一种建筑基坑用V型排水沟制造技术

本实用新型专利技术公开了一种建筑基坑用V型排水沟，包括地面和设置在地面内的素混凝土垫层，所述素混凝土垫层上端设置有V形凹槽，所述V形凹槽两侧壁构成的角度为90°—135°，所述V形凹槽两侧地面坡向V形凹槽，且坡度0.5%。通过采用上述技术方案，V形凹槽结构和各尺寸设置合理，能够有效地解决水流量小时流速低的问题，杂物落入排水沟打扫方便，排水通畅性好。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张宇，李卫林，张灵传，蒋宇航，
申请(专利权)人：中天建设集团有限公司，
类型：实用新型
国别省市：