本发明专利技术实施例公开了一种彩膜基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，在保证显示装置具有高的开口率和分辨率的情况下，防止显示装置出现混色现象。该彩膜基板，包括彩色滤光层，所述彩色滤光层包括呈矩阵分布的至少两种颜色的彩色滤光单元，相邻的所述彩色滤光单元之间设置有黑矩阵，所述彩膜基板还包括：位于所述黑矩阵所在区域的挡光凸起，以防止不同颜色的所述彩色滤光单元之间发生混色。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术实施例公开了一种彩膜基板及其制作方法、显示装置，涉及显示
，在保证显示装置具有高的开口率和分辨率的情况下，防止显示装置出现混色现象。该彩膜基板，包括彩色滤光层，所述彩色滤光层包括呈矩阵分布的至少两种颜色的彩色滤光单元，相邻的所述彩色滤光单元之间设置有黑矩阵，所述彩膜基板还包括：位于所述黑矩阵所在区域的挡光凸起，以防止不同颜色的所述彩色滤光单元之间发生混色。【专利说明】彩膜基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
显示装置通常包括阵列基板、彩膜基板。具体地，阵列基板上设置有阵列排布的像素单元，像素单元包括像素电极，参照图1所示，彩膜基板上设置有彩色滤光层1’，彩色滤光层I’包括红色滤光单元11’、绿色滤光单元12’和蓝色滤光单元13’，相邻的彩色滤光单元之间设置有黑矩阵2’。显示面板的制作过程包括制作阵列基板、制作彩膜基板以及阵列基板和彩膜基板对盒等步骤。阵列基板和彩膜基板在对盒时容易出现对位误差，示例性地，如图1所示，当彩膜基板相对于阵列基板向右偏移时，彩色滤光层I’相对于像素电极3’向右偏移，使得从图中所示的侧视角可以同时观察到通过彩色滤光层I’的红色滤光单元11’和绿色滤光单元12’的光线(图1中带箭头的实线所示)，即显示装置出现混色现象。目前，通常通过增加黑矩阵2’的横向宽度或者增加相邻两个像素单元内的像素电极3’之间的距离等方法来防止混色现象的出现。专利技术人发现，增加黑矩阵2’的横向宽度会降低显示装置的开口率；增加相邻两个像素单元内的像素电极3’之间的距离会降低显示装置的分辨率。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于提供一种彩膜基板及其制作方法、显示装置，在保证显示装置具有高的开口率和分辨率的情况下，防止显示装置出现混色现象。为解决上述技术问题，本专利技术实施例提供了一种彩膜基板，采用如下技术方案:—种彩膜基板，包括彩色滤光层，所述彩色滤光层包括呈矩阵分布的至少两种颜色的彩色滤光单元，相邻的所述彩色滤光单元之间设置有黑矩阵，所述彩膜基板还包括:位于所述黑矩阵所在区域的挡光凸起，以防止不同颜色的所述彩色滤光单元之间发生混色。所述挡光凸起的横向宽度小于或者等于所述黑矩阵的横向宽度。所述挡光凸起的纵向长度大于或等于所述彩色滤光层的纵向最大长度。可选地，所述挡光凸起直接形成于所述黑矩阵上，所述挡光凸起的材质与所述黑矩阵的材质相同。可选地，所述挡光凸起与所述黑矩阵之间设置有隔离层。进一步地，所述彩膜基板还包括位于所述隔离层上的隔垫物，所述挡光凸起的材质与所述隔垫物的材质相同。所述隔垫物包括主隔垫物和副隔垫物，所述主隔垫物的高度大于或等于所述副隔垫物的高度，所述挡光凸起的高度小于或等于所述副隔垫物的高度。可选地，所述黑矩阵包括多行横向设置的第一黑矩阵部分和多列纵向设置的第二黑矩阵部分，相邻两行所述第一黑矩阵部分之间的间距大于或等于相邻两列所述第二黑矩阵部分之间的间距，所述挡光凸起位于所述第二黑矩阵部分所在区域。本专利技术实施例提供了一种彩膜基板，该彩膜基板包括彩色滤光层，彩色滤光层包括呈矩阵分布的至少两种颜色的彩色滤光单元，相邻的彩色滤光单元之间设置有黑矩阵。上述彩膜基板还包括位于黑矩阵所在区域的挡光凸起，以防止不同颜色的彩色滤光单元之间发生混色。具体地，当阵列基板和彩膜基板之间存在对位误差时，彩膜基板上的挡光凸起将产生混色现象的光线遮挡住，因此，只能观察到一种颜色，进而防止显示装置出现混色现象，同时，由于挡光凸起位于黑矩阵上，因此，挡光凸起的设置不会降低显示装置的开口率和分辨率。本专利技术实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括以上任一项所述的彩膜基板。为了进一步解决上述技术问题，本专利技术实施例还提供了一种彩膜基板的制作方法，采用如下技术方案:一种彩膜基板的制作方法包括:在衬底基板上形成包括彩色滤光层、黑矩阵和挡光凸起的图形；其中，所述彩色滤光层包括呈矩阵分布的至少两种颜色的彩色滤光单元；所述黑矩阵位于相邻的所述彩色滤光单元之间；所述挡光凸起位于所述黑矩阵所在区域，以防止不同颜色的所述彩色滤光单元之间发生混色。所述挡光凸起的横向宽度小于或者等于所述黑矩阵的横向宽度。所述挡光凸起的纵向长度大于或等于所述彩色滤光层的纵向最大长度。可选地，所述在衬底基板上形成包括彩色滤光层、黑矩阵和挡光凸起的图形，包括:在所述衬底基板上形成所述彩色滤光层的图形；在形成了所述彩色滤光层的图形的所述衬底基板上形成一层黑色感光树脂，经过一次构图工艺，同时形成包括所述黑矩阵和所述挡光凸起的图形，且所述挡光凸起直接形成于所述黑矩阵上。可选地，所述在衬底基板上形成包括彩色滤光层、黑矩阵和挡光凸起的图形，包括:形成所述黑矩阵的图形；形成所述彩色滤光层的图形；在形成了所述彩色滤光层和所述黑矩阵的图形的所述衬底基板上，形成隔离层；在所述隔离层上形成包括所述挡光凸起的图形。进一步地，所述在所述隔离层上形成包括所述挡光凸起的图形，包括:在所述隔离层上形成一层不透光的感光树脂材料，经过一次构图工艺，同时形成包括所述挡光凸起和隔垫物的图形。进一步地，，所述在所述隔离层上形成一层不透光的感光树脂材料，经过一次构图工艺，同时形成包括所述挡光凸起和隔垫物的图形，包括:在所述隔离层上形成一层不透光的感光树脂材料，经过一次构图工艺，同时形成包括所述挡光凸起、主隔垫物和副隔垫物的图形；所述主隔垫物的高度大于或等于所述副隔垫物的高度，所述挡光凸起的高度小于或等于所述副隔垫物的高度。可选地，在衬底基板上形成包括所述黑矩阵和挡光凸起的图形，包括:在所述衬底基板上形成黑矩阵的图形，所述黑矩阵包括多行横向设置的第一黑矩阵部分和多列纵向设置的第二黑矩阵部分，相邻两行所述第一黑矩阵部分之间的间距大于或等于相邻两列所述第二黑矩阵部分之间的间距；在所述第二黑矩阵部分所在区域上形成所述挡光凸起的图形。本专利技术实施例提供了一种彩膜基板的制作方法，该制作方法包括在衬底基板上形成包括彩色滤光层、黑矩阵和挡光凸起的图形，其中，彩色滤光层包括呈矩阵分布的至少两种颜色的彩色滤光单元，黑矩阵位于相邻的彩色滤光单元之间，挡光凸起位于黑矩阵所在区域，以防止不同颜色的所述彩色滤光单元之间发生混色。具体地，当阵列基板和彩膜基板之间存在对位误差时，彩膜基板上的挡光凸起将产生混色现象的光线遮挡住，因此，只能观察到一种颜色，进而防止显示装置出现混色现象，同时，由于挡光凸起位于黑矩阵上，因此，挡光凸起的设置不会降低显示装置的开口率和分辨率。【专利附图】【附图说明】为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术中存在对位误差的彩膜基板和阵列基板的示意图；图2为本专利技术实施例中的第一种彩膜基板的平面示意图；图3为本专利技术实施例中图2所示的彩膜基板的A-A’截面示意图；图4为本专利技术实施例中的第二种彩膜基板的截面示意图；图5为本专利技术实施例中的ADS TFT-1XD的存在对位误差的彩膜基板和阵列基板的示意图本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种彩膜基板，包括彩色滤光层，所述彩色滤光层包括呈矩阵分布的至少两种颜色的彩色滤光单元，相邻的所述彩色滤光单元之间设置有黑矩阵，其特征在于，所述彩膜基板还包括：位于所述黑矩阵所在区域的挡光凸起，以防止不同颜色的所述彩色滤光单元之间发生混色。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：杨小飞，樊浩原，莫再隆，石天雷，朴承翊，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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