薄膜掩模修正装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供薄膜掩模修正装置，能够在曝光装置外容易且正确地修正、校正薄膜掩模与基板的局部偏差。该薄膜掩模修正装置具有基板台（1）、薄膜掩模基座（2）、摄像装置（3）、加压装置（4）以及薄膜掩模保持架（70）。薄膜掩模基座（2）具有透明的玻璃板（20）和升降装置（21），将玻璃板（20）重叠在基板（90）上，通过上升而将薄膜掩模（95）转移到薄膜掩模保持架（70）。摄像装置（3）重叠地拍摄基板（90）与薄膜掩模（95）以及基板产品图案（92）与掩模产品图案（97），观测基板（90）与薄膜掩模（95）的画面的差分。通过摩擦块（40）进行薄膜掩模（95）的修正，薄膜掩模保持架（70）接收修正后的薄膜掩模（95）并转移到下一个工序。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及薄膜掩模（film mask）修正装置。
技术介绍
光刻法已经在各种领域中得到广泛应用，而且近年来，印刷布线基板也在使用曝光装置进行制造，其中，所述光刻法是通过曝光装置在涂敷了光致抗蚀剂等感光材料的基板表面上感光烧印规定的图案，之后通过蚀刻工序在基板上形成图案。在该印刷布线基板的曝光装置中，作为描绘有图案原画的底版，多使用树脂薄膜掩模。另一方面，对于以智能手机为代表的数字终端等，要求提高小型轻量化和高功能高性能化，与此相应地，安装电子部件的印刷布线板也在向多层化、薄板化发展，并且向布线的高密度高精度化发展。因此，在使用了薄膜掩模的接触式曝光装置中，也要求比以往更高的对位精度。然而，薄膜掩模制作时的描绘偏差、薄膜掩模自身的伸缩、薄膜掩模安装时的变形、重复进行接触式曝光所引起的伸缩和变形、或者基板自身的伸缩和变形等因素综合重叠在一起，经常会发生电路图案的一部分未对准基板的下层电路图案的问题，无法应对高对位精度的要求。因此，为了解决这样的问题，如专利文献1、2所示，已经提出并使用了如下的印刷布线基板用的曝光装置：通过拉伸薄膜掩模外周部而使整个薄膜掩模弹性变形来进行对位，并在该状态下进行曝光。但是，关于这种印刷布线基板用的曝光装置，需要新的曝光装置或者大幅改进已有的曝光装置。另外，因为是使整个薄膜掩模变形的结构，因此存在无法完全应对薄膜掩模的一部分的变形的问题。目前的现状是，使用了以往的薄膜掩模的接触式曝光装置的要求依然很高，且希望继续使用已有的曝光装置的要求也很高。专利文献1：日本特许第3345178号专利文献2：日本特许第3402681号因此，目前的现状是：为了使用已有的曝光装置来实现高精度的对位，在实际的生产现场中，作业者记住基板与薄膜掩模的对位状态，暂时取出掩模保持架，进行错位部分的摩擦等作业而对薄膜掩模的一部分的变形进行修正、校正。但是，在这种以往的修正、校正方法中，依赖于作业者的记忆和感觉的部分较多，此外还需要熟练性，而且在该作业中生产被中断，因此还产生了生产性降低的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于解决如上所述的以往的问题，其目的在于，提供如下这样的薄膜掩模修正装置：能够在图像中确认薄膜掩模的电路图案与基板的电路图案之间的局部偏差的同时，容易、正确地且不降低生产性地在曝光装置外进行修正、校正。为了达到上述目的，本专利技术的薄膜掩模修正装置的特征在于，包括：基板台，其载置具有对位用的基板标记的基板；由透明体构成的薄膜掩模基座，其在所述基板台的上方载置具有对位用的掩模标记的薄膜掩模；摄像装置，其能够重叠地拍摄所述基板和所述薄膜掩模；对位装置，其通过所述摄像装置对所述基板标记和掩模标记进行拍摄，根据该拍摄到的基板标记和掩模标记进行基板与薄膜掩模的对位；加压装置，其根据由所述摄像装置拍摄到的基板和薄膜掩模，使薄膜掩模的期望位置发生变形；薄膜掩模固定装置，其以保持由该加压装置实现的薄膜掩模的变形的方式，将薄膜掩模固定到所述薄膜掩模基座；以及转移装置，其以保持所述薄膜掩模的变形的状态，将该薄膜掩模转移到薄膜掩模保持架上，该薄膜掩模保持架用于保持所述薄膜掩模并安装到曝光装置。所述薄膜掩模修正装置还可以具有移动装置，该移动装置以保持所述薄膜掩模的变形的状态，将设有转移来的所述薄膜掩模的薄膜掩模保持架移动到曝光装置。另外优选为，所述薄膜掩模修正装置还具有基板台贴紧固定装置，该基板台贴紧固定装置将所述薄膜掩模基座贴紧固定于所述基板台，所述薄膜掩模修正装置在将该薄膜掩模基座贴紧固定于该基板台的状态下，通过所述加压装置使薄膜掩模的期望位置发生变形。另外优选为，所述薄膜掩模修正装置还具有掩模保持架贴紧固定装置，该掩模保持架贴紧固定装置将所述薄膜掩模基座贴紧固定于所述薄膜掩模保持架，所述薄膜掩模修正装置在将该薄膜掩模基座贴紧固定于该薄膜掩模保持架的状态下，通过所述转移装置转移薄膜掩模。所述摄像装置优选使用远心透镜。另外所述加压装置优选具有摩擦块（rubbing block）。根据本专利技术的薄膜掩模修正装置，具有如下效果等：不依赖于作业者的记忆和感觉而能够进行容易且正确的对位。另外，由于是在曝光装置外进行修正作业，因此不用停止曝光装置，生产性提高。另外，装置便宜，能够继续使用以往的接触式曝光装置。附图说明图1是示出本专利技术的一个实施方式的概略主视图。图2是本专利技术的一个实施方式中的薄膜掩模固定装置22的侧视图。图3是本专利技术的一个实施方式中的薄膜掩模固定装置22的俯视图。图4是本专利技术的一个实施方式中的薄膜掩模固定装置71的侧视图。图5是本专利技术的一个实施方式中的真空源切换装置76的框图。图6是示出本专利技术的一个实施方式的概略侧视图。图7是示出本专利技术的一个实施方式的动作的说明图。图8是示出本专利技术的一个实施方式的动作的说明图。图9是示出本专利技术的一个实施方式的动作的说明图。图10是示出本专利技术的一个实施方式的动作的说明图。图11是示出本专利技术的一个实施方式的动作的说明图。图12是示出本专利技术的一个实施方式的动作的说明图。图13是示出本专利技术的一个实施方式的动作的说明图。图14是示出本专利技术的一个实施方式的动作的说明图。标号说明1：基板台；2：薄膜掩模基座；3：摄像装置；4：加压装置；5：转移装置；6：控制装置；7：薄膜掩模保持架支承装置；8：移动装置；9：对位装置；10：XYθ移动机构；11：保护膜；15：基板台贴紧固定装置；16：密封件；17：封闭空间；18：真空源；20：玻璃板；21：升降装置；22：薄膜掩模固定装置；23：吸附槽；24：真空源；25：框架；30：CCD摄像机；31：远心透镜；32：LED环形照明器；33：显示器；40：摩擦块；70：薄膜掩模保持架；71：薄膜掩模固定装置；72：框架；73：玻璃板；74：吸附槽；75：真空源；76：真空源切换装置；77：切换阀；78：连接器；80：移动台车；81：真空源；82：密封件；83：真空源；84：封闭空间；85：掩模保持架贴紧固定装置；90：基板；91：基板标记；92：基板产品图案；95：薄膜掩模；96：掩模标记；97：掩模产品图案。具体实施方式下面，根据附图来说明本专利技术的实施方式。在图1中，该薄膜掩模修正装置具有：基板台1、薄膜掩模基座2、摄像装置3、加压装置4、转移装置5以及控制装置6。该薄膜掩模修正装置设置在印刷布线基板的曝光工艺线外。在基板本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜掩模修正装置，其特征在于，包括：基板台，其载置具有对位用的基板标记的基板；由透明体构成的薄膜掩模基座，其在所述基板台的上方载置具有对位用的掩模标记的薄膜掩模；摄像装置，其能够重叠地拍摄所述基板和所述薄膜掩模；对位装置，其通过所述摄像装置对所述基板标记和掩模标记进行拍摄，根据该拍摄到的基板标记和掩模标记进行基板与薄膜掩模的对位；加压装置，其根据由所述摄像装置拍摄到的基板和薄膜掩模，使薄膜掩模的期望位置发生变形；薄膜掩模固定装置，其以保持由该加压装置实现的薄膜掩模的变形的方式，将薄膜掩模固定到所述薄膜掩模基座；以及转移装置，其以保持所述薄膜掩模的变形的状态，将该薄膜掩模转移到薄膜掩模保持架上，该薄膜掩模保持架用于保持所述薄膜掩模并安装到曝光装置。

【技术特征摘要】
2012.10.31 JP 2012-2397141.一种薄膜掩模修正装置，其特征在于，包括：
基板台，其载置具有对位用的基板标记的基板；
由透明体构成的薄膜掩模基座，其在所述基板台的上方载置具有对位用的掩模标
记的薄膜掩模；
摄像装置，其能够重叠地拍摄所述基板和所述薄膜掩模；
对位装置，其通过所述摄像装置对所述基板标记和掩模标记进行拍摄，根据该拍
摄到的基板标记和掩模标记进行基板与薄膜掩模的对位；
加压装置，其根据由所述摄像装置拍摄到的基板和薄膜掩模，使薄膜掩模的期望
位置发生变形；
薄膜掩模固定装置，其以保持由该加压装置实现的薄膜掩模的变形的方式，将薄
膜掩模固定到所述薄膜掩模基座；以及
转移装置，其以保持所述薄膜掩模的变形的状态，将该薄膜掩模转移到薄膜掩模
保持架上，该薄膜掩模保持架用于保持所述薄膜掩模并安装到曝光装置。
2.根据权利要求1所述的薄膜掩模修正装置，其特征在于，
所述薄膜掩模修正装置还具有移动装置，该移动装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：阿部和芳，杉田健一，
申请(专利权)人：株式会社阿迪泰克工程，
类型：发明
国别省市：日本;JP