（ａ）至少一种能吸收红外辐射的物质，（ｂ）至少一种能形成自由基的化合物，和（ｃ）至少一种式（Ⅰ）的１，４－二氢吡啶衍生物。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】,4－二氢吡啶的红外敏感组合物及其生产可成像元件的用途的制作方法
本专利技术涉及红外敏感组合物，该组合物尤其很好地适于生产可通过红外线成像元件。专利技术特别涉及，4-二氢吡啶的红外敏感组合物。本专利技术还涉及基于上述组合物的负性工作的可成像元件，生产这种元件的方法，使这种元件成像的方法以及例如平版印刷型的成像元件。
技术介绍
平版印刷
是基于油水不互溶性，其中油质材料或印刷油墨优选被图像区接受，而水或润版药水优选被空白版面接受。当适当生产出的表面用水润湿并且涂了印刷油墨时，背底或空白版面接受水并排斥印刷油墨，而图像区接受印刷油墨并排斥水。然后图像区中的印刷油墨转入表面上要形成图像的材料的表面上，例如纸、织物等的表面上。然而通常印刷油墨首先转入称为毯子的中间材料，然后中间材料接着将印刷油墨转移到表面上要形成图像的材料的表面上；该技术称为平版印刷术。通常使用的平版印刷版前体的类型含有涂在铝基基材上的感光层。该层可以与电磁辐射反应，使得曝光的部分变得可以溶解以至于在显影过程中被除去。这种版称为正性工作的。另一方面，如果涂层曝光的部分通过辐射变得坚固从而在显影剂中不被溶解，则版称为负性工作的。在两种情况下，剩余的图像区接受印刷油墨，即为亲油的，空白版面(背底)接受水，即为亲水的。图像区和空白版面之间的区分发生在曝光过程中，为此，将薄膜在真空下附着于印刷版前体上以确保充分的接触。然后通过辐射源使版曝光。另外，版也可以进行数字曝光而不用薄膜，例如使用紫外激光器。当使用正性版时，薄膜上对应于版上图像的区域是不透光的以至于光不会射到版，而薄膜上对应于空白版面的区域是透光的，允许光透入涂层，它的溶解性会增加。就负性版来说，出现相反的情况薄膜上对应于版上图像的区域是透光的，而对应于空白版面的区域是不透光的。透光的薄膜区域下面的涂层由于射入的光变得坚固，而没有受光影响的区域在显影过程中除去了。因此，负性工作版光坚固的表面是亲油的，接受印刷油墨，而通常由显影剂除去的涂层覆盖空白版面是感光性低的，因此是亲水的。现在，尤其是用于高功率印刷版的辐射敏感组合物必须满足很高的要求。主要有两条途径提高辐射敏感组合物和由此对应的印刷版的性质。一条途径是从事改进组合物中辐射敏感组分(常常是负性的重氮树脂或光引发剂)的性质，而另一途径目的是发现新的聚合物(“粘合剂”)，这是希望控制辐射敏感层的物理性能。如果印刷版的灵敏度要调节到确定的电磁辐射的范围，第一条途径对印刷版是极重要的。然而，这种引发剂体系的性质也对材料的储存稳定性和辐射灵敏度具有很强的影响。在印刷版领域的最新进展是针对可以通过激光器或激光二极管成像的辐射敏感组合物。这种成像方法使使用薄膜作为数据的中间载体不必要了，因为激光器或激光二极管可以借助于计算机来调节。市场上可买到的图像给定器中使用的高性能激光器或激光二极管在波长范围800-850nm或1060和1120nm发光。印刷版和印刷版中含有引发剂体系必须适合于通过这种图像给定器进行图像方式曝光(是″可成像的″)，因此必须显示出在近红外范围的敏感性。例如从EP-A-0 672 544，EP-A-0 672 954和US-A-5,491,046以及EP-A-0 819 985中获知可以通过红外激光器成像的负性工作版。US-A-4,181,531和US-A-4,271,260描述了，4-二氢吡啶衍生物的正性作业系统，该系统显示出对紫外的敏感性。然而，这种系统不能抵抗化学品，特别是印刷过程中使用的化学品(例如溶剂)，因此使用这种系统只能得到少量的复制件。DD-A-287 796中描述了，4-二氢吡啶的负性工作系统。这篇文件中公开的可光聚合的组合物包含鎓类化合物作为辅助引发剂，该组合物只对紫外范围是敏感的。此外，由该系统得到的敏感性不能满足现在印刷版的需要。从US-A-6,143,471中也获知了1，4-二氢吡啶在辐射敏感系统中的应用。在这篇文件中，1，4-二氢吡啶用作正性工作的红外敏感组合物中的聚合物的溶解抑制剂。在US-B-6,291,143中1，4-二氢吡啶用作激光器热传输系统中的染料(例如红外染料)的光致还原剂。产生的吡啶鎓盐还在该系统中起作为羟基官能树脂的交联剂的作用。当时，仅仅知道辐射敏感组合物与吸收紫外线的染料一起在用于生产印刷版时，才显示出高度的辐射灵敏度和足够的储存稳定性(EP-A-0 730 201)。然而，含有这种组合物的印刷版必须在暗室条件下生产和加工，并且不能通过上述的激光器或激光二极管成像。它们不能在日光条件下加工的事实特别限制了它们的可用性。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供用于生产具有高度储存稳定性的负性印刷版的红外敏感组合物，该印刷版在印刷机上产出大量复制件，此外其特征还在于具有高度的红外敏感性。本专利技术的另一个目的是这种红外敏感组合物用于生产负性工作的印刷版的用途。通过红外敏感组合物达到这些目的，该红外敏感组合物除了包含聚合物粘合剂外，还包含自由基可聚合体系和引发剂体系，自由基可聚合体系包括不饱和的自由基可聚合单体或预聚物，上述引发剂体系包括下列组分(a)至少一种能吸收红外辐射的物质，(b)至少一种能形成自由基的化合物，和(c)至少一种式(I)的1，4-二氢吡啶衍生物 其中R1选自氢原子、-C(O)OR7、任选取代的烷基、任选取代的芳基和任选取代的芳烷基， R2和R3独立地选自任选取代的烷基、任选取代的芳基、CN和氢原子，R4和R5独立地选自-C(O)OR7、-C(O)R7、-C(O)NR8R9和CN，或者R2和R4一起形成任选取代的苯环或5到7元碳环或杂环，其中单元 存在于碳环或杂环中与1，4-二氢吡啶环的5位相邻的位置，其中碳环或杂环任选含有其它的取代基，或者R2和R4以及R3和R5都形成任选取代的苯环或5到7元碳环或杂环，其中单元 存在于碳环或杂环中与二氢吡啶环的3位和5位相邻的位置，其中碳环或杂环任选含有其它的取代基，或者R2/R4和R3/R5两对中的一对形成5到7元碳环或杂环，其中单元 存在于碳环或杂环中与二氢吡啶环的5位和3位相邻的位置，其中碳环或杂环任选含有其它的取代基，另一对形成任选取代的苯环，或者R2和R1或R3和R1形成任选包含一个或多个取代基的5到7元杂环，除了其与1，4-二氢吡啶环共用的氮原子外，任选含有其它氮原子、-NR13基团、-S-或-O-，R13选自氢原子、烷基、芳基和芳烷基，R6选自任选被卤原子或-C(O)基团取代的烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳烷基、任选取代的杂环基团和基团 Y是亚烷基或亚芳基，R7是氢原子、芳基、芳烷基或烷基，其中烷基和芳烷基的烷基部分任选含有一个或多个C-C双键和/或C-C三键，并且R8和R9独立地选自氢原子、任选取代的烷基、任选取代的芳基和任选取代的芳烷基。除非另有定义，本专利技术使用的术语“烷基”是指直链的、支链的或环状的饱和烃基，优选-18个碳原子，更优选-10个碳原子，特别优选-6个碳原子。烷基可以任选含有一个或多个取代基(优选0或1个取代基)，取代基选自例如卤原子(氟、氯、溴、碘)，CN，NR132，COOR13和OR13(每个R13独立地代表氢原子、烷基、芳基或芳烷基)。上述定义也适用于芳烷基和亚烷基的烷基部分。除非另有定义，本本文档来自技高网...
【技术保护点】
引发剂体系，包含（ａ）至少一种能吸收红外辐射的物质，（ｂ）至少一种能形成自由基的化合物，和（ｃ）至少一种式（Ⅰ）的１，４－二氢吡啶衍生物＊＊＊（Ⅰ）其中Ｒ↑［１］选自氢原子、－Ｃ（Ｏ）ＯＲ ↑［７］、任选取代的烷基、任选取代的芳基和任选取代的芳烷基，Ｒ↑［２］和Ｒ↑［３］独立地选自任选取代的烷基、任选取代的芳基、ＣＮ和氢原子，Ｒ↑［４］和Ｒ↑［５］独立地选自－Ｃ（Ｏ）ＯＲ↑［７］、－Ｃ（Ｏ）Ｒ↑［７］、－Ｃ（Ｏ ）ＮＲ↑［８］Ｒ↑［９］和ＣＮ，或者Ｒ↑［２］和Ｒ↑［４］一起形成任选取代的苯环或５到７元碳环或杂环，其中单元＊＊＊存在于碳环或杂环中与１，４－二氢吡啶环的５位相邻的位置，其中碳环或杂环任选含有其它的取代基， 或者Ｒ↑［２］和Ｒ↑［４］以及Ｒ↑［３］和Ｒ↑［５］都形成任选取代的苯环或５到７元碳环或杂环，其中单元＊＊＊存在于碳环或杂环中与二氢吡啶环的３位和５位相邻的位置，其中碳环或杂环任选含有其它的取代基，或者Ｒ↑［２］／Ｒ ↑［４］和Ｒ↑［３］／Ｒ↑［５］两对中的一对形成５到７元碳环或杂环，其中单元＊＊＊存在于碳环或杂环中与二氢吡啶环的５位和３位相邻的位置，其中碳环或杂环任选含有其它的取代基，另一对形成任选取代的苯环，或者Ｒ↑［２］和Ｒ ↑［１］或Ｒ↑［３］和Ｒ↑［１］形成任选包含一个或多个取代基的５到７元杂环，除了其与１，４－二氢吡啶环共用的氮原子外，任选含有其它氮原子、－ＮＲ↑［１３］基团、－Ｓ－或－Ｏ－，Ｒ↑［６］选自任选被卤原子或－Ｃ（Ｏ）基团取代的烷基、任 选取代的芳基、任选取代的芳烷基、任选取代的杂环基团和基团＊＊＊Ｙ是亚烷基或亚芳基，Ｒ↑［７］是氢原子、芳基、芳烷基或烷基，其中烷基和芳烷基的烷基部分任选含有一个或多个Ｃ－Ｃ双键和／或Ｃ－Ｃ三键，Ｒ↑［８］和Ｒ ↑［９］独立地选自氢原子、任选取代的烷基、任选取代的芳基和任选取代的芳烷基，并且Ｒ↑［１３］选自氢原子、烷基、芳基和芳烷基。...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：HJ廷珀，T维蒂希，J黄，U米勒，
申请(专利权)人：柯达彩色绘图有限责任公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。