触摸屏及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种触摸屏及其制备方法。触摸屏包括玻璃基板及依次层叠于玻璃基板上的增硬膜和防护膜，增硬膜的材料包括氧化铝和氧化钕，防护膜的材料为氟化钙。增硬膜具有较高的硬度和致密性，防护膜具有较高的硬度，且具有防水和防指纹功能，通过设置增硬膜和防护膜，使得该触摸屏不易被划伤，且防水和防指纹效果较好，无需额外贴保护膜。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及一种。触摸屏包括玻璃基板及依次层叠于玻璃基板上的增硬膜和防护膜，增硬膜的材料包括氧化铝和氧化钕，防护膜的材料为氟化钙。增硬膜具有较高的硬度和致密性，防护膜具有较高的硬度，且具有防水和防指纹功能，通过设置增硬膜和防护膜，使得该触摸屏不易被划伤，且防水和防指纹效果较好，无需额外贴保护膜。【专利说明】
本专利技术涉及触摸屏
，特别是涉及一种。
技术介绍
目前，电子产品中，触摸屏的应用越来越广泛，手机、电脑、MP4、大型显示屏等电子产品中普遍使用触摸屏。现有的触摸屏本身的硬度较低，易被划伤，且不能防水和防指纹。触摸屏普遍依靠贴保护膜，如聚丙烯保护膜(PP保护膜)、聚对苯二甲酸乙二酯保护膜(PET保护膜)等，来保护触摸屏不易被划伤，并实现防水和防指纹。然而，现有的保护膜易被划伤而需要经常更换，更换成本高，且不易维护，防水和防指纹效果较差。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种且不易被划伤，且防水和防指纹效果较好的触摸屏。一种触摸屏，包括玻璃基板，还包括依次层叠于所述玻璃基板上的增硬膜和防护膜，所述增硬膜的材料包括氧化铝和氧化钕，所述防护膜的材料为氟化钙。在其中一个实施例中，所述增硬膜的厚度为500A~1000A。在其中一个实施例中，所述防护膜的厚度为100 A~200入。 在其中一个实施例中，所述触摸屏的可见光透过率大于或等于95%。一种触摸屏的制备方法，包括如下步骤:提供玻璃基板；采用磁控溅射在所述玻璃基板的表面上制备增硬膜，所述增硬膜的材料包括氧化铝和氧化钕；及采用磁控溅射在所述增硬膜的表面上制备防护膜，得到所述触摸屏，其中，所述防护膜的材料为氟化钙。在其中一个实施例中，所述采用磁控溅射在所述玻璃基板的表面上制备增硬膜及采用磁控溅射在所述增硬膜的表面上制备防护膜的步骤中，所述玻璃基板的温度为120。。~200。。。在其中一个实施例中，所述采用磁控溅射在所述玻璃基板的表面上制备增硬膜及采用磁控溅射在所述增硬膜的表面上制备防护膜的步骤中，镀膜室的真空度为2.5 X KT1Pa ~3.50 X IO^1Pa0在其中一个实施例中，所述采用磁控溅射在所述玻璃基板的表面上制备增硬膜及采用磁控溅射在所述增硬膜的表面上制备防护膜的步骤中，所述玻璃基板与靶材的距离为15mm ~25mm0在其中一个实施例中，所述采用磁控溅射在所述玻璃基板的表面上制备增硬膜及采用磁控溅射在所述增硬膜的表面上制备防护膜的步骤中，所述玻璃基板的运行速度为25mm/s ~40mm/s。在其中一个实施例中，所述采用磁控溅射在所述玻璃基板的表面上制备增硬膜的步骤之前，还包括对所述玻璃基板进行减薄的步骤。上述触摸屏中，增硬膜的材料包括氧化铝和氧化钕，因而增硬膜具有较高的硬度和致密性；防护膜的材料为氟化钙，因而防护膜具有较高的硬度，且具有防水和防指纹功能；通过设置高硬度和高致密性的增硬膜及具有高硬度及防水和防指纹功能的防护膜，使得该触摸屏不易被划伤，且防水和防指纹效果较好，无需额外贴保护膜。【专利附图】【附图说明】图1为一实施方式的触摸屏的结构示意图；图2为一实施方式的触摸屏的制备方法的流程图。【具体实施方式】为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的【具体实施方式】做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似改进，因此本专利技术不受下面公开的具体实施的限制。请参阅图1，一实施方式的触摸屏100，包括玻璃基板20、增硬膜40和防护膜60。玻璃基板20为无机玻璃基板，例如，可以为硅铝酸盐玻璃基板或钙钠玻璃基板。增硬膜40层叠于玻璃基板20的表面上。增硬膜40的材料包括氧化铝(Al2O3)和氧化钕(Nd2O3)15氧化铝和氧化钕形成的增硬膜40具有较高的硬度，从而使得触摸屏100不易被划伤。并且，增硬膜40具有较高的可见光透过率，满足触摸屏100的使用需求。同时，增硬膜40具有较高的致密性，对玻璃基板20具有较好的防护作用。优选地，氧化铝和氧化钕的质量比为95:5，以使增硬膜40的硬度和可见光透过率较高，并合理控制原料成本，合理使用价格较高的钕元素。综合工艺控制、在玻璃基板20上的附着力和成本考虑，增硬膜40的厚度优选为500A?IOOOA。防护膜60层叠于增硬膜40的远离玻璃基板20的表面上。防护膜60的材料为氟化钙(CaF2)。由氟化钙形成的防护膜60具有较高的硬度，且具有防水和防指纹功能，能够很好地保护玻璃基板20，并使得用手指直接接触触摸屏100后不会留下指纹，无需经常擦拭，使用方便。优选地，防护膜60的厚度为100A?200A,以使防护膜60的防水功能较好，可见光透过率较高。上述触摸屏100通过在玻璃基板20上依次层叠增硬膜40和防护膜60，使得触摸屏100不易被划伤，且防水和防指纹效果较好的，无需额外贴保护膜，省事、省事、省钱。该触摸屏100不仅能够应用于手机、平板等小型电子产品，还能应用于大型或超大型显示屏上，解决了大型或超大型显示屏不能通过贴保护膜进行保护的问题。并且，上述触摸屏100的可见光透过率大于或等于95%，完全满足触摸屏100的使用需求。请参阅图2，一实施方式的触摸屏的制备方法，用于制备上述触摸屏100，包括如下步骤。步骤SllO:提供玻璃基板。玻璃基板为无机玻璃基板，例如，可以为硅铝酸盐玻璃基板或钙钠玻璃基板。在进行下述步骤S120之前，还包括对玻璃基板进行减薄的步骤，以满足触摸屏的厚度需求。对玻璃基片进行减薄的步骤包括用纯水进行清洗后，将玻璃基板浸泡于质量浓度为40%的氢氟酸溶液中进行减薄。用纯水对减薄后的玻璃基板进行清洗，然后依次经过冷风和热风干燥，检验表面质量，等待镀膜。步骤S120:采用磁控溅射在玻璃基板的表面上制备增硬膜，增硬膜的材料包括氧化招和氧化钕。使用WG真空镀膜机或其他磁控溅射镀膜设备进行磁控溅射制备增硬膜。采用磁控溅射在玻璃基板的表面上制备增硬膜时，玻璃基板的温度为120°C~200°C，优选为150°C。在720s内将玻璃基板从室温加热至120°C~200°C，以避免玻璃基板剧烈受热，有利于防止玻璃基板破裂。镀膜室的真空度为2.5 X KT1Pa~3.50 X KT1Pat5使用钕铝合金靶材溅射制备增硬膜，通入氩气作为工艺气体，通入氧气作为反应气体，氩气和氧气的总气压为0.3Pa。优选地，钕铝合金靶材中，钕和铝的摩尔比为27:144。优选地，钕招合金祀材与玻璃基板的距`离为15mm~25mm,优选20mm。镀膜过程中，玻璃基板的运行速度为25mm/s~40mm/s,优选30mm/s,以保证膜层的均匀性。使用在线膜厚仪测定膜层厚度，根据膜层厚度确定镀膜时间。步骤S130:采用磁控溅射在增硬膜的表面上制备防护膜，得到触摸屏，其中，防护膜的材料为氟化钙。玻璃基板的温度维持在120°C~200°C。镀膜室的真空度为2.5X KT1Pa~3.50 X IO^1Pa0使用氟化钙靶材溅射制备防护膜，通入氩气作为工艺气体，氩气的气压为0.3Pa。优选地,氟化钙祀材与玻璃基板的距离为15mm~25mm,优选20mm。镀膜过程中，玻璃本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种触摸屏，包括玻璃基板，其特征在于，还包括依次层叠于所述玻璃基板上的增硬膜和防护膜，所述增硬膜的材料包括氧化铝和氧化钕，所述防护膜的材料为氟化钙。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张迅，王海涛，向程，易伟华，
申请(专利权)人：江西沃格光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江西;36