铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜、制备方法及其应用技术

一种铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜，其化学式为MeBO3:xCe3+，其中0.01≤x≤0.05，MeBO3是基质，铈元素是激活元素，Me为Y、La、Gd或Lu。该铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜的电致发光光谱(EL)中，在535nm波长区都有很强的发光峰，能够应用于薄膜电致发光显示器中。本发明专利技术还提供该铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜的制备方法及其应用。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜，其化学式为MeBO3:xCe3+，其中0.01≤x≤0.05，MeBO3是基质，铈元素是激活元素，Me为Y、La、Gd或Lu。该铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜的电致发光光谱(EL)中，在535nm波长区都有很强的发光峰，能够应用于薄膜电致发光显示器中。本专利技术还提供该铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜的制备方法及其应用。【专利说明】铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜、制备方法及其应用【
】本专利技术涉及一种铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜及其制备方法、以及薄膜电致发光器件及其制备方法。【
技术介绍
】薄膜电致发光显示器(TFELD)由于其主动发光、全固体化、耐冲击、反应快、视角大、适用温度宽、工序简单等优点，已引起了广泛的关注，且发展迅速。目前，研究彩色及至全色TFELD，开发多波段发光的薄膜，是该课题的发展方向。但是，可应用于薄膜电致发光显示器的铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜，仍未见报道。【
技术实现思路
】基于此，有必要提供一种可应用于薄膜电致发光器件的铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜及其制备方法、以及薄膜电致发光器件及其制备方法。一种铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜，其化学式为MeBO3:XCe3+，其中MeBO3是基质，铈元素是激活元素，0.01 ≤ X ≤ 0.05, Me为Y、La、Gd或Lu。在优选的实施例中，铺掺杂稀土硼酸盐发光薄膜的厚度为80nm~300nm。一种铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜的制备方法，包括以下步骤: 将衬底装入化学气相沉积设备的反应室中，并将反应室的真空度设置为1.0X KT2Pa ~LOXKT3Pa ；调节衬底的温度为250°C~650°C，转速为50转/分钟~1000转/分钟，采用氩气气流的载体，根据MeBO3: xCe3+各元素的化学计量比将Me (DPM) 3、BH3和四甲基庚二酮铈通入反应室内，及然后通入氧气，进行化学气相沉积得到铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜其化学式为MeBO3: xCe3+，其中MeBO3是基质，铈元素是激活元素，0.01≤x≤0.05，Me为Y、La、Gd或Lu。在优选的实施例中，Me (DPM) 3、BH3和四甲基庚二酮铈摩尔比为1:1: (0.01~0.05)。在更优选的实施例中，Me (DPM) 3、BH3和四甲基庚二酮铈摩尔比为1:1: 0.02。在优选实施例中，氩气气流量为5~15sccm，氧气气流量为10~200sccm。一种薄膜电致发光器件，该薄膜电致发光器件包括依次层叠的衬底、阳极层、发光层以及阴极层，所述发光层的材料为铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜，该铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜的化学式为MeBO3:XCe3+，其中MeBO3是基质，铈元素是激活元素，0.01 ≤x ≤ 0.05,Me 为 Y、La、Gd 或 Lu。在优选实施例中，发光层的厚度为80nm~300nm。一种薄膜电致发光器件的制备方法，包括以下步骤:提供具有阳极的衬底；在所述阳极上形成发光层，所述发光层的材料为铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜，该铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜的化学式为MeBO3:XCe3+，其中MeBO3是基质，铈元素是激活元素，0.01 ≤ X ≤ 0.05，Me 为 Y、La、Gd 或 Lu ;在所述发光层上形成阴极。在优选的实施例中，所述发光层的制备包括以下步骤:将衬底装入化学气相沉积设备的反应室中，并将反应室的真空度设置为1.0X KT2Pa ~LOXKT3Pa ；调节衬底的温度为250°C~650°C，转速为50转/分钟~1000转/分钟，采用氩气气流的载体，根据MeBO3: xCe3+各元素的化学计量比将Me (DPM) 3、BH3和四甲基庚二酮铈通入反应室内，其中，氩气气流量为5~15SCCm，及然后通入氧气，流量为10~200sCCm ;进行化学气相沉积得到发光层化学式为MeBO3: xCe3+，其中MeBO3是基质，铈元素是激活元素，0.01≤x≤0.05，Me为Y、La、Gd或Lu。上述铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜(MeBO3: xCe3+)的电致发光光谱(EL)中，在535nm波长区都有很强的发光峰，能够应用于薄膜电致发光显示器中。【【专利附图】【附图说明】】图1为一实施方式的薄膜电致发光器件的结构示意图；图2为实施例1制备的铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜的电致发光谱图；图3为实施例1制备的铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜的XRD图；图4为实施例1制备的薄膜电致发光器件的电压与电流和亮度关系图。【【具体实施方式】】下面结合附图和具体实施例对铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜、其制备方法和薄膜电致发光器件及其制备方法作进一步阐明。一实施方式的铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜，其化学式为MeBO3: xCe3+，其中MeBO3是基质，铺元素是激活元素，0.01≤X≤0.05, Me为Y、La、Gd或Lu。优选的，铺掺杂稀土硼酸盐发光薄膜的厚度为80nm~300nm, x为0.02。该铺掺杂稀土硼酸盐发光薄膜中MeBO3是基质,铺元素是激活元素。该铺掺杂稀土硼酸盐发光薄膜的电致发光光谱(EL)中，在535nm波长区都有很强的发光峰，能够应用于薄膜电致发光显示器中。上述铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜的制备方法，包括以下步骤:步骤S11、将衬底装入化学气相沉积设备的反应室中，并将反应室的真空度设置为L0X10_2Pa ~1.0X10_3Pa。在本实施方式中，衬底为铟锡氧化物玻璃(ITO)，可以理解，在其他实施例中，也可以为掺氟氧化锡玻璃(FTO)、掺招的氧化锌(AZO)或掺铟的氧化锌(IZO);衬底先后用甲苯、丙酮和乙醇超声清洗5分钟，然后用蒸馏水冲洗干净，氮气风干后送入反应室。优选的，反应室的真空度为4.0X 10_3Pa。步骤S12、将衬底在600°C~800°C下热处理10分钟~30分钟。步骤S13、调节衬底的温度为250°C~650°C，转速为50转/分钟~1000转/分钟，采用氩气气流的载体，根据MeBO3: xCe3+各元素的化学计量比将Me (DPM) 3、BH3和四甲基庚二酮铈通入反应室内。在优选的实施例中，Me (DPM) 3、BH3和四甲基庚二酮铈摩尔比为1:1: (0.01~0.05)。在更优选的实施例中，Me (DPM) 3、BH3和四甲基庚二酮铈摩尔比为1:1: 0.02。在优选实施例中，衬底的温度优选为500°C，衬底的转速优选为300转/分钟，氩气气流量为5~15sccm。更优选实施例中，気气气流量为lOsccm。步骤S14、然后通入氧气，进行化学气相沉积得到铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜其化学式为MeBO3:xCe3+，其中MeBO3是基质，铈元素是激活元素，0.01≤x≤0.05，Me为Y、La、Gd 或 Lu ο在优选的实施例中，氧气气流量为10~200sccm，x为0.02。更优选实施例中，氧气气流量为120sccm。步骤S15、沉积完毕后停止通入Me (DPM) 3、BH3和四甲基庚二酮铈及氩气，继续通入氧气使铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜的温度降至80°C~150°C。本实施方式中，优选的，使铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜的温度降至100°C。可以理解，步骤S12和步骤S15可以省略。请参阅图1，一实施方式的薄膜电致发光器件100，该薄膜电致发光器件100包括依次层叠的衬底本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种铈掺杂稀土硼酸盐发光薄膜，其特征在于，其化学式为MeBO3:xCe3+，其中MeBO3是基质，铈元素是激活元素，0.01≤x≤0.05，Me为Y、La、Gd或Lu。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周明杰，王平，陈吉星，黄辉，
申请(专利权)人：海洋王照明科技股份有限公司，深圳市海洋王照明技术有限公司，深圳市海洋王照明工程有限公司，
类型：发明
国别省市：