一种减少OPC修正后验证误报错的方法技术

本发明专利技术公开一种减少OPC修正后验证误报错的方法，其中，步骤一：完成OPC修正，在OPC修正完成后产生OPC修正后图形以及OPC修正前的目标图形；步骤二：在OPC修正完成后选出导致OPC验证错误误报的图形区域；步骤三：截取错误误报图形区域图中的图形边片段；步骤四：沿着图形边片段形成独立的OPC验证区域；步骤五：进行OPC验证。使用本发明专利技术公开的一种减少OPC修正后验证误报错的方法，能够有效地减少OPC验证错误误报并且避免真正OPC修正错误遗漏，从而能提高OPC验证结果检查的效率。

【技术实现步骤摘要】
一种减少OPC修正后验证误报错的方法
本专利技术涉及一种微电子光学临近修正的
，尤其涉及一种减少光学临近修正(OpticalProximityCorrection，简称：OPC)修正后验证误报错的方法。
技术介绍
在半导体制造过程中，随着特征尺寸的不断减小和图形复杂程度变得越来越高，OPC技术也不断发展以适应图形成像过程中不断出现的问题。目前应用最为广泛的OPC方法是基于模型的OPC修正方法，其基本原理是通过建立基于特定光刻条件的曝光模型，对原始版图或目标版图进行模拟以得到模拟误差，然后将原始版图按一定的规则进行分段切割，根据模拟误差对片断进行偏移补偿并重新模拟，经过几个回合的模拟和修正和得到模拟结果与目标版图一致的修正后版图。受到掩模板制作能力的限制以及OPC执行时间的局限，基于模型的OPC修正方法不可避免的存在一些OPC修正弱点或修正错误，如果这些修正弱点不能及时发现就可能导致硅片上的工艺缺陷点，因此OPC修正后的模拟检查验证就被引入到OPC出版流程中，OPC修正后模拟检查验证通过模拟OPC修正后版图并检查模拟结果以确认是否存在潜在的工艺弱点或工艺缺陷，这些模拟验证一般检查包括是否存在桥接和断线，上下层的接触面积是否在工艺许可范围内，模拟图形与目标图形偏差是否在容许范围内等等。OPC修正后模拟检查验证一般可分为两类，一是模拟OPC修正后版图并检查模拟轮廓的绝对尺寸，查看模拟结果是否存在小于规定尺寸或规格的图形点，这种检查方法能快速的探测到OPC修正是否会造成工艺弱点并且一般很少有错误误报或多报，但是如果原始版图或者目标版图存在问题，或者软件存在漏洞导致OPC修正错误时(比如图形额外增加或消失)，有可能会导致一些错误漏报；第二类是比对模拟结果尺寸和目标版图尺寸的相对比例，当模拟尺寸和目标尺寸的比例偏差超过限定值时即将该图形点报错用以检查，这类方法能够避免第一类方法涉及的很多漏报问题，但是受到一些光刻物理极限的影响等，经常存在一些错误误报或者多报，当错误误报过多时会影响检查的效率。在实际的模拟检查验证过程中通常会结合上述提及的两种OPC修正后模拟验证方法，一般对于第二类的检查相对偏差方法，为了避免过多的误报，引入了一些过滤方法以减少错误误报。图1为现有的OPC修正后模拟验证的示意图，请参见图1所示。对于图形A区域，OPC修正后模拟与目标图形一致，但是图形B区域处于拐角凹处，受到圆化效应的影响，其模拟尺寸比目标尺寸偏大，越靠近拐角处，偏离值越大，由于这些圆化效应是无法避免的，而且也不会影响器件的性能，一般可以忽略，所以在模拟验证过程中形成排除区域，忽略这一区域的检查；这一忽略检查的范围或区域一般设定一个离拐角的固定值，或者离线端的固定值等，如图1所示L1，在离凹角L1长度范围内的不作模拟验证后检查；图形的拐角圆化问题与很多因素有关，在曝光条件与OPC修正方法确定的情况下，它与图形尺寸，形状和图形密度等有关；当模拟出的拐角圆化离凹角的距离超过设定值L1时，也即R1>L1时。图2为现有的OPC修正后模拟验证误报的示意图，请参见图2所示，由于超过排除区域的图形将会做模拟验证检查，很容易形成报错，因为它是由图形拐角圆化引起的。如果增加L1的大小，将排除区域扩大，或许可以过滤一些误报的图形，但是如果在排除区域内OPC修正存在问题也将以其被忽略，存在一定的风险，因此在实际应用中不会因为误报的存在去直接增加L1的值。公开号为CN103513506A的中国专利公开了一种光学临近效应修正方法，包括以下步骤：1)制作两块测试光刻版，第一块放置前层图形，所述前层图形为产生形貌或膜层变化的图形；第二块放置后层OPC测试图形；2)按照工艺顺序准备硅片，在没有形貌的硅片上，对第二块光刻版进行涂胶、曝光、显影，收集光刻工艺的关键尺寸的数值，根据收集到的光刻工艺数值建立OPC模型；3)按照工艺顺序准备硅片，在没有形貌的硅片上，对第一块光刻版进行涂胶、曝光、显影，产生前层图形的形貌；4)再对第二块光刻版进行涂胶、曝光、显影，收集光刻工艺的关键尺寸的数值，并根据收集到的光刻工艺关键尺寸的数值，建立选择性偏离算法，表征在不同的区域需要增加的偏离值；5)在没有形貌的区域使用步骤2)建立的OPC；在有形貌的区域，根据步骤4)计算得到的偏离值重新进行OPC修正。公开号为CN1869819A的中国专利公开了一种用于光学临近修正的方法和系统，包括以下步骤：识别具有需要分段的边的感兴趣的图形；识别一个或多个不同于所述感兴趣的图形的有影响的图形；平滑所述一个或多个有影响的图形，以形成有平滑的边的平滑的有影响的图形，其中所述一个或多个有影响的图形的平滑的量，根据所述有影响的图形对所述感兴趣的图形的成像过程的影响而变化；根据所述平滑的有影响的图形的平滑的边，限定所述感兴趣的图形的边的分段；以及执行所述感兴趣的图形的OPC，其中所述OPC包括调整所述感兴趣的图形的边的所述分段。但现有技术都未公开如何减少OPC验证错误误报并且避免OPC修正错误遗漏的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种减少OPC修正后验证误报错的方法，以解决现有OPC修正后模拟检查验证中，由于受到图形圆化等光学临近效应的影响，当检查模拟尺寸与目标尺寸的相对偏差时会存在错误误报的问题。为了实现上述目的，本专利技术采取的技术方案为：一种减少OPC修正后验证误报错的方法，其中，步骤一：完成OPC修正，在OPC修正完成后产生OPC修正后图形以及OPC修正前的目标图形；步骤二：在OPC修正完成后选出导致OPC验证错误误报的图形区域；步骤三：截取错误误报图形区域图中的图形边片段；步骤四：沿着图形边片段形成独立的OPC验证区域；步骤五：进行OPC验证。上述的一种减少OPC修正后验证误报错的方法，其中，在步骤二中，选出目标图形中符合条件的凹角图形边。上述的一种减少OPC修正后验证误报错的方法，其中，在步骤三中，选出凹角图形边的顶点为起始点，截取图形边片段。上述的一种减少OPC修正后验证误报错的方法，其中，导致OPC验证错误误报的图形边长度大于两倍最小设计规则线宽，两条邻边中至少一邻边与其成270度，并且两条邻边的长度均大于最小设计规则线宽。上述的一种减少OPC修正后验证误报错的方法，其中，从图形边凹角顶点起始截取图形边片段长度为1.25倍的最小设计规则线宽。上述的一种减少OPC修正后验证误报错的方法，其中，在步骤五中，对形成独立OPC验证区域以外的区域进行验证，通过模拟尺寸和目标尺寸的相对比例进行检查。上述的一种减少OPC修正后验证误报错的方法，其中，当模拟尺寸介于目标尺寸95％至105％之间，正常；反之，修正可能存在问题。上述的一种减少OPC修正后验证误报错的方法，其中，在步骤五中，对形成独立OPC验证区域进行验证，该区域模拟尺寸不小于目标尺寸偏小比例。上述的一种减少OPC修正后验证误报错的方法，其中，当模拟尺寸大于形成独立OPC验证区域目标尺寸的95％，正常；反之，修正可能存在问题。本专利技术由于采用了上述技术，使之与现有技术相比具有的积极效果是：采用本专利技术的一种减少OPC修正后验证误报错的方法，能够有效地减少OPC验证错误误报并且避免真正OPC修正错误遗漏，从而能提高OPC验证结果检查本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种减少OPC修正后验证误报错的方法，其特征在于，步骤一：完成OPC修正，在OPC修正完成后产生OPC修正后图形以及OPC修正前的目标图形；步骤二：在OPC修正完成后选出导致OPC验证错误误报的图形区域；步骤三：截取错误误报图形区域图中的图形边片段；步骤四：沿着图形边片段形成独立的OPC验证区域；步骤五：进行OPC验证。

【技术特征摘要】
1.一种减少OPC修正后验证误报错的方法，其特征在于，步骤一：完成OPC修正，在OPC修正完成后产生OPC修正后图形以及OPC修正前的目标图形；步骤二：在OPC修正完成后选出导致OPC验证错误误报的凹角图形区域；步骤三：截取所述目标图形中错误误报的凹角图形区域图中符合条件的凹角图形边片；步骤四：以所述凹角图形边片为边，所述凹角的顶点为起始点，沿着图形内部方向形成独立的OPC矩形验证区域；步骤五：对形成独立的所述OPC矩形验证区域以外的区域进行验证，通过模拟尺寸和目标尺寸的相对比例进行检查，以及对形成独立的所述OPC矩形验证区域进行验证，该区域模拟尺寸与目标尺寸的相对比例不小于规格规定正常范围内的最小百分比。2.根据权利要求1所述减少OPC修正后验证误报错的方法，其特征在于，导致OP...

【专利技术属性】
技术研发人员：何大权，张辰明，魏芳，张旭昇，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31