本发明专利技术提供一种基底传送设备以及一种基底加工设备,且更确切地说,涉及一种基底加工设备,其中当基底进行加工时,通过传送基底而使薄膜结晶于基底上。基底传送设备包含:通过空气轴承滑动的传送台;以及围绕空气轴承的吸收器,用来吸收从空气轴承喷射出之后折回的空气。
【技术实现步骤摘要】
基底传送设备和基底加工设备
本专利技术涉及一种基底传送设备以及一种基底加工设备,且更确切地说,涉及一种当基底进行加工时,通过基底传送设备传送基底而使薄膜结晶于所述基底上的基底加工设备。
技术介绍
在制造有机发光二极管(OLED)和太阳能电池时,通常执行热处理来使非晶多晶硅结晶。此处,当使用具有低熔点的基底时,使用激光来使非晶多晶硅结晶是十分有利的。具体地,随着基底变得更大,在沉积薄膜之后执行退火处理时更加难以保证均匀性,因此提出各种方法。所述各种方法中的一种是使用激光使非晶多晶硅结晶的退火方法。图1是图示了根据相关技术的激光加工设备的图。参考图1,气体入口端/出口端11a和11b设置在反应室10中,并且透明窗20设置在反应室10的上部部分中。激光束辐照单元40设置在透明窗20的上方,并且从所述激光束辐照单元40辐照出的激光束穿过透明窗20,到达反应室10内的基底W。图2(A)、图2(B)是图示了从图1中的激光束辐照单元40辐照出的激光束41的形状的图。图2(A)图示了从上方看到的基底。图2(B)是基底的透视图。如图2(A)及图2(B)所示,激光束41以直线形状辐照到基底W上。由于基底W在与激光束41的直线垂直的方向上(在箭头方向上)水平移动,因此激光束41可以辐照到基底W的整个表面上。用于传送基底的基底传送设备通过线性电机(linearmotor,LM)引导件来实施。如图3所示,在LM引导件中,第一轴传送台52沿着LM导轨51移动,而用作基底支撑件的第二轴传送台53沿着所述第一轴传送台52移动。因此,当执行热处理时,基底W通过第二定向运动和水平旋转运动以及第一定向运动合适地进行定位。此处,第一轴和第二轴是构成二维平面的任意轴,它们分别可以简单地表示为X轴和Y轴。第一轴和第二轴的定义也将类似地或等效地适用于下文中的描述。第一轴传送台沿着LM导轨移动,而第二轴传送台沿着所述第一轴传送台移动,同时与所述第一轴传送台机械地接触。机械接触会形成可能导致加工失败的微粒。为了将微粒的形成最少化,韩国专利申请公开案第2011-0010252号提出将空气轴承设置在第一轴传送台和第二轴传送台的下方,从而将机械摩擦接触最小化。然而,当传送台通过使用空气轴承移动时,可能发生随后的限制。空气轴承通过气压而无接触地漂浮。此处,由于喷射出的气压,因此空气轴承周围的微粒被吹走,从而使得污染物沉积在基底上。
技术实现思路
本专利技术提供一种基底传送设备,其中基底被稳定地传送。本专利技术还提供一种设备,其中通过使用空气轴承而产生的微粒污染物被最少化。本专利技术还提供一种用于使得高质量膜能够沉积的设备。根据示例性实施例,基底传送设备包含:通过空气轴承滑动的传送台;以及围绕空气轴承的吸收器,用来吸收从空气轴承喷射出之后折回的空气。根据另一示例性实施例,基底传送设备包含:一对导轨,该对导轨设置在第一轴方向上并且彼此间隔开;第一轴传送台,所述第一轴传送台连接该对导轨,且所述第一轴传送台在第二轴方向上具有一长度,通过设置在第一轴传送台的底部表面上的空气轴承,所述第一轴传送台在第一轴方向上沿着导轨前后滑动;第二轴传送台,所述第二轴传送台设置在所述第一轴传送台上方,通过设置在第二轴传送台的底部表面上的空气轴承,所述第二轴传送台在第二轴方向上沿着第一轴传送台前后滑动;旋转轴引导件,所述旋转轴引导件插入到第二轴传送台的中心;基底支撑件,所述基底支撑件设置在所述旋转轴引导件的上方;以及围绕空气轴承的吸收器,用来吸收从空气轴承喷射出之后折回的空气。第二轴传送台可以包含:基底支撑主体,所述基底支撑主体设置在第一轴传送台上方;第二轴传送台支撑主体,所述第二轴传送台支撑主体分别从基底支撑主体的两端向下突出,以在长度方向上围绕第一轴传送台的侧壁。吸收器可以包含:吸盘,所述吸盘围绕空气轴承的空气喷射表面;固定啮合棒,所述固定啮合棒将所述吸盘固定到外围结构上;多个吸气孔,所述多个吸气孔界定在所述吸盘的底部表面中;吸气管,其设置在所述吸盘内,所述吸气管与所述多个吸气孔连通;以及排气端,所述排气端设置在所述吸气管末端处以排放吸入的空气。根据又另一示例性实施例,基底加工设备包含:反应室,所述反应室具有内部空间;基底传送设备,在反应室的内部空间中,所述基底传送设备在第一轴方向和第二轴方向上传送基底;以及激光束生成单元,所述激光束生成单元将激光束辐照到设置在基底传送设备上的基底上,其中所述基底传送设备包含:一对导轨,该对导轨设置在第一轴方向上并且彼此间隔开;第一轴传送台,所述第一轴传送台连接该对导轨,且所述第一轴传送台在第二轴方向上具有一长度,通过设置在第一轴传送台的底部表面上的空气轴承,所述第一轴传送台在第一轴方向上沿着导轨前后滑动;第二轴传送台,所述第二轴传送台设置在所述第一轴传送台上方,通过设置在第二轴传送台的底部表面上的空气轴承,所述第二轴传送台在第二轴方向上沿着第一轴传送台前后滑动;旋转轴引导件,所述旋转轴引导件插入到第二轴传送台的中心;基底支撑件,所述基底支撑件设置在所述旋转轴引导件的上方;以及围绕空气轴承的吸收器,用来吸收从空气轴承喷射出之后折回的空气。附图说明可以从结合附图所作的以下描述中更详细地理解示例性实施例,其中:图1是图示了根据相关技术的激光加工设备的图。图2(A)、图2(B)是图示了激光束形状的图。图3是图示了根据相关技术的基底传送设备的图。图4是根据示例性实施例的激光热处理设备的示意图。图5是根据示例性实施例的包含基底传送设备的反应室的透视图。图6是根据示例性实施例的基底传送设备的俯视平面图。图7是根据示例性实施例的沿着图6中的线A-A'截取的基底传送设备的截面图。图8是根据示例性实施例的设置在空气轴承周围的吸收器的透视图。图9是根据示例性实施例的吸收器的透视图。图10是根据示例性实施例图示多个吸盘设置在空气轴承周围的状态的透视图。具体实施方式下文中,将参考附图详细描述特定实施例。然而,本专利技术可以通过不同的形式进行实施,且不应解释为限于本文中所列出的各实施例。相反,提供这些实施例以使本专利技术更加全面且完整,并且可以将本专利技术的范围完整地传达给所属领域的技术人员。在附图中,相同编号表示相同元件。图4是根据示例性实施例的激光热处理设备的示意图。尽管以下描述中将对作为包括基底传送设备的基底加工设备的激光热处理设备进行例证,但是本专利技术并不限于此,除了激光热处理设备以外本专利技术可以适用于对基底进行加工的各种设备。激光热处理设备(即,使用激光使基底结晶的基底加工设备)是激光结晶模块,其经配置以通过用激光束辐照基底来使基底W的表面或形成于基底W上的薄膜结晶。激光热处理设备包含:反应室200,所述反应室200具有内部空间;基底传送设备100,所述基底传送设备100设置在反应室200内以支撑基底W,基底传送设备100水平传送基底W;透明窗300,所述透明窗300相对于基底传送设备100设置在反应室200的一侧上;激光束生成单元400,所述激光束生成单元400设置在反应室200的外部以辐照出激光束;以及反光镜450,所述反光镜450在反应室200的外部面对着透明窗300的上侧。另外,激光热处理设备包含设置在反应室200内的透明窗300两侧处的第一加热器150a和第二加热器150b,并本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种基底传送设备,其包括:通过空气轴承滑动的传送台;以及围绕所述空气轴承的吸收器,用来吸收从所述空气轴承喷射出之后折回的空气。
【技术特征摘要】
2012.11.13 KR 10-2012-01281361.一种基底传送设备,其包括:一对导轨,该对导轨设置在第一轴方向上并且彼此间隔开;第一轴传送台,所述第一轴传送台连接该对导轨,且所述第一轴传送台在第二轴方向上具有一长度,通过设置在所述第一轴传送台的底部表面上的空气轴承,所述第一轴传送台在所述第一轴方向上沿着所述导轨前后滑动;第二轴传送台,所述第二轴传送台设置在所述第一轴传送台上方,通过设置在所述第二轴传送台的底部表面上的所述空气轴承,所述第二轴传送台在所述第二轴方向上沿着所述第一轴传送台前后滑动;旋转轴引导件,所述旋转轴引导件插入到所述第二轴传送台的中心;基底支撑件,所述基底支撑件设置在所述旋转轴引导件的上方;以及围绕所述空气轴承的吸收器,用来吸收从所述空气轴承喷射出之后折回的空气;所述吸收器包括:吸盘,所述吸盘围绕所述空气轴承的空气喷射表面;固定啮合棒,所述固定啮合棒将所述吸盘固定到外围结构上;多个吸气孔,所述多个吸气孔界定在所述吸盘的底部表面中;吸气管,其提供于所述吸盘中,所述吸气管与所述多个吸气孔连通;排气端,所述排气端设置在所述吸气管的末端处以排放吸入的空气;以及压力控制阀,安装至所述排气端以提供吸力。2.根据权利要求1所述的基底传送设备,其特征在于,所述第一轴传送台具有预定长度的线槽。3.根据权利要求1或2所述的基底传送设备,其特征在于,所述第二轴传送台经设置以从上方凹入地围绕所述第一轴传送台。4.根据权利要求3所述的基底传送设备,其特征在于,所述第二轴传送台包括:基底支撑主体,所述基底支撑主体设置在所述第一轴传送台上方;以及第二轴传送台支撑主体,所述第二轴传送台支撑主体分别从所述基底支撑主体的两端向下突出,以在长度方向上围绕所述第一轴传送台的侧壁。5.根据权利要求1所述的基底传送设备,其特征在于,所述空气轴承以多个的形式分别提供于所述第一轴传送台的底部表面和所述第二轴传送台支撑主体的底部表面上...
【专利技术属性】
技术研发人员:沈亨基,金贤中,安珍荣,车恩熙,
申请(专利权)人:AP系统股份有限公司,三星显示有限公司,
类型:发明
国别省市:韩国;KR
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