【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术单晶炉中轴盖，包括接触板以及设置在所述接触板上、下表面的内圈及提拉环；其中所述接触板为圆形，所述接触板的直径大于单晶炉中轴管道口的内直径；所述内圈为圆形，所述内圈的直径小于单晶炉中轴管道口的内直径。所述接触板与所述内圈同轴设置。本技术单晶炉中轴盖使用中轴盖，在单晶炉热场清扫过程中覆盖在中轴管道之上，防止氧化物粉尘、颗粒堵塞管道。【专利说明】单晶炉中轴盖
本技术涉及一种单晶炉工具，特别是一种单晶炉中轴盖。
技术介绍
单晶炉制取单晶晶棒过程中产生灰尘、颗粒，在炉体以及热场部件中附着，需要清理，清理过程中容易进入到炉体下部管道的波纹管中。容易导致波纹管损坏，以及影响单晶制取正常进行。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种防止氧化物粉尘、颗粒堵塞管道的单晶炉中轴至JHL ο为解决上述技术问题，本技术单晶炉中轴盖，包括接触板以及设置在所述接触板上、下表面的内圈及提拉环；其中所述接触板为圆形，所述接触板的直径大于单晶炉中轴管道口的内直径；所述内圈为圆形，所述内圈的直径小于单晶炉中轴管道口的内直径。所述接触板与所述内圈同轴设置。本技术单晶炉中轴盖使用中轴盖，在单晶炉热场清扫过程中覆盖在中轴管道之上，防止氧化物粉尘、颗粒堵塞管道。【专利附图】【附图说明】图1为本技术单晶炉中轴俯视视图；图2为本技术单晶炉中轴盖正视图图3为本技术单晶炉中轴盖使用示意图。本技术单晶炉中轴盖附图中附图标记说明:1-单晶炉 2-中轴盖 3-管道口4-中轴 5-接触板 6-内圈7-提拉环【具体实施方式】下面结合附图对本技术单晶炉中轴盖作进一步详细说明。如图1?图3所示，本技术单晶...
【技术保护点】
单晶炉中轴盖，其特征在于，包括接触板以及设置在所述接触板上、下表面的内圈及提拉环；其中所述接触板为圆形，所述接触板的直径大于单晶炉中轴管道口的内直径；所述内圈为圆形，所述内圈的直径小于单晶炉中轴管道口的内直径。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈小林，贺贤汉，
申请(专利权)人：上海申和热磁电子有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31
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