高强度细颗粒立方氮化硼单晶及其合成方法和应用技术

本发明专利技术公开了一种高强度细颗粒立方氮化硼(cBN)单晶，选择Li3N和Ca3N2的混合物作触媒，纯度为98％～99.9％、氧化硼含量0.05％～0.5％、石墨化指数2～5的精制的hBN作为合成原料；Li3N和Ca3N按质量比为10～30：70～90混合组成触媒，触媒和精制的hBN按质量为8～20：80～92。同时本发明专利技术还公开该cBN单晶的合成方法及应用。本发明专利技术通过选择Li3N和Ca3N2的混合物作触媒，以精制hBN为原料，在较低的合成压力和温度下，合成晶形完整、强度高、耐磨性高、透明性好的细颗粒cBN单晶，适用于高硬度合金铸铁、高铬铁、淬火钢、高温合金等材料的半精加工和精加工，可提高加工精度和加工效率，单位加工成本低。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种高强度细颗粒立方氮化硼单晶，其特征是，选择Li3N和Ca3N2的混合物作触媒，纯度为98％～99.9％、氧化硼含量0.05％～0.5％、石墨化指数2～5的精制的hBN作为合成原料；Li3N和Ca3N按质量比为10～30：70～90混合组成触媒，混合触媒和精制的hBN的质量比为8～20：80～92。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：许斌，温振兴，蔡立超，吕美哲，张文，苏海通，
申请(专利权)人：许斌，
类型：发明
国别省市：山东;37