地附接至被清洁的表面而不会滑移。隔离物30可有助于防止粘合剂20与待清洁的表面完全接触。此外，隔离物30通常从待清洁的表面提升整个清洁表面10，由此暴露清洁表面10的更大面积，特别是更大的包含粘合剂的面积，以用于接收粉尘和碎屑。存在至少一个隔离物30。然而，在一些实施例中，存在多个隔离物30。隔离物30可以以多种方式在清洁表面10上布置。隔离物30可为在整个清洁表面10上的互连网络，如图1-3所示。这种互连网络可为具有矩形、圆形或装饰性形状的孔的网格。隔离物30可独立地设置于清洁表面10上，如图4-5和图6所示。隔离物30可为与预期擦拭方向平行、垂直或正交设置的衬垫，或可为波状、锯齿状、螺旋状或简单地装饰性的。如果包括多个隔离物30，则隔离物30本身可彼此平行或可以任何其他非平行方式设置。隔离物30可为可去除地连接至清洁表面10，如图1-3所示。通常，为了易于使用，互连网络设置的隔离物30 (如擦拭物)可以此方式连接至清洁表面10。隔离物30可永久连接至清洁表面10，如图4-5和6所示。在一个实施例中，隔离物30为永久固定至清洁表面10的单独的结构，如图4-5所示。在一个实施例中，隔离物30从清洁表面10的一部分一体化形成，如图6所示。由于隔离物30与待清洁的表面直接接触，因此优选地，隔离物为具有不损坏待清洁的表面的材料。对于清洁硬质表面，隔离物30通常为适形的开放材料，适形的开放材料本身可捕获和保留粉尘和碎屑，并允许在硬质表面之上滑移。对于清洁软质织物状表面(如地毯)，则隔离物应该为平滑的低摩擦表面，以允许在待清洁的表面上平滑滑移。可用于隔离物30的材料的例子为非织造织物、织造织物、针织织物、泡沫、海绵、纱、成排的刚毛、挤出聚合物。对于挤出的股线，合适的材料包括聚丙烯、聚乙烯或烯烃共聚物和其他热塑性塑料。隔离物的横截面可为诸如圆形、椭圆形、矩形的形状。在清洁表面10处的可再活化的压敏粘合剂20为粘性的，以从待清洁的表面捕获和保留污垢、粉尘和碎屑。压敏粘合剂20为可再活化的，这意味着粘合剂可被洗涤干净，但一旦干燥，重新获得捕获和保留污垢、粉尘和碎屑的能力。因此，可再使用可再活化的压敏粘合剂20。合适的粘合剂20公开于欧洲专利0736585中，专利的公开内容以引用方式并入本文，其部分如下。合适的可再活化的压敏粘合剂用于可得自明尼苏达州圣保罗的3M公司(3M Company, St.Paul MN)的 Scotch? Mountin本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洁表面，包括：凸起部分，所述凸起部分包括隔离物；凹入部分，所述凹入部分包括可再活化的压敏粘合剂；其中所述可再活化的压敏粘合剂为聚合前体，所述聚合前体包含单体组分、至少约2.0phr的疏水性二氧化硅、一种或多种聚合引发剂、一种或多种交联剂化合物，并且所述聚合前体基本上不含极性共聚单体，所述单体组分包含一种或多种丙烯酸烷基酯，所述一种或多种丙烯酸烷基酯的烷基具有平均4‑14个C原子。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：斯科特·J·图曼，斯考特·D·皮尔森，利奥伊德·S·瓦西拉科斯，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US