辐射焦点位置检测方法、辐射检测设备和辐射断层成像设备技术

本发明专利技术公开一种辐射焦点位置检测方法、辐射检测设备和辐射断层成像设备，该设备包括：辐射源；辐射检测器，辐射检测器包括沿通道和切片方向设置的多个检测元件；辐射吸收器，辐射吸收器设置为覆盖辐射检测器中的第一和第二检测元件区域的一部分，所述部分位于所述第一和第二检测元件的相互毗连的侧面上；以及指定装置，指定装置基于从辐射源的焦点发出的辐射的强度和由第一和第二检测元件区域中的检测元件检测的辐射的强度指定辐射源的焦点的位置。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开一种辐射焦点位置检测方法、辐射检测设备和辐射断层成像设备，该设备包括：辐射源；辐射检测器，辐射检测器包括沿通道和切片方向设置的多个检测元件；辐射吸收器，辐射吸收器设置为覆盖辐射检测器中的第一和第二检测元件区域的一部分，所述部分位于所述第一和第二检测元件的相互毗连的侧面上；以及指定装置，指定装置基于从辐射源的焦点发出的辐射的强度和由第一和第二检测元件区域中的检测元件检测的辐射的强度指定辐射源的焦点的位置。【专利说明】辐射焦点位置检测方法、辐射检测设备和辐射断层成像设备
本专利技术涉及辐射焦点位置检测方法、辐射检测设备和辐射断层成像设备，特别涉及以高分辨率检测辐射源的辐射焦点的位置位移的技术。
技术介绍
在具有多个检测器的辐射断层成像设备(例如多层X射线CT设备等)中，辐射源的辐射焦点的位置精度对于以高质量保持所获得的图像非常重要。辐射焦点的位置误差极大地影响数据采集系统的几何形状，从而导致在所获得的图像的高分辨率区域中出现严重的伪影。特别是在最近的辐射检测设备中，经常使用在通道和滑动方向上设置有准直器板的二维准直器(two-dimensional collimator),以进一步减小入射到每个检测元件的散射辐射。在这种情况下，由于辐射焦点的位置误差导致的不利影响变得更加严重。由于辐射源的温度变化导致的辐射焦点的移动此前一直存在，几乎不可避免。作为对策，例如基于辐射检测器的参考通道(即参考检测元件组中的辐射检测信号的轮廓)检测辐射焦点的位置及其移动量，以及基于所检测的信息执行投影数据的校正(例如参考专利文献1，日本专利特开Hei6-169914，图8至13等)和辐射方向上的辐射控制(例如参考专利文献2，日本专利特开Hei8-280659,图10等)。但是近年来检测元件和准直器板已经微型化。上述的一般的相关技术方法已变得难以以足够的分辨率检测辐射焦点的位置及其移动量。面对这样的情况，需要能够以高分辨率检测辐射源的辐射焦点的位置位移的技术。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的是以高分辨率检测辐射断层成像设备中的辐射源的焦点的位置位移。为了达到以上目的，第一方面的本专利技术提供一种辐射焦点位置检测方法，用于检测辐射断层成像设备中的辐射源的焦点的位置位移，所述方法包括以下步骤:设置辐射吸收器以便覆盖第一和第二检测元件区域的部分，所述部分位于辐射检测器中所述第一和第二检测元件区域的相互毗连的侧面上，所述辐射检测器包括沿通道方向和切片方向设置的多个检测元件；以及基于所述第一和第二检测元件区域中的检测元件检测的辐射的强度，指定焦点的位置或者焦点从参考位置的移动量。第二方面的本专利技术提供根据第一方面的辐射焦点位置检测方法，所述辐射吸收器沿着所述第一和第二检测元件区域彼此邻近的方向的宽度比用于分离所述检测元件的每个准直器板的厚度宽。第三方面的本专利技术提供根据第一或第二方面的辐射焦点位置检测方法，所述第一和第二检测元件区域沿所述切片方向彼此相邻。第四方面的本专利技术提供根据第一至第三方面中的任一方面的辐射焦点位置检测方法，所述第一和第二检测元件区域设置为邻近所述检测元件沿所述通道方向的端部。第五方面的本专利技术提供根据第一至第四方面中的任一方面的辐射焦点位置检测方法，所述第一和第二检测元件区域设置为邻近所述检测元件沿所述切片方向的中心。第六方面的本专利技术提供根据第一至第五方面中的任一方面的辐射焦点位置检测方法，所述第一和第二检测元件区域是所述辐射检测器中的参考通道。第七方面的本专利技术提供根据第一至第六方面中的任一方面的辐射焦点位置检测方法所述第一和第二检测元件区域分别包括两个或更多个检测元件的区域。第八方面的本专利技术提供根据第一至第六方面中的任一方面的辐射焦点位置检测方法，所述第一和第二检测元件区域彼此相邻并且沿其相邻方向分别具有一个检测元件的览度，以及其中沿所述相邻方向所述辐射吸收器具有的宽度为所述一个检测元件的宽度的50%至 150%。第九方面的本专利技术提供根据第一至第八方面中的任一方面的辐射焦点位置检测方法，所述辐射吸收器设置在沿着朝向所述辐射源的方向距离所述第一和第二检测元件区域的检测表面IOmm至IOOmm的位置处。第十方面的本专利技术提供根据第一至第九方面中的任一方面的辐射焦点位置检测方法，所述辐射吸收器沿所述第一和第二检测元件区域彼此邻近的方向的中心的位置是所述第一和第二检测元件区域之间的中间位置。第十一方面的本专利技术提供一种辐射检测设备，包括:辐射检测器，所述辐射检测器包括沿通道和切片方向设置的多个检测元件；辐射吸收器，所述辐射吸收器设置为覆盖所述辐射检测器中的第一和第二检测元件区域的部分，所述部分位于所述第一和第二检测元件区域的相互毗连的侧面上。第十二方面的本专利技术提供根据第十一方面所述的辐射检测设备，，所述辐射吸收器沿着所述第一和第二检测元件区域彼此邻近的方向的宽度比用于分离所述检测元件的每个准直器板的厚度宽。第十三方面的本专利技术提供根据第十一或第十二方面所述的辐射检测设备，所述第一和第二检测元件区域沿所述切片方向彼此相邻。第十四方面的本专利技术提供根据第十一至第十三方面中的任一方面所述的辐射检测设备，所述第一和第二检测元件区域彼此相邻并且沿其相邻方向分别具有一个检测元件的宽度，以及其中沿所述相邻方向所述辐射吸收器具有的宽度为所述一个检测元件的宽度的50%至 150%。第十五方面的本专利技术提供根据第十一至第十四方面中的任一方面所述的辐射检测设备，所述辐射吸收器沿所述第一和第二检测元件区域彼此邻近的方向的中心的位置是所述第一和第二检测元件区域之间的中间位置。第十六方面的本专利技术提供一种辐射断层成像设备，包括:辐射源；辐射检测器，所述辐射检测器包括沿通道和切片方向设置的多个检测元件；辐射吸收器，所述辐射吸收器设置为覆盖所述辐射检测器中的第一和第二检测元件区域的部分，所述部分位于所述第一和第二检测元件区域的相互毗连的侧面上；以及指定装置，所述指定装置基于从所述辐射源的焦点发出的辐射的强度和由所述第一和第二检测元件区域中的检测元件检测的辐射的强度指定所述辐射源的焦点的位置或者所述辐射源的焦点从参考位置移动的量。第十七方面的本专利技术提供根据第十六方面所述的辐射断层成像设备，所述辐射吸收器沿着所述第一和第二检测元件区域彼此邻近的方向的宽度比用于分离所述检测元件的每个准直器板的厚度宽。第十八方面的本专利技术提供根据第十六或第十七方面所述的辐射断层成像设备，所述第一和第二检测元件区域沿所述切片方向彼此相邻。第十九方面的本专利技术提供根据第十六至第十八方面中任一方面所述的辐射断层成像设备，所述第一和第二检测元件区域彼此相邻并且沿其相邻方向分别具有一个检测元件的宽度，以及其中沿所述相邻方向所述辐射吸收器具有的宽度为所述一个检测元件的宽度的50%至 150%。第二十方面的本专利技术提供根据第十六至第十九方面中任一方面所述的辐射断层成像设备，所述辐射吸收器沿所述第一和第二检测元件区域彼此邻近的方向的中心的位置是所述第一和第二检测元件区域之间的中间位置。根据以上方面的本专利技术，提供X射线吸收器，以便覆盖第一和第二检查元件区域的相互毗连的侧面上的部分。因此，根据辐射源的辐射焦点的位置确定第一检测元件区域中被辐射照射的区域与第二检测元件区域中被辐射照射的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种辐射焦点位置检测方法，用于检测辐射断层成像设备中辐射源的焦点的位置位移，所述方法包括以下步骤：设置辐射吸收器以便覆盖第一和第二检测元件区域的部分，所述部分位于辐射检测器中所述第一和第二检测元件区域的相互毗连的侧面上，所述辐射检测器包括沿通道方向和切片方向设置的多个检测元件；以及基于所述第一和第二检测元件区域中的检测元件来检测辐射的强度，指定焦点的位置或者焦点从参考位置的移动量。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：H库罗基，I阿布德拉茨，
申请(专利权)人：通用电气公司，
类型：发明
国别省市：美国;US