基于非本征吸杂技术的CCD制作工艺制造技术

一种基于非本征吸杂技术的CCD制作工艺，包括提供硅衬底，其创新在于：所述提供硅衬底按如下工艺进行：A.采用CVD方式在衬底层上表面淀积硅薄膜；B.采用机械损伤方式、激光损伤方式或离子注入损伤方式对衬底层下表面进行处理，形成背面损伤层；C.采用CVD方式在背面损伤层表面淀积多晶硅薄膜或氮化硅薄膜。本发明专利技术的有益技术效果是：通过工艺手段提高非本征吸杂层的吸杂能力，保证外延层的清洁度始终维持在较好的状态，降低成品CCD的暗电流，提高器件品质。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种基于非本征吸杂技术的CCD制作工艺，包括提供硅衬底，其创新在于：所述提供硅衬底按如下工艺进行：A.采用CVD方式在衬底层上表面淀积硅薄膜；B.采用机械损伤方式、激光损伤方式或离子注入损伤方式对衬底层下表面进行处理，形成背面损伤层；C.采用CVD方式在背面损伤层表面淀积多晶硅薄膜或氮化硅薄膜。本专利技术的有益技术效果是：通过工艺手段提高非本征吸杂层的吸杂能力，保证外延层的清洁度始终维持在较好的状态，降低成品CCD的暗电流，提高器件品质。【专利说明】基于非本征吸杂技术的CCD制作工艺
本专利技术涉及一种CCD制作技术，尤其涉及一种基于非本征吸杂技术的CCD制作工艺。
技术介绍
CXD制作工艺的常规步骤为:提供硅衬底(也即衬底层)一形成栅介质一形成沟阻—形成沟道一形成转移栅一形成地一形成放大器源漏一连接通孔一形成金属引线；其中，与本文的改进点相关的即为提供硅衬底； 外延硅片是常用的衬底层结构，相比于以前用单晶硅片作为衬底层制作出的CCD，用外延硅片作为衬底层制作出的CCD具有更低的暗电流，尤其是对于工作于高温环境下的CCD而言，用外延硅片作为衬底层的CCD的低暗电流优势更为明显，因此，目前的CCD制作中普遍采用外延硅片作为衬底层。由于CXD制作的工艺周期较长，各个工艺步骤中都存在引入Fe、N1、Cu等重金属离子的可能性，而重金属离子又是导致CCD暗电流增加的主要原因，因此，在CCD制作时还要考虑采用吸杂技术来去除重金属离子；现有技术中，对半导体器件进行吸杂处理时，常用手段有本征吸杂和非本征吸杂两种； 本征吸杂的基本原理是:采用高温处理工艺(典型处理流程为1100°C /6小时的高温热处理、650°C /16小时的低温热处理和1000°C /6小时的高温热处理)使硅片表面区的间隙氧原子往外面扩散形成脱氧层，内部间隙氧原子成核形成氧沉淀，利用氧沉淀所形成的缺陷吸除娃片中的杂质；但本征吸杂不适于CCD工艺中的吸杂,其原因是:由于本征吸杂后,CCD制作工艺中存在温度条件为900°C至1000°C的热工艺步骤，氧沉淀会在900°C至1000°C的高温条件下逐渐溶解、消失，起不到吸杂作用。非本征吸杂的基本原理是:通过在硅片体外(常为硅片背面)引入应变区或损伤区来起到吸杂作用；常用的应变区形成方式如:在硅片背面淀积氮化硅薄膜或多晶硅薄膜；常用的损伤区形成方式有:对硅片背面进行机械损伤处理、激光损伤处理或离子注入损伤处理。现有技术在对CCD工艺中引入的杂质进行吸杂处理时，一般在应变区和损伤区中择一形成非本征吸杂区；虽然应变区和损伤区不会像本征吸杂那样在CCD工艺中的高温条件下完全失效，但CCD工艺中的高温条件仍然会对应变区和损伤区造成负面影响:CCD工艺中的高温条件会对损伤区起到退火作用，使损伤区上的损伤中心数量逐渐减少，降低损伤区的吸杂作用；CCD工艺中的高温条件也会对应变区起到退火作用，使氮化硅薄膜或多晶硅薄膜的应力减小，降低应变区的吸杂作用；并且，若应变区和损伤区暴露在高温环境下的时间太长，也有可能导致非本征吸杂作用完全消失。
技术实现思路
针对
技术介绍
中的问题，本专利技术提出了一种基于非本征吸杂技术的CCD制作工艺，包括:I)提供硅衬底，2)形成栅介质，3)形成沟阻，4)形成沟道，5)形成转移栅，6)形成地，7)形成放大器源漏，8)连接通孔，9)形成金属引线；其创新之处在于 所述步骤I)提供硅衬底按如下工艺进行:A、采用CVD方式在衬底层上表面淀积硅薄膜，淀积出的硅薄膜即形成外延层； B、采用机械损伤方式、激光损伤方式或离子注入损伤方式对衬底层下表面进行处理，形成背面损伤层； C、采用CVD方式在背面损伤层表面淀积多晶硅薄膜或氮化硅薄膜，多晶硅薄膜或氮化硅薄膜即形成应变层； 由衬底层经步骤A、B、C的处理后所形成的结构体，即为一多层复合结构的外延硅片，背面损伤层和应变层即为二层复合结构的非本征吸杂层；继续步骤2)至9)的操作，在外延层上加工出CXD的表面结构，即可获得成品(XD。前述方案的原理是:通过工艺手段，在衬底层上叠加一二层复合结构的非本征吸杂层，从而得到一多层复合结构的外延娃片，并将这种外延娃片用于CCD的加工制作，在CCD的加工制作过程中，本专利技术的复合结构的非本征吸杂层可以比现有技术单一的应变区或损伤区具备更强的抗退火作用的能力，从而使吸杂作用的效果水平始终维持在相对较高的水平，最终保证外延层的清洁度在CCD加工过程中始终保持在较好的状态，降低成品CCD的暗电流，提闻器件品质。为了进一步减少CCD加工过程中的高温条件对非本征吸杂层的负面影响，本专利技术还作了如下改进:在步骤C完成之后，步骤2)开始之前，采用CVD方式在应变层表面淀积低温二氧化硅薄膜，低温二氧化硅薄膜形成背封层。背封层可让应变层与外部环境保持隔离，避免应变层被氧化，延缓非本征吸杂层吸杂能力的衰减速率。优选地，所述背面损伤层上的损伤中心的密度为2E14cm_3以上；所述应变层厚度为800nm以上；所述背封层厚度为800nm以上。本专利技术的有益技术效果是:通过工艺手段提高非本征吸杂层的吸杂能力，保证外延层的清洁度始终维持在较好的状态，降低成品CCD的暗电流，提高器件品质。【专利附图】【附图说明】图1、由本专利技术的工艺所获得的外延硅片的结构示意图。【具体实施方式】一种基于非本征吸杂技术的C⑶制作工艺，包括:1)提供硅衬底，2)形成栅介质，3)形成沟阻，4)形成沟道，5)形成转移栅，6)形成地，7)形成放大器源漏，8)连接通孔，9)形成金属引线；其改进在于 所述步骤I)提供硅衬底按如下工艺进行:A、采用CVD方式在衬底层2上表面淀积硅薄膜，淀积出的硅薄膜即形成外延层I ; B、采用机械损伤方式、激光损伤方式或离子注入损伤方式对衬底层2下表面进行处理，形成背面损伤层3; C、采用CVD(化学气相沉积)方式在背面损伤层3表面淀积多晶硅薄膜或氮化硅薄膜，多晶硅薄膜或氮化硅薄膜即形成应变层4 ； 由衬底层2经步骤A、B、C的处理后所形成的结构体，即为一多层复合结构的外延硅片，背面损伤层3和应变层4即为二层复合结构的非本征吸杂层；继续步骤2)至9)的操作，在外延层I上加工出CXD的表面结构，即可获得成品(XD。进一步地，在步骤C完成之后，步骤2)开始之前，采用CVD方式在应变层4表面淀积低温二氧化硅薄膜，低温二氧化硅薄膜形成背封层5。进一步地，所述背面损伤层3上的损伤中心的密度为2E14cm_3以上；所述应变层4厚度为800nm以上；所述背封层5厚度为800nm以上。为了便于本领域技术人员实施，本专利技术还公开了如下的优选实施方式: 所述提供硅衬底，按如下工艺进行: A、采用CVD(化学气相沉积)方式在衬底层2上表面淀积硅薄膜，淀积出的硅薄膜即形成外延层I，外延层厚度通常为8?20 ii m，外延层硼离子掺杂浓度通常为4E14?2E15cm_3 ； B、采用机械损伤方式、激光损伤方式或离子注入损伤方式对衬底层2下表面进行处理，形成背面损伤层3，损伤中心的密度为2E14cm_3以上； C、采用CVD方式在背面损伤层3表面淀积多晶硅薄膜或氮化硅薄膜，多晶硅薄膜或氮化硅薄膜即形成应变层4，应变层厚度为800nm以上； 本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：雷仁方，高建威，韩沛东，廖乃镘，李华高，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第四十四研究所，
类型：发明
国别省市：