【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术涉及一种单晶炉的上炉体，包括上法兰、下法兰、炉内壁和炉外壁，所述上法兰和下法兰之间设有炉外壁和炉内壁，炉外壁上设有进水口和出水口，炉外壁和炉内壁之间设有水夹层，水夹层内设有若干个过滤板，过滤板两边与水夹层内的炉外壁和炉内壁连接固定，过滤板上开设有若干个通孔，每相邻两个过滤板上的通孔为交错对应。本技术具有结构简单，冷却效果好，使用寿命长等特点。【专利说明】单晶体的上炉体
本技术涉及单晶硅制造设备
，特别涉及一种单晶炉的上炉体。
技术介绍
单晶硅是具有完整的点阵结构的晶体，是一种良好的半导体材料，目前被广泛应用于半导体器件以及太阳能电池的制造。单晶硅使用高纯度的多晶硅在单晶炉内拉制而成的，在市场上有很广阔的前景。目前单晶硅的拉制装置为单晶炉，它是由上炉体、下炉室、上炉室、炉盖、翻板箱、副室六大部分组成，目前普遍采用的单晶炉的上炉体只有单层炉壁，由于在单晶炉的工作过程中长时间处于高温状态，会将上炉体烧坏，造成很大的损失。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种使用寿命长，能够散热的单晶炉的上炉体。实现本技术的技术方案如下:一种单晶炉的上炉体，包括上法兰、下法兰、炉内壁和炉外壁，所述上法兰和下法兰之间设有炉外壁和炉内壁，炉外壁上设有进水口和出水口，炉外壁和炉内壁之间设有水夹层,水夹层内设有若干个过滤板,过滤板两边与水夹层内的炉外壁和炉内壁连接固定,过滤板上开设有若干个通孔，每相邻两个过滤板上的通孔为交错对应。所述过滤板均布于水夹层内且相互平行，过滤板上的通孔为均匀布置，能够使水的流量均匀，充分达到吸收热量的效果。所述过滤板为耐高温的金属板...
【技术保护点】
单晶炉的上炉体，包括上法兰、下法兰、炉内壁和炉外壁，其特征在于：所述上法兰和下法兰之间设有炉外壁和炉内壁，炉外壁上设有进水口和出水口，炉外壁和炉内壁之间设有水夹层，水夹层内设有若干个过滤板，过滤板两边与水夹层内的炉外壁和炉内壁连接固定，过滤板上开设有若干个通孔，每相邻两个过滤板上的通孔为交错对应。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：潘燕萍，
申请(专利权)人：常州市天龙光电设备有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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