触摸屏和用于电极的方法技术

公开了触摸屏和用于制造电极的方法。所述触摸屏包括基板和在所述基板上设置的用于检测接触位置的透明电极。所述透明电极包括具有30微米至50微米的长度的金属纳米线。所述方法包括：制备纳米线；将所述纳米线涂覆在基板上；以及，将所述基板固化。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】公开了触摸屏和用于制造电极的方法。所述触摸屏包括基板和在所述基板上设置的用于检测接触位置的透明电极。所述透明电极包括具有30微米至50微米的长度的金属纳米线。所述方法包括：制备纳米线；将所述纳米线涂覆在基板上；以及，将所述基板固化。【专利说明】
实施例涉及触摸屏及其制造方法。
技术介绍
近来，在各种电子产品中已经应用了触摸屏，其通过经由诸如手写笔或手的输入装置对在显示装置上显示的图像进行触摸来执行输入功能。触摸屏可主要分为电阻型触摸屏和电容型触摸屏。在电阻型触摸屏中，由于输入装置的压力，使得电极与玻璃短接，使得触摸点被检测到。在电容型触摸屏中，当用户的手指触摸电容型触摸屏时，会检测到在电极之间的电容变化，使得触摸点被检测到。铟锡氧化物(ΙΤ0)已经非常普遍地用作触摸屏的电极，但是价格高，并且需要高温沉积工艺和真空工艺。另外，由于基板的弯折或弯曲，导致ITO容易断裂，使得用于电极的ITO的特性变差。因此，ITO不适合于柔性装置。为了解决该问题，已经积极地进行了对于替代电极的研发工作。
技术实现思路
技术问题实施例能够提供包括表现出高透射率和低电阻的电极的触摸屏。实施例能够提供表现出高透射率和低电阻的电极。技术解决方案根据实施例，提供了一种触摸屏。所述触摸屏包括基板和在所述基板上设置的用于检测接触位置的透明电极。所述透明电极包括具有30微米至50微米的长度的金属纳米线。根据实施例，提供了一种用于制造所述电极的方法。所述方法包括:制备纳米线；将纳米线涂覆在基板上；以及，将所述基板固化。有益效果构成根据所述实施例的所述触摸屏的所述透明电极使用具有30nm至60nm的直径和30微米至50微米的长度的金属纳米线。因此，可以表现出高的光学特性和电学特性。换句话说，所述金属纳米线可以在形成网络结构的同时构成所述电极。在该情况下，所述金属纳米线被形成为薄的厚度和长的长度，使得可以增大透射率和透明度，并且可以减小电阻。通过根据所述实施例的用于制造所述电极的方法所制造的电极可以保持高的透射率。另外，所述电极表现出低反射率、高的导电率、高的透光率和低雾度。另外，所述电极表现出低的薄层电阻，使得可以改善具有所述电极的所述触摸屏的性能。【专利附图】【附图说明】图1是示意地示出根据第一实施例的触摸屏的透视图；图2是示意地示出根据第二实施例的触摸屏的透视图；图3是示出根据所述实施例的用于制造电极的方法的流程图；以及图4是示出在根据所述实施例的用于制造所述电极的方法中的、制备纳米线的步骤的流程图。【具体实施方式】在实施例的描述中，应理解，当层(或膜)、区域、图案或结构被称为在另一个基板、另一个层(或膜)、另一个区域、另一个焊盘或另一个图案“上”或“下”时，它可以“直接地”或“间接地”在该另一个基板、层(或膜)、区域、焊盘或图案上，或者也可以存在一个或多个介入层。为了方便或清楚，可能夸大、省略或示意地示出在附图中所示的每一个层(或膜)、每一个区域、每一个图案或每一个结构的厚度和大小。另外，元件的大小并非完全反映实际大小。以下，将参考图1来详细描述根据第一实施例的触摸屏100。根据第一实施例的触摸屏100包括电阻型触摸屏。触摸屏100通过在两个基板10和12上形成的透明电极22和24之间的接触来运行。详细而言，根据第一实施例的触摸屏100包括第一基板10、与第一基板10间隔开的第二基板12、在第一基板10上形成的第一透明电极22、在第二基板12上形成的第二透明电极24以及在第一基板10和第二基板12之间的空间内插入的电路板50。第一透明电极22和第二透明电极24分别形成在第一基板10和第二基板12上，并且被点隔离器30彼此间隔开，该点隔离器包括绝缘体并且具有球形形状。如果在上部和下部形成的第一透明电极22和第二透明电极24彼此接触，则在第一透明电极22和第二透明电极24之间的薄层电阻的电阻值根据其接触位置而变化。触摸屏100的电流和电压可以随着所变化的电阻而变化，使得可以检测到输入位置。另外在触摸屏100中设置了粘结剂40，以将第一基板10和第二基板12彼此接合。第一透明电极22和第二透明电极24可以包括金属纳米线。详细而言，第一透明电极22和第二透明电极24可以包括银纳米线。该金属纳米线可以具有大约30微米或30微米以上的长度。详细而言，该金属纳米线可以具有30微米至50微米的长度。该金属纳米线可以具有大约60微米或60微米以下的直径。更详细而言，该金属纳米线可以具有30nm至60nm的直径。当该金属纳米线用于第一透明电极22和第二透明电极24时，金属纳米线可以表现出较高的光学和电学特性。换句话说，金属纳米线可以在形成网络结构的同时构成电极。在该情况下，因为形成了长且薄的金属纳米线，所以可以增大透射率和透明度，并且可以减小电阻。虽然在附图中未示出，但是另外在触摸屏100的下端上布置了液晶板。液晶板是作为液晶显示器的显示部分。液晶板通过调整向两个玻璃基板注入的液晶单元的透光率来显示图像。该等液晶单元响应于视频信号即对应的像素信号来调整发射的光的量。触摸屏100和该液晶板彼此接合以构成液晶显示器。以下，将参考图2来详细描述根据第二实施例的触摸屏200。在下面的说明中，为了清楚和简单的说明，将省略与第一实施例的结构和组件相同或与第一实施例的结构和组件极其类似的结构和组件的细节，但是与第一实施例的结构和组件构成差别的结构和组件除外。根据第二实施例的触摸屏200是电容型触摸屏。如果诸如人的手指的输入装置与触摸屏200接触，则产生电容差。产生电容差的点可以被检测为接触位置。详细而言，根据第二实施例的触摸屏200包括第一基板110、与第一基板110间隔开的第二基板112、在第一基板110上形成的第一透明电极122、在第二基板112上形成的第二透明电极124以及在第一基板110和第二基板112之间的空间内插入的电路板150。在第一基板110和第二基板112之间形成的光透明粘结剂(OCA) 130可以稳定地将两层彼此接合，而不降低透光率。保护层140可以位于第二基板112的下端处。保护层140可以包括散开防止层，以防止当因为撞击导致触摸屏200破裂时碎片散开。然而，该实施例不限于此。因此，保护层140可以包括防反射层，用于降低可见频带光的反射，以便防止由反射引起的眩光，或防止看不到屏幕图像的现象。第一透明电极122和第二透明电极124可以包括金属纳米线。该金属纳米线可以与构成根据如上所述的第一实施例的触摸屏的金属纳米线类似或相同。以下，将参考图3和图4来描述根据实施例的用于制造电极的方法。图3是示出根据实施例的用于制造电极的方法的流程图。图4是示出在根据实施例的用于制造电极的方法中的制备纳米线的步骤STlOO的流程图。参见图3，根据实施例的用于制造电极的方法包括制备纳米线的步骤(步骤ST100)、涂覆步骤(步骤ST200)和固化步骤(步骤ST300)。在制备纳米线的步骤中(步骤ST100)，可以制备具有30nm至60nm的直径和30微米至50微米的长度的纳米线。详细而言，参见图4，根据实施例的用于制造纳米线的方法可以包括:加热溶剂的步骤(步骤ST110);向溶剂添加封端剂的步骤(步骤ST120);向溶剂添加催化剂的步骤本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种触摸屏，包括：基板；以及在所述基板上设置的用于检测接触位置的透明电极，其中，所述透明电极包括具有30微米至50微米的长度的金属纳米线。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：金泫贞，柳永先，蔡京勳，
申请(专利权)人：LG伊诺特有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR