本发明专利技术涉及液晶制程领域，公开了一种光刻胶回收装置，涂布系统和涂布方法。光刻胶回收装置，包括：第一容纳单元，用于容纳从光刻胶出胶口流出的光刻胶；空心体，其位于第一容纳单元的下方且位于上方的部分具有可单向出气的排气口；第一连接管，其位于上方的一端与第一容纳单元位于下方的部分相连通，其位于下方的一端与空心体位于上方的部分相连通；第一容纳单元内的光刻胶经第一连接管滴落至空心体内；其中，空心体用于通过可单向出气的排气口将光刻胶中的气体排出。涂布系统包括上述光刻胶回收装置。涂布方法是涂布系统的涂布方法。本发明专利技术使得在基板上形成的膜厚度均匀，同时，不仅节约了光刻胶，而且保证了回收的光刻胶的洁净度。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及液晶制程领域，特别涉及一种。
技术介绍
光刻胶的涂布是液晶制程必不可少的一种工艺。传统涂布机的涂布过程如图1所示，涂布机的喷嘴10 (即光刻胶出胶口)的吐胶量是随时间变化的。涂布机的喷嘴10在接触玻璃基板20的边缘时开始吐胶，此时的时刻用表示；喷嘴的吐胶量从零逐渐变大，直至达到稳定值，此时的时刻用表示；这样，在玻璃基板20上形成膜的起始部31。之后，喷嘴10的吐胶量保持在稳定值。涂布机的喷嘴10在快接触玻璃基板20的后边缘时停止吐胶，此时的时刻用tff±表示；喷嘴10的吐胶量从稳定值逐渐变小，直至达到零，此时的时刻用表示；这样，在玻璃基板上形成膜的结束部32。可以看出在喷嘴开始吐胶到达到稳定值和喷嘴停止吐胶到达零的时间段，喷嘴的吐胶量是变化的，因此在玻璃基板上形成的膜厚也是不均匀的，膜的不均匀会导致光刻后的图形不一致。
技术实现思路
本专利技术提供了一种光刻胶回收装置，涂布系统和涂布方法，该涂布系统使用该涂布方法进行涂布时，使得在基板上形成的膜厚度均匀，同时，不仅节约了光刻胶，而且保证了回收的光刻胶的洁净度。为达到上述目的，本专利技术提供以下技术方案:一种光刻胶回收装置,包括:第一容纳单元，用于容纳从光刻胶出胶口流出的光刻胶；空心体，其位于第一容纳单元的下方且位于上方的部分具有可单向出气的排气Π ；第一连接管，其位于上方的一端与所述第一容纳单元位于下方的部分相连通，其位于下方的一端与所述空心体位于上方的部分相连通；所述第一容纳单元内的光刻胶经所述第一连接管滴落至所述空心体内；其中，所述空心体用于在所述第一容纳单元内的光刻胶经所述第一连接管滴落至所述空心体内的过程中，通过可单向出气的排气口将光刻胶中的气体排出。优选的，所述空心体是椭圆形空心体；所述椭圆形空心体的长轴沿竖直方向。优选的，还包括第二容纳单元，其位于所述空心体的下方；第二连接管，其位于上方的一端与所述空心体位于下方的部分相连通，其位于下方的一端与所述第二容纳单元相连通；经所述第一连接管滴落的光刻胶汇集在所述空心体内，所述空心体内的光刻胶在受到足够压力的情况下，经所述第二连接管向下流动至所述第二容纳单元内。 优选的，还包括充气吸气单元，其与所述第一容纳单元相连通；在光刻胶从第一容纳单元向下流动时，所述充气吸气单元向第一容纳单元充气，所充的气体推动光刻胶向下流动；在光刻胶全部流动到第一连接管时，所述充气吸气单元从所述第一容纳单元吸气，回收气体。优选的，所述第一容纳单元还包括密封门，所述密封门可将第一开口密封。优选的，所述第一容纳单元设置有第一开口，所述第一开口可与光刻胶出胶口密封连接；所述光刻胶回收装置还包括抽气单元，其与所述第一容纳单元相连通；在光刻胶出胶口和所述第一开口密封连接后，所述抽气单元可抽取所述第一容纳单元中的气体。本专利技术还提供了以下技术方案:一种涂布系统，包括:光刻胶出胶口 ；用于放置待涂布基板的长方形机台，其包括相对设置的第一工作侧和第二工作侦牝所述光刻胶出胶口可在所述第一工作侧和第二工作侧之间往复运动以对待涂布基板进行涂布；上述任一所述的光刻胶回收装置，其设置在所述第一工作侧的一端且与所述第一工作侧相邻。优选的，所述光刻胶回收装置是两个，另一个设置在所述第二工作侧的一端且与所述第二工作侧相邻；设置有光刻胶回收装置的第一工作侧的一端与设置有光刻胶回收装置的第二工作侧的一端位于所述机台的对角线上。优选的，还包括:流量传感器，其安装在所述光刻胶出胶口 ；控制单元，其与所述流量传感器通信连接，根据流量传感器的吐胶量，控制光刻胶出胶口。本专利技术还提供了以下技术方案:一种涂布方法，包括如下步骤:将基板置于长方形机台上；将光刻胶出胶口和光刻胶回收装置的第一容纳单元的第一开口密封连接；开始出胶，光刻胶经光刻胶出胶口和第一开口流入光刻胶回收装置；在光刻胶出胶口的出胶达到稳定的数值后，光刻胶出胶口离开光刻胶回收装置的第一容纳单元的第一开口，开始对待涂布基板进行涂胶；在涂胶结束后，将光刻胶出胶口和光刻胶回收装置的第一容纳单元的第一开口密封连接，光刻胶出胶口停止出胶，光刻胶出胶口吐胶量逐渐减小，直至达到零。优选的,在光刻胶出胶口和光刻胶回收装置的第一容纳单兀的第一开口密封连接后，还包括以下步骤:抽气单元抽取第一容纳单元中的气体直至第一容纳单元中的气体浓度达到要求。优选的，在光刻胶出胶口离开光刻胶回收装置的第一容纳单元的第一开口后，还包括如下步骤:密封门将第一开口密封；充气吸气单元向第一容纳单元充气，所充的气体推动光刻胶向下流动；在光刻胶全部流动到第一连接管时，所述充气吸气单元从所述第一容纳单元吸气，回收气体。优选的，光刻胶出胶口停止出胶后，还包括以下步骤:充气吸气单元向第一容纳单元充气，所充的气体推动光刻胶向下流动；在光刻胶全部流动到第一连接管时，所述充气吸气单元从所述第一容纳单元吸气，回收气体。本专利技术提供的光刻胶回收装置，涂布系统和涂布方法，该涂布系统使用该涂布方法进行涂布时，当光刻胶出胶口的吐胶量稳定时，对基板进行涂布，使得在基板上形成的膜厚度均匀。当光刻胶出胶口的吐胶量不稳定时，光刻胶回收装置的第一容纳单元容纳从光刻胶出胶口吐出的光刻胶，再经所述第一连接管滴落至所述空心体中，在此过程中通过可单向出气的排气口将光刻胶中的气体排出。这样将光刻胶出胶口的吐胶量不稳定时所吐出的胶，进行排气后进行回收，不仅节约了光刻胶，而且保证了回收的光刻胶的洁净度。【附图说明】图1为传统涂布机的涂布过程示意图；图2为本专利技术的涂布系统的机台和光刻胶回收装置的示意图；图3为本专利技术的涂布系统的光刻胶出胶口和光刻胶回收装置的示意图；图4为本专利技术的涂布系统在光刻胶出胶口吐胶量从零逐渐变化到稳定值过程的示意图；图5为本专利技术的涂布系统的涂布过程示意图。主要元件附图标记说明:现有技术中:10喷嘴，20玻璃基板，31膜的起始部，32膜的结束部；本专利技术中:100光刻胶出胶口，200机台，210第一工作侧，220第二工作侧，300光刻胶回收装置， 310第一容纳单元，311抽气单元，312惰性气体的充气吸气单元，320排气单元，321椭圆形空心体，322可单向出气的排气口，330第二容纳单元，341第一连接管，342第二连接管，400玻璃基板。【具体实施方式】下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术的一个实施例的涂布系统，如图2和图3所示，包括:光刻胶出胶口 100;用于放置待涂布玻璃基板的长方形机台200，其包括相对设置的第一工作侧210和第二工作侧220，光刻胶出胶口可在第一工作侧210和第二工作侧220之间往复运动以对待涂布基板进行涂布；两个光刻胶回收装置300，一个设置在第一工作侧210的一端且与第一工作侧210相邻，另一个设置在第二工作侧220的一端且与第二工作侧220相邻；设置有光刻胶回收装置的第一工作侧的一端与设置有光刻胶回收装置的第二工作侧的一端位于机台200的对角线上。流量传感器，其安装在光刻胶出胶口 ；控制单元，其与流量传感器本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种光刻胶回收装置，其特征在于，包括：第一容纳单元，用于容纳从光刻胶出胶口流出的光刻胶；空心体，其位于第一容纳单元的下方且位于上方的部分具有可单向出气的排气口；第一连接管，其位于上方的一端与所述第一容纳单元位于下方的部分相连通，其位于下方的一端与所述空心体位于上方的部分相连通；所述第一容纳单元内的光刻胶经所述第一连接管滴落至所述空心体内；其中，所述空心体用于在所述第一容纳单元内的光刻胶经所述第一连接管滴落至所述空心体内的过程中，通过可单向出气的排气口将光刻胶中的气体排出。
【技术特征摘要】
1.一种光刻胶回收装置，其特征在于，包括: 第一容纳单元，用于容纳从光刻胶出胶口流出的光刻胶； 空心体，其位于第一容纳单元的下方且位于上方的部分具有可单向出气的排气口； 第一连接管，其位于上方的一端与所述第一容纳单元位于下方的部分相连通，其位于下方的一端与所述空心体位于上方的部分相连通；所述第一容纳单元内的光刻胶经所述第一连接管滴落至所述空心体内； 其中，所述空心体用于在所述第一容纳单元内的光刻胶经所述第一连接管滴落至所述空心体内的过程中，通过可单向出气的排气口将光刻胶中的气体排出。2.根据权利要求1所述的光刻胶回收装置，其特征在于，所述空心体是椭圆形空心体；所述椭圆形空心体的长轴沿竖直方向。3.根据权利要求1或2所述的光刻胶回收装置，其特征在于，还包括第二容纳单元，其位于所述空心体的下方； 第二连接管，其位于上方的一端与所述空心体位于下方的部分相连通，其位于下方的一端与所述第二容纳单元相连通；经所述第一连接管滴落的光刻胶汇集在所述空心体内，所述空心体内的光刻胶在受到足够压力的情况下，经所述第二连接管向下流动至所述第二容纳单元内。4.根据权利要求3所述的光刻胶回收装置，其特征在于，还包括充气吸气单元，其与所述第一容纳单元相连通； 在光刻胶从第一容纳单元向下流动时，所述充气吸气单元向第一容纳单元充气，所充的气体推动光刻胶向下流动； 在光刻胶全部流动到第一连接管时，所述充气吸气单元从所述第一容纳单元吸气，回收气体。5.根据权利要求4所述的光刻胶回收装置，其特征在于，所述第一容纳单元还包括密封门，所述密封门可将第一开口密封。6.根据权利要求5所述的光刻胶回收装置，其特征在于，所述第一容纳单元设置有第一开口，所述第一开口可与光刻胶出胶口密封连接； 所述光刻胶回收装置还包括抽气单元，其与所述第一容纳单元相连通；在光刻胶出胶口和所述第一开口密封连接后，所述抽气单元可抽取所述第一容纳单元中的气体。7.一种涂布系统，其特征在于，包括: 光刻胶出胶口； 用于放置待涂布基板的长方形机台，其包括相对设置的第一工作侧和第二工作侧，所述光刻胶出胶口可在所述第一...
【专利技术属性】
技术研发人员：李晓光，袁剑峰，吴洪江，姜晶晶，肖宇，黎敏，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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