【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种镀膜设备的配件，特别是一种镀膜设备的工艺气体布气装置。
技术介绍
在真空磁控溅镀膜系统,工艺气体的作用就是在阴阳两极电压的作用下放电离解成离化气体，离解的气体不断轰击阴极（靶材）表面，将待镀材料溅射到基片上，离化气体不断重组离解维持靶材表面的持续轰击；按照工艺气体是否参与溅射的反应，分为反应溅射与非反应溅射，无论哪种溅射，工艺气体的均匀供气都是影响成膜均匀性的主要因素。靶材表面是否布气均匀，直接影响膜层的色度、电阻、耐磨性、透过率等性能均匀性。传统的工艺气体布气有以下两种方式：1、一段供气：采用一根钢管要么从中间要么从一端进气，通过布气主管上不等间距或等间距出气小孔将工艺气体引至真空室，根本谈不上布气均匀；2、二元制多段供气：严格地按照二元制供气原理用多段不导磁材料管焊接而成，虽然布气均匀，但结构复杂，难于制作，容易积膜，堵塞出气小孔，导致布气不匀； 因布气管结构复杂，导致积膜难以清理，容易造成崩渣、针眼等膜层缺陷，更主要的是因其结构复杂，导致溅射系统的阳极与阴极形成的电场畸变，最终影响膜层的均匀性。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种解决磁控溅射系统工艺气体的持续均匀布气问题的镀膜设备的工艺气体布气装置。为了解决上述技术问题，本技术采用的技术方案是：一种镀膜设备的工艺气体布气装置，包括气体分布板，气体分布板设有多个出气孔和气体通道，气体通道与出气孔相连通，所述的出气孔在气体分布板上沿横轴线呈上下对称分布且沿纵轴线左右对称分布，所述的气体通道沿横轴向呈左右对称的树形结构与出气孔相连...
【技术保护点】
一种镀膜设备的工艺气体布气装置，包括气体分布板（1），气体分布板（1）设有多个出气孔（2）和气体通道，气体通道与出气孔（2）相连通，其特征在于：所述的出气孔（2）在气体分布板（1）上沿横轴线呈上下对称分布且沿纵轴线左右对称分布，所述的气体通道沿横轴向呈左右对称的树形结构与出气孔（2）相连通，每相邻的两个出气孔（2）的距离相等。
【技术特征摘要】
1.一种镀膜设备的工艺气体布气装置，包括气体分布板（1），气体分布板（1）设有多个出气孔（2）和气体通道，气体通道与出气孔（2）相连通，其特征在于：所述的出气孔（2）在气体分布板（1）上沿横轴线呈上下对称分布且沿纵轴线左右对称分布，所述的气体通道沿横轴向呈左右对称的树形结构与出气孔（2）相连通，每相邻的两个出气孔（2）的距离相等。
2.根据权利要求1所述的一种镀膜设备的工艺气体布气装置，其特征在于：还包括设置在气体分布板（1）上方的隔离板（3），隔离板（3）通过螺栓与气体分布板（1）固定。
3.根据权利要求2所述的一种镀膜设备的工艺气体布气装置，其特征在于：所述的隔离...
【专利技术属性】
技术研发人员：闫乃明，朱世元，
申请(专利权)人：深圳市金耀玻璃机械有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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