蚀刻掩模用组合物及图案形成方法技术

本发明专利技术提供使将蚀刻掩模用组合物印刷于太阳能电池用基板时的印刷性提高的太阳能电池用基板的蚀刻掩模用组合物。本发明专利技术的一个方案的太阳能电池用基板的蚀刻掩模用组合物为非感光性，其包含酚醛树脂(A)100质量份、SiO2粒子(B)20～100质量份及溶剂(C)。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供使将蚀刻掩模用组合物印刷于太阳能电池用基板时的印刷性提高的太阳能电池用基板的蚀刻掩模用组合物。本专利技术的一个方案的太阳能电池用基板的蚀刻掩模用组合物为非感光性，其包含酚醛树脂(A)100质量份、SiO2粒子(B)20～100质量份及溶剂(C)。【专利说明】
本专利技术涉及作为蚀刻太阳能电池用基板时的掩模剂来使用的蚀刻掩模用组合物。
技术介绍
在太阳能电池制造工序中，对基板进行部分地蚀刻处理时使用了掩模剂。以往，在该工序中使用光致抗蚀剂，但是目前为了削减工序数而研究了印刷型抗蚀剂的应用。作为对太阳能电池用基板进行蚀刻处理时的蚀刻液，使用氢氟酸、硝酸等强酸。因此，作为印刷型抗蚀剂所要求的特性，需要实现对蚀刻时的蚀刻液的耐酸性以及基于印刷法的图案形成。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开平9-293888号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题在以往的印刷型抗蚀剂中，在确保充足的耐酸性、同时忠实地再现印刷设计而形成良好图案的方面，具有改善的余地。另外，对于实施连续印刷时的印刷稳定性也有改善的余地。本专利技术是鉴于这样的课题而完成的，其目的在于提供能够提高将蚀刻掩模用组合物印刷于太阳能电池用基板时的印刷性的技术。用于解决课题的方案本专利技术的一个方案为一种蚀刻掩模用组合物。该蚀刻掩模用组合物是包含酚醛树月旨(A) 100质量份、SiO2粒子(B) 20?100质量份及溶剂(C)的非感光性的太阳能电池用基板的蚀刻掩模用组合物。根据上述方案的蚀刻掩模用组合物，可以提高印刷于太阳能电池用基板时的印刷性。上述方案的蚀刻掩模用组合物中，溶剂(C)可以包含沸点为190°C以上的溶剂(Cl)。SiO2粒子⑶可以为亲水性。另外，还可以具备硅系、丙烯酸系或氟系的表面活性剂Φ)。本专利技术的另一个方案是一种图案形成方法。该图案形成方法包括:使用上述任意一个方案的太阳能电池用基板的蚀刻掩模用组合物，利用印刷法在基板上形成掩模图案的工序；烘烤掩模图案的工序；对基板进行蚀刻并转印掩模图案的工序；以及除去掩模图案的工序。专利技术效果根据本专利技术，可以提高将蚀刻掩模用组合物印刷于太阳能电池用基板时的耐酸性及印刷性。【专利附图】【附图说明】图1(A)?图1(C)是表示基板上的图案形成工序的概略剖面图。【具体实施方式】实施方式所述的蚀刻掩模用组合物为非感光性，其适合用作对太阳能电池用基板进行部分地蚀刻处理时所使用的蚀刻掩模。实施方式所述的蚀刻掩模用组合物包含酚醛树脂(A) 100质量份、SiO2粒子(B) 20?100质量份、及溶剂(C)。以下，对实施方式所述的蚀刻掩模用组合物的各成分进行详细说明。作为酚醛树脂(A)，可列举出使下述例示的酚类与下述例示的醛类在盐酸、硫酸、蚁酸、草酸、对甲苯磺酸等酸性催化剂下进行反应而得到的酚醛树脂等。作为酚类，例如可列举出:苯酚；间甲酚、对甲酚、邻甲酚等甲酚类；2，3_ 二甲苯酚、2，5-二甲苯酚、3，5-二甲苯酚、3，4_ 二甲苯酚等二甲酚类；间乙基苯酚、对乙基苯酚、邻乙基苯酚、2，3，5-三甲基苯酚、2，3，5-三乙基苯酚、4-叔丁基苯酚、3-叔丁基苯酚、2-叔丁基苯酚、2-叔丁基-4-甲基苯酚、2-叔丁基-5-甲基苯酚等烷基苯酚类；对甲氧基苯酚、间甲氧基苯酚、对乙氧基苯酚、间乙氧基苯酚、对丙氧基苯酚、间丙氧基苯酚等烷氧基苯酚类；邻异丙烯基苯酚、对异丙烯基苯酚、2-甲基-4-异丙烯基苯酚、2-乙基-4-异丙烯基苯酚等异丙烯基苯酹类；苯基苯酹等的芳基苯酹类；4,4’ -二轻基联苯、双酹A、间苯二酹、对苯二酚、连苯三酚等多羟基苯酚类等。这些物质可以单独使用，也可以组合两种以上使用。在这些酚类中，特别优选间甲酚、对甲酚。作为醛类，例如可列举出甲醛、多聚甲醛、三聚甲醛、乙醛、丙醛、丁醛、三甲基乙醛、丙烯醛、巴豆醛、环己醛、糠醛、呋喃基丙烯醛、苯甲醛、对苯二甲醛、苯乙醛、α-苯基丙醛、β -苯基丙醛、邻羟基苯甲醛、间羟基苯甲醛、对羟基苯甲醛、邻甲基苯甲醛、间甲基苯甲醛、对甲基苯甲醛、邻氯苯甲醛、间氯苯甲醛、对氯苯甲醛、肉桂醛等。这些物质可以单独使用，也可以组合两种以上使用。在这些醛类中，从获得容易性出发，优选甲醛。酚醛树脂㈧可以由一种酚醛树脂形成，也可以由两种以上的酚醛树脂形成。在酚醛树脂(A)由两种以上的酚醛树脂形成的情况下，各个酚醛树脂的Mw没有特别限定，优选调制成以酚醛树脂(A)整体计的Mw为1000?100000。此外，在蚀刻掩模用组合物中的溶剂(C)以外的成分(固体成分)中优选含有20?80质量％的酚醛树脂(A)，更优选为60?80质量％。作为以上说明的酚醛树脂(A)中所通用的特性，可列举出耐酸性优异。相对于酹醒树脂⑷100质量份，SiO2粒子⑶的含量为20?100质量份。如果相对于酚醛树脂(A) 100质量份而使SiO2粒子⑶的含量少于20质量份，则变得难以得到充分的印刷性。另一方面，如果相对于酚醛树脂(A) 100质量份而使SiO2粒子(B)的含量多于100质量份，则变得难以确保充分的耐酸性。SiO2粒子(B)的平均粒径优选为7nm?30nm。如果SiO2粒子(B)的平均粒径小于7nm,则粒子变得容易凝聚。另一方面,如果SiO2粒子(B)的平均粒径大于30nm，则增稠性、触变性降低。另外，优选使SiO2粒子(B)为亲水性。此处所说的“亲水性”是指在粒子表面具有羟基(0H基)。通过使SiO2粒子(B)为亲水性，从而可以提闻印刷精度。以蚀刻掩模用组合物整体作为基准，溶剂(C)的含量优选为30?70质量％。溶剂(C)优选包含沸点为190°C以上的溶剂(Cl)。作为溶剂(Cl)的具体例，可列举出乙二醇、己二醇、丙二醇二乙酸酯、1，3-丁二醇二乙酸酯、二乙二醇、二丙二醇、二乙二醇单甲基醚、二乙二醇单乙基醚、二乙二醇单丙基醚、二乙二醇单丁基醚、二乙二醇单苯基醚、二乙二醇二乙基醚、二丙二醇单甲基醚、三丙二醇单甲基醚、乙二醇单丁基醚乙酸酯、乙二醇单苯基醚乙酸酯、二乙二醇单甲基醚乙酸酯、二乙二醇单乙基醚乙酸酯、二乙二醇单丙基醚乙酸酯、二乙二醇单苯基醚乙酸酯、二丙二醇单甲基醚乙酸酯、二乙二醇单丁基醚乙酸酯、甘油、苄醇、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯、3-乙基-3-甲氧基丁基乙酸酯、2-甲氧基戊基乙酸酯、3-甲氧基戊基乙酸酯、4-甲氧基戊基乙酸酯、2-甲基-3-甲氧基戊基乙酸酯、3-甲基-3-甲氧基戊基乙酸酯、3-甲基-4-甲氧基戊基乙酸酯、4-甲基-4-甲氧基戊基乙酸酯、二己基醚、乙酸苄基酯、苯甲酸乙酯、马来酸二乙酯、Y-丁内酯、萜品醇等。这些溶剂可以单独使用，也可以组合两种以上使用。实施方式所述的蚀刻掩模用组合物还可以包含上述的溶剂(Cl)以外的溶剂。其中，溶剂(Cl)相对于全部溶剂的含量为70质量％以上，更优选为90质量％以上。作为溶剂(Cl)以外的溶剂(沸点小于190°C的溶剂(C2))，可列举出:环己酮、甲基正戊基酮、甲基异戊基酮、2-庚酮等酮类；乙二醇、丙二醇等多元醇类；丙二醇单甲基醚乙酸酯(PGMEA)、丙二醇单甲基醚(PGME)、二丙二醇二甲基醚、丙二醇丙基醚等多元醇类的衍生物；其他的乙酸丁酯、乙酰乙酸乙酯、乳酸丁酯、草酸二乙酯等酯类。其中，优选丙二醇单甲基醚乙酸酯、2-庚酮、乙酸丁酯本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种非感光性的太阳能电池用基板的蚀刻掩模用组合物，其包含：酚醛树脂(A)100质量份、SiO2粒子(B)20～100质量份、及溶剂(C)。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：吉井靖博，
申请(专利权)人：东京应化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP