HDD用玻璃基板的制造方法、HDD用玻璃基板以及HDD用磁记录介质技术

本发明专利技术提供一种即使用于搭载在具备DFH头机构的HDD的HDD用磁记录介质，也能够抑制头碰撞发生的HDD用玻璃基板的制造方法、HDD用玻璃基板以及HDD用磁记录介质。HDD用玻璃基板的制造方法包括将玻璃基板浸渍于化学强化处理液以便对玻璃基板实施化学强化处理的化学强化工序，在化学强化工序中，改变浸渍于化学强化处理液的玻璃基板在化学强化处理液中的姿势、使化学强化处理液的温度分布均匀化、以及/或者搅拌化学强化处理液，以使化学强化工序前后的玻璃基板的周向的TIR的增加量为0.5μm以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】HDD用玻璃基板的制造方法、HDD用玻璃基板以及HDD用磁记录介质
本专利技术涉及一种HDD用玻璃基板的制造方法、HDD用玻璃基板以及HDD用磁记录介质。
技术介绍
一般，作为具有利用磁、光、光磁等的性质的记录层的信息记录介质的代表性的记录介质已知有HDD(harddiskdrive：硬盘驱动器)用磁记录介质。作为用于制造HDD用磁记录介质的HDD用基板，以往广泛使用铝基板。但是，近年来伴随着为了提高记录密度降低磁头悬浮量的要求，将能够实现磁头悬浮量降低的玻璃基板用作HDD用基板的比例在增加，这是因为玻璃基板与铝基板相比表面平滑性优良，并且表面缺陷少。搭载于笔记本型个人计算机等移动设备的HDD用磁记录介质需要使用耐冲击性的基板，因此，例如专利文献1所公开的那样，常用通过实施化学强化处理提高了耐冲击性的玻璃基板。但是，近年来，高密度记录化进展，预计会出现例如2.5英寸的1张记录介质的记录容量为500GB、面记录密度为630Gb/平方英寸以上的HDD用磁记录介质。随之，头机构的改进也在进展，称为DFH(dynamicflyingheight：动态飞行高度)的头机构已为公知。DFH是在磁头的安装位置使用特殊的金属，通过金属的热膨胀使磁头向记录介质突出微小距离的技术。在这种DFH头机构中，磁头与记录介质的间隙小至几nm左右，容易发生因磁头对记录介质表面的跟踪不良引起的头碰撞(headcrash)。先行技术文献专利文献专利文献1：日本专利公开公报特开2001-167427号
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种即使用于如搭载在具备DFH头机构的HDD上那样的、面记录密度高的HDD用磁记录介质，也能够抑制头碰撞发生的HDD用玻璃基板的制造方法、利用该制造方法制造的HDD用玻璃基板以及使用该HDD用玻璃基板的HDD用磁记录介质。即，本专利技术一个方面涉及HDD用玻璃基板的制造方法，该制造方法包括将玻璃基板浸渍于化学强化处理液，以便对玻璃基板实施化学强化处理的化学强化工序，其中，使化学强化工序前后的玻璃基板的周向的TIR(totalindicatedrunout：总指示偏差量)的增加量为0.5μm以下。本专利技术另一个方面涉及利用上述的HDD用玻璃基板的制造方法制得的HDD用玻璃基板。本专利技术另外一方面涉及在上述的HDD用玻璃基板的主表面上形成记录层而制得的HDD用磁记录介质。上述以及其它本专利技术的目的、特征以及优点会通过以下详细的记载和附图变得清楚。附图说明图1是本专利技术的实施方式所涉及的HDD用玻璃基板的制造工序图。图2是表示第1及第2研磨工序中使用的双面研磨机的主要部的结构的局部侧视图。图3是沿着图2的III-III线的向视图，是下平板和支架的俯视图。图4是表示第1抛光工序中使用的奥斯卡抛光机的主要部的结构的纵剖视图。图5(a)是配置有松缓地嵌合了玻璃基板的环状夹具的奥斯卡抛光机的下抛光盘的俯视图，图5(b)是松缓地嵌合了玻璃基板的环状夹具的放大水平剖视图。图6(a)、图6(b)、图6(c)是表示奥斯卡抛光抛光机的动作的俯视图。图7(a)是用于在化学强化工序中支撑玻璃基板的支架的立体图，图7(b)是支架的侧视图。图8(a)、图8(b)、图8(c)、图8(d)是在以往的化学强化工序中进行的化学强化处理的流程图。图9(a)是表示化学强化处理前的玻璃基板的表面形状的立体图，图9(b)是表示进行了以往的化学强化处理后的玻璃基板的表面形状的立体图。图10(a)是化学强化处理前的玻璃基板主表面的高低映射图(map)，图10(b)是进行了以往的化学强化处理后的玻璃基板主表面的高低映射图，图10(c)是将化学强化处理前后的玻璃基板的周向的TIR进行比较表示的说明图。图11(a)、图11(b)、图11(c)、图11(d)、图11(e)是本专利技术的实施方式所涉及的化学强化工序中进行的化学强化处理(具体方法之一)的流程图。图12(a)、图12(b)、图12(c)是用于说明通过具体的方法之一得到的作用的玻璃基板主表面的高低映射图。图13(a)、图13(b)、图13(c)、图13(d)是在本专利技术的实施方式所涉及的化学强化工序中进行的化学强化处理(具体方法之二及之三)的流程图。图14(a)、图14(b)是用于说明通过具体方法之二或之三得到的作用的玻璃基板主表面的高低映射图。图15是本专利技术的实施方式所涉及的HDD用玻璃基板的立体图。具体实施方式下面，参照附图来说明本专利技术的实施方式。但本专利技术并不限定于该实施方式。本专利技术人着眼于在HDD的运行中，由于磁头在记录介质的周向上的旋转速度与在记录介质的径向上移动的移动速度相比足够大，因此，为了抑制头碰撞的发生，重要的是抑制记录介质的周向的表面状态的变动。而且，基于该观点，发现作为记录介质的表面的平坦度的指标的TIR(totalindicatedrunout)在记录介质的周向上小是有效的。然后，本专利技术人得出为了耐冲击性的提高等而进行的化学强化处理使玻璃基板的周向的TIR恶化的见解而完成了本专利技术。并且，本专利技术人还得出如下见解而完成了本专利技术，即，化学强化处理使玻璃基板的周向的TIR恶化的原因在于，浸渍玻璃基板的化学强化处理液的温度偏差、浓度偏差或异物的混入等、包围玻璃基板的环境由于各种要因不同而不一样，因此化学强化处理前后的玻璃基板的表面形状不均匀地变化。<HDD用玻璃基板的制造方法>参照图1所示的工序图来说明HDD用玻璃基板的制造方法。[玻璃熔融工序]首先，在玻璃熔融工序中，使玻璃原材料熔融。作为玻璃基板的材料，例如能够使用以SiO2、Na2O、CaO为主成分的钠钙玻璃(sodalimeglass)；以SiO2、Al2O3、R2O(R＝K、Na、Li)为主成分的铝硅酸盐玻璃；硼硅酸盐玻璃；Li2O-SiO2系玻璃；Li2O-Al2O3-SiO2系玻璃；R’O-Al2O3-SiO2系玻璃(R’＝Mg、Ca、Sr、Ba)等。这些材料中，铝硅酸盐玻璃或硼硅酸盐玻璃由于耐冲击性、耐振动性优良而尤其优选。[成型工序]接着，在成型工序中，使熔融的玻璃原材料流入下模，通过上模进行冲压成型得到圆板状的玻璃基板(将其称为坯料)。此外，坯料不限于通过冲压成型来制作，也可以通过用砂轮切割以下拉法、浮法等形成的薄片玻璃来制作。玻璃基板、即坯料的大小没有限定。例如能够制作外径为2.5英寸、1.8英寸、1英寸、0.8英寸等的各种大小的玻璃基板。在玻璃基板的厚度上也没有限定。例如能够制作2mm、1mm、0.8mm、0.63mm等各种厚度的玻璃基板。[热处理工序]接着，在热处理工序中，将通过冲压成型或切割制作的玻璃基板与耐热构件的定型器(setter)交替地层叠，并使其经过高温的电炉，由此促进玻璃基板的翘曲的降低或玻璃的结晶化。[第1研磨工序]接着，在第1研磨工序中，对玻璃基板的两表面进行研磨加工，对玻璃基板的平行度、平坦度以及厚度进行预调。[取芯加工工序]接着，在取芯加工工序中，在第1研磨工序后的玻璃基板的中心部形成圆形的孔。开孔例如能够通过用在切割部具备金刚石砂轮等的取芯钻等进行研磨来进行。[内、外径加工工序]接着，在内、外径加工工序中，通过例如用金刚石等的鼓状砂轮对玻璃基板的外周端面和内周端面进行研磨，由此进行内、外径加工。[本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种HDD用玻璃基板的制造方法，其特征在于包括：化学强化工序，将玻璃基板浸渍于化学强化处理液，以便对玻璃基板实施化学强化处理，其中，使化学强化工序前后的玻璃基板的周向的TIR的增加量为0.5μm以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.06.30 JP 2011-1462291.一种HDD用玻璃基板的制造方法，其特征在于包括：化学强化工序，将玻璃基板浸渍于化学强化处理液，以便对玻璃基板实施化学强化处理，其中，在所述化学强化工序中，通过改变浸渍于化学强化处理液的玻璃基板在化学强化处理液中的姿势、将化学强化处理分多次进行、使化学强化处理液的温度分布均匀化、以及搅拌化学强化处理液中的至少一种方法，使化学强化工序前后的玻璃基板的周向的TIR的增加量为0.5μm以下。2.根据权利要求1所述的HDD用玻璃基板的制造方法，其特征在于，使化学强化工序前后的玻璃基板的周向的TIR的增加量为0.3μm以下。3.根据权利要求1所述的HDD用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在化学强化工序中，改变浸渍于化学强化处理液的玻璃基板在化学强化处理液中的姿势，以使TIR的增加量为0.5μm以下。4.根据权利要求1所述的HDD用玻璃基板的制造方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：福本直之，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP