防污层除去方法及防污层形成方法技术

本申请所涉及的发明专利技术提供防污层除去方法及防污层形成方法，其是仅在对象构件的表面的特定区域形成防污层的优良的技术。上述防污层除去方法及防污层形成方法包括：浸渍在防污涂布剂溶液（21）中，进行养生工序，由此在对象构件（1）的整个表面上形成防污层（10），然后将对象构件（1）配置在相对湿度为50%以上的水蒸气气氛下，在该状态下仅对对象构件（1）的表面上的非选择区域照射真空紫外线（L）。将非选择区域的防污层（10）除去，得到仅在选择区域形成有防污层（10）的结构。

【技术实现步骤摘要】
防污层除去方法及防污层形成方法
本申请所涉及的专利技术涉及将在对象构件的表面上形成的防污层除去的方法，还涉及仅在对象构件的特定区域形成防污层的方法。
技术介绍
构件的表面的洁净对于各种制品的特性来说当然是必需的，在制品的制造工序中也经常需要。由于这样的必要性，在构件的表面上要形成防止构件的表面污损的层(以下称为防污层)。在多数情况下，防污层中使用富有防水性、防油性、润滑性等的氟系涂布剂。以下，将形成防污层的对象的构件简单称为对象构件。例如，对于以液晶显示器为首的各种显示器而言，如果在表面上附着污渍，则直接与显示的图像的视认性的变差相关，因此要求形成难以附着污渍的表面。这一点对于触摸面板(触摸屏显示器)来说是特别显著的。触摸面板是使显示器具有信息的输入功能的部件，近年来，被用于手机、便携游戏机、平板PC、汽车导航装置、银行的ATM、自动售票机等多种信息设备，可见异常显著地普及。对于这样的触摸面板而言，在显示器表面上附着指纹、皮脂、汗等杂质是不可避免的。另外，在手机或平板PC等便携信息终端的情况下，也有时附着化妆品或食品等污渍。在这样的污渍附着在显示器表面上的情况下，显示器的视认性降低。另外，触摸面板具有静电容量式或电阻膜式等几个类型，在显示器表面上附着污渍时，多数情况下对操作性产生不良影响。因此，要求使显示器表面为难以附着污渍的面、或者即使附着污渍也能够容易除去的面。即，要求对显示器表面赋予防污、防水、防油、防止指纹附着、润滑性提高等功能。针对赋予这样的功能的要求，通常使用防污涂布剂在显示器表面上形成防污层。例如，专利文献1中记载了如下方法：对于具备由无机材料构成的密合层的透明构件蒸镀由含氟树脂形成的防污层。另外，专利文献2中记载了，在显示器表面上设置硬涂层，对该硬涂层表面用由全氟聚醚改性硅烷等含氟硅烷化合物构成的防污涂布剂进行处理而形成防污层。另外，专利文献3中，作为所形成的防污层表面的润滑性优良的防污涂布剂，介绍了以含全氟聚氧亚烷基的聚合物作为主成分的表面处理剂。在上述文献中均是形成含有氟系化合物的防污层，利用氟系化合物的防水性来发挥防污功能。再者，本说明书中，将用于形成防污层的材料、防污涂布剂、表面处理剂总称为“防污涂布剂”或“氟系防污涂布剂”。以往已知的防污涂布剂的组成是如上述各专利文献中所公开的组成，作为形成方法，已知刷涂、喷雾、浸渍、真空蒸镀等方法。这些形成方法之中，从均匀地形成品质良好的防污层的观点考虑，经常采用浸渍法或真空蒸镀法。也可以为专利文献2和专利文献3中的任意一种形成方法，而专利文献1中采用真空蒸镀法。浸渍法与真空蒸镀法相比是能够廉价地进行的方法，在对象构件的整个表面上形成防污层的情况下是实用的方法。作为在对象构件的整个表面上形成有防污层的对象构件，可以列举出例如眼镜片这样的制品。另一方面，根据对象构件的用途，有时仅在对象构件的表面上的特定区域形成防污层，在其以外的区域不能形成防污层。例如，对于触摸面板用的保护玻璃（coverglass）而言，在操作的一侧(以下称为前面侧)的表面上必须形成防污层，但在相反侧(以下称为背面侧)的表面上不得形成防污层。这是因为，为了实现作为触摸面板的功能，在背面侧的表面上需要形成包含透明导电膜的多层膜，进行布图而形成电路。如果在形成有防污层的状态下在其上形成多层膜来进行布图，则存在下述的问题：多层膜对保护玻璃的密合性差，或者防污层会对电路的功能产生障碍。因此，需要仅在保护玻璃的前面侧的表面上形成防污层。这样仅在对象构件的表面的特定区域(以下称为选择区域)形成防污层的情况下，浸渍法不实用，采用使用了防粘片的真空蒸镀法。即，将对象构件的表面的选择区域以外的区域(以下称为非选择区域)用防粘片覆盖，以不会对该区域附着防污涂布剂的状态进行蒸镀。以上述的触摸面板用的保护玻璃为例，更具体地进行说明：首先，将保护玻璃的背面侧的表面用防粘片覆盖。用粘接剂将防粘片粘接在背面侧的表面上。将粘接有防粘片的保护玻璃投入真空蒸镀装置中，在前面侧的表面上通过真空蒸镀法形成防污层。然后，从真空蒸镀装置中取出保护玻璃，剥离防粘片。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2010-106344号公报专利文献2：日本特开2011-93964号公报专利文献3：日本特开2010-31184号公报非专利文献非专利文献1：K.H.Welge,"PhotolysisofOx,HOx,COx,andSOxCompounds",Can.J.Chem.Vol.52,1974,pp1424-1435
技术实现思路
专利技术所要解决的课题但是，利用防粘片来防止防污涂布剂的附着是不完全的。在真空蒸镀装置中，防污涂布剂通过加热而发生气化或升华，以气相状态存在。即使将防粘片粘接到保护玻璃上，也不能避免在两者之间形成少许间隙。气相状态的防污涂布剂会进入该少许间隙。在保护玻璃的端面，防污涂布剂发生液化时，也有时由于毛细管现象而进入间隙，仅在选择区域附着防污涂布剂是非常困难的。如果从少许间隙中进入防污涂布剂，在非选择区域部分地形成防污层，则对于触摸面板这样的要求高度功能的制品则可能会成为问题。即，绕到保护玻璃的背面侧的表面来形成防污层时，会产生下述的问题：在该部分上述多层膜的密合性降低或对电路功能产生障碍。该问题是由在真空气氛下进行的真空蒸镀法产生的，因此对于浸渍法等其他方法而言更显著，由毛细管现象引起防污涂布剂进入界面是不可避免的。因此，浸渍法等其他方法当然也不能采用。使用防粘片的其他问题是生产率和成本上的问题。如上所述，需要防粘片的粘接、剥离这样的形成防污层以外的工序，成为加工时间变长的主要原因。另外，需要对制品而言本来不需要的防粘片，其将被废弃，因此也存在成本上的问题。从环境方面考虑，出现废弃物不能说是上策。再者，为了防止防污涂布剂进入界面，考虑将防粘片以更高的密合性粘接到保护玻璃上。但是，如果这样做，则会产生下述的问题：在形成防污层后剥离防粘片的作业变困难、或者费事。另外，也可能产生下述的情况：粘接性高的粘接剂残留下来，该粘接剂的除去还需要工夫和成本。本申请的专利技术是为了解决这样的课题而完成的，具有下述的意义：提供仅在对象构件的表面的特定区域形成防污层的优良的技术。用于解决问题的手段为了解决上述课题，本申请的专利技术人进行了深入的研究，结果想到：不是通过防粘片来选择性地附着防污涂布剂以形成防污层的想法，而是在包含选择区域和非选择区域的区域内形成防污层，事后从非选择区域除去防污层，由此结果得到仅在选择区域形成防污层的状态。关于实现这样的能够事后除去防污层的实用方法，进一步反复进行了深入的研究，从而想到了实现除去防污层的优良的技术。即，本申请的专利技术1是将通过氟系防污涂布剂在对象构件的表面上形成的防污层从该对象构件上除去的防污层除去方法，其具有如下构成：将形成有防污层的对象构件配置在相对湿度为50%以上的水蒸气气氛下，在该状态下对防污层照射真空紫外光，由此除去防污层。另外，为了解决上述课题，专利技术2具有下述的构成：在上述专利技术1的构成中，上述防污层含有具有防污功能的氟系官能团和使氟系官能团键合到上述对象构件上的偶联基，偶联基为硅氧烷基或硫醇基。另外，为了解决上述课题，专利技术3具有下述的构成：其是下述的方法：在上述专利技术1或2的构本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防污层除去方法，其是将通过氟系防污涂布剂在对象构件的表面上形成的防污层从该对象构件上除去的防污层除去方法，其特征在于，将形成有防污层的对象构件配置在相对湿度为50%以上的水蒸气气氛下，在该状态下对防污层照射真空紫外光，由此除去防污层。

【技术特征摘要】
2012.11.16 JP 2012-2527591.一种防污层除去方法，其是将通过氟系防污涂布剂在对象构件的表面上形成的防污层从该对象构件上除去的防污层除去方法，其特征在于，将形成有防污层的对象构件配置在相对湿度为50％以上的水蒸气气氛下，在该状态下对露出在所述水蒸气气氛中的防污层的表面照射真空紫外光，由此除去防污层。2.根据权利要求1所述的防污层除去方法，其特征在于，所述防污层含有具有防污功能的氟系官能团和使氟系官能团键合到所述对象构件上的偶联基，偶联基为硅氧烷基或硫醇基。3.根据权利要求1或2所述的防污层除去方法，其特征在于，其是下述的方法：在支撑基座上配置所述对象构件从而在所述水蒸气气氛下通过支撑基座支撑所述对象构件，在该状态下照射所述真空紫外光，由此除去防污层；并且，支撑基座不透射所述真空紫外光。4.根据权利要求1或2所述的防污层除去方法，其特征在于，其是下述的方法：在支撑基座上配置所述对象构件从而在所述水蒸气气氛下通过支撑基座支撑所述对象构件，在该状态下照射所述真空紫外光，由此除去防污层；并且，在支撑基座上将浆料状的定位体延展设置成层状，在该定位体上配置所述对象构件，利用所述对象构件的重量使定位体变形成凹部状，通过该变形使所述对象构件的位置固定在支撑基座上。5.根据权利要求4所述的防污层除去方法，其特征在于，所述定位体不会通过所述真空紫外光的照射而被分解除去。6.根据权利要求1或2所述的防污层除去方法，其特征在于，使用具有与所述对象构件的形成所述防污层的表面区域中的要除去防污层的区域相当的尺寸形状的开口的掩模，使要除去防污层的区域处于通过所述开口而露出的状态，在该状态下照射所述真空紫外线。7.根据权利要求1或2所述的防污层除去方法，其特征在于，所述真空紫外光的波长为176nm以下。8.一种防污层形成方法，其是仅在对象构件的表面的特定的选择区域形成防污层的防污层形成方法，其特征在于，其具有：在包含选择区域和该选择区...

【专利技术属性】
技术研发人员：森田金市，
申请(专利权)人：优志旺电机株式会社，崇越电通股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP