【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种非染料系整平剂的应用,所述整平剂的分子结构式为 其中,阴离子X=Cl‑或Br‑;R1=O或S或N;R2,R3,R4=H、烷基、烯基、芳烷基、杂芳烷基、取代烷基、取代烯基、取代芳烷基或取代杂芳烷基中的一种,其特征在于:所述整平剂应用于酸铜电镀工艺。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:董培培,马涛,张芸,
申请(专利权)人:苏州昕皓新材料科技有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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