【技术实现步骤摘要】 【国外来华专利技术】
【技术保护点】 后CMP清洁组合物，其不含氮原子并且包含至少一种含磷碱。
【技术特征摘要】 【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】 技术研发人员：大竹敦，P·R·贝尔纳特斯，C·X·尚， 申请(专利权)人：EKC技术公司， 类型：发明 国别省市：美国;US
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