清洁FOUP的系统和方法技术方案

技术编号:10129322 阅读:183 留言:0更新日期:2014-06-13 16:06
一种用于清洁容器,诸如,半导体晶圆载体的系统包括壳体、壳体中的清洁单元、壳体内的分析单元以及壳体内的真空单元。该清洁单元包括清洁室且被配置成向清洁室中的容器中喷洒清洁介质并且干燥该容器。该分析单元被配置成对从清洁室中出来的容器内的空气进行分析且为可能的空气传播的分子污染(AMC)和湿气的每种成分提供检验结构。该真空单元包括被配置成当成分的检测结果高于相应的阈值时向容器施加真空的真空室。本发明专利技术还提供了一种清洁FOUP的系统和方法。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种系统,包括:壳体;清洁单元,位于所述壳体中,所述清洁单元包括位于其中的清洁室,所述清洁室被配置成向所述清洁室中的容器喷洒清洁介质并且干燥所述容器;分析单元,位于所述壳体内,所述分析单元被配置成对从所述清洁室中出来的所述容器内的空气进行分析,并且为可能的空气传播的分子污染(AMC)和湿气的每种成分提供检测结果;以及真空单元,位于所述壳体内,所述真空单元包括真空室,所述真空室被配置成当成分的所述检测结果高于相应阈值时向容器施加真空。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:许志修杨棋铭庄国胜
申请(专利权)人:台湾积体电路制造股份有限公司
类型:发明
国别省市:中国台湾;71

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