提出了一种光扫描单元和电子照相图像形成设备。所述光扫描单元包括:光源,根据图像信号发射光束;入射光学系统,包括通量限制元件,限制光源发射的光束的通量;光学偏转器,沿主扫描方向对由光源发射的光束进行偏转;以及图像形成光学系统,包括扫描光学元件,在扫描目标表面上对由光学偏转器偏转的光束进行成像,所述光扫描单元通过将光束扫描到图像承载部件的扫描目标表面来形成静电潜像。所述图像形成光学系统的扫描光学元件沿副扫描方向相对于图像形成光学系统的中心光轴偏心地设置。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】提出了一种光扫描单元和电子照相图像形成设备。所述光扫描单元包括:光源,根据图像信号发射光束;入射光学系统,包括通量限制元件,限制光源发射的光束的通量;光学偏转器,沿主扫描方向对由光源发射的光束进行偏转;以及图像形成光学系统,包括扫描光学元件,在扫描目标表面上对由光学偏转器偏转的光束进行成像,所述光扫描单元通过将光束扫描到图像承载部件的扫描目标表面来形成静电潜像。所述图像形成光学系统的扫描光学元件沿副扫描方向相对于图像形成光学系统的中心光轴偏心地设置。【专利说明】光扫描单元和包括光扫描单元的图像形成设备相关申请的交叉引用本申请涉及并且要求2012年10月24日在韩国知识产权局递交的韩国专利申请N0.10-2012-0118678的权益,将其公开通过引用全部合并在此。
本专利技术的示范实施例涉及一种光扫描单元和包括光扫描单元的图像形成设备,更具体地,涉及一种光扫描单元和包括光扫描单元的图像形成设备,所述光扫描单元改善了在图像形成光学系统中的光束的多次反射的问题。
技术介绍
诸如激光打印机、数字复印机、多功能打印机(MFP)之类的电子照相图像形成设备具有以下配置,其中:通过使用光扫描单元将光扫描到光敏介质上来形成静电潜像,通过使用诸如调色剂之类的显影剂将所形成的静电潜像转换为显影的图像,并且将已显影的图像转移到印刷介质上。图像形成设备所采用的光扫描单元通过使用诸如多边形旋转镜和振动镜之类光学偏转器对光束进行扫描到主扫描方向,所述设备包括将光束入射到光学偏转器的入射光学系统以及在扫描目标表面上形成图像的图像形成光学系统,也就是说光敏介质使用在通过光学偏转器进行偏转的同时扫描的光束。然而,当入射光学系统沿副扫描方向的光轴与图像形成光学系统沿副扫描方向的光轴相同时,将图像形成光学系统的扫描光学元件(其特征为“fe特性”的元件)的入射表面和出射表面之间出现的多次反射的光束扫描到扫描目标表面的有效图像区域,导致了图像密度中退化的均匀性。通常在试图解决这些问题时,通过在表面上形成不反射涂层可以最大限度地抑制图像形成光学系统的扫描光学元件的入射表面和出射表面之间出现的反射,或者可以按照使得多次反射的光束避开正常扫描光束的有效图像区域的方式,将扫描光学元件的光轴与入射光学系统的光轴分离地设置为偏心。
技术实现思路
附加方面和/或优势将部分地在下面的描述中阐述,并且部分地根据所述描述将变得清楚明白,或者可以通过本专利技术的实践来学习。根据本专利技术的示范实施例,提供了一种光扫描单元和包括所述光扫描单元在内的电子照相图像形成设备,能够在光扫描单元的入射表面和出射表面上形成非反射涂层的同时利用低成本进行制造,能够防止在图像形成平面上束斑直径的增加以及有效图像区域中束斑直径之间的偏差,当将光扫描单元的光轴设置为与入射光学系统的光轴偏心时,由于形成正常图像形成光束的图像形成特性的劣化导致所述增加和偏差。根据本专利技术的不范实施例,提供了一种光扫描单兀,将光束扫描至扫描目标表面。光扫描单元包括:光源,根据图像信号发射光束;入射光学系统,包括通量限制元件,限制光源发射的光束的通量;光学偏转器,沿主扫描方向对由光源发射的光束进行偏转;以及图像形成光学系统,包括一个或多个扫描光学元件,在扫描目标表面上对由光学偏转器偏转的光束成像。图像形成光学系统的一个或多个扫描光学元件的至少一个扫描光学元件沿副扫描方向相对于图像形成光学系统的中心光轴偏心地设置,并且通量限制元件沿副扫描方向相对于入射光学系统的中心光轴偏心地设置,以便对由于在图像形成光学系统中偏心地设置的扫描光学元件导致出现的束斑直径的劣化进行补偿。通量限制元件的偏心方向可以与在图像形成光学系统中偏心地设置的扫描光学元件的偏心方向相反。在图像形成光学系统中偏心地设置的扫描光学元件可以在图像形成光学系统的所述一个或多个扫描光学元件中与扫描目标表面最靠近。通量限制元件沿副扫描方向的偏心量XS和在图像形成光学系统中偏心地设置的扫描光学元件的偏心量XL可以满足下式(I):-1-8 < < -0.2 关系式(I)通量限制元件可以按照以下方式偏心地设置,使得入射到光学偏转器的光束的入射角度Θ满足下式⑵:0.2〈| θ Ι〈1.6 关系式(2)入射光学系统可以包括:准直透镜,将由光源发射的光束准直为平行光或者会聚光;以及柱面透镜,将通过准直透镜的光束沿副扫描方向聚焦到光学偏转器的偏转表面上。通量限制元件可以设置在以下位置之一:光源和准直透镜之间的位置、准直透镜和柱面透镜之间的位置以及柱面透镜和光学偏转器之间的位置。图像形成光学系统可以包括:第一扫描光学元件,所述第一扫描光学元件与光学偏转器相邻,并且具有沿副扫描方向的O折射率;以及第二扫描光学元件,所述第二扫描光学元件将通过第一扫描光学元件的光束在扫描目标表面上成像,并且具有沿副扫描方向的折射率,所述折射率是图像形成光学系统中所需要的折射率。在图像形成光学系统中偏心地设置的扫描光学元件可以是第二扫描光学元件。所述一个或多个扫描光学兀件可以包括以恒定速度在扫描目标表面上对通过光学偏转器偏转的光束进行成像的特性。根据本专利技术的不范实施例,提供了 一种将光束扫描到扫描目标表面的光扫描单元。所述光扫描单元包括:光源,根据图像信号发射光束;准直透镜,将由光源发射的光束准直为平行光或者会聚光;柱面透镜,将通过准直透镜的光束沿副扫描方向聚焦到光学偏转器的偏转表面上;光学偏转器,沿主扫描方向对由光源发射的光束进行偏转;通量限制元件,设置在光源和准直透镜之间的位置、准直透镜和柱面透镜之间的位置以及柱面透镜和光学偏转器之间的位置之一中,并且限制光源发射的光束的通量;以及一个或多个扫描光学兀件,在扫描目标表面上对由光学偏转器偏转的光束进行成像。一个或多个扫描光学兀件中的最靠近扫描目标表面的扫描光学兀件可以沿副扫描方向相对于所述光扫描单兀的图像形成光学系统的中心光轴偏心地设置,并且通量限制元件可以沿与在图像形成光学系统中偏心地设置的扫描光学兀件的偏心方向相反的副扫描方向相对于入射光学系统的中心光轴偏心地设置。根据本专利技术的示范实施例,提供了一种电子照相图像形成设备。所述电子照相图像形成设备包括:图像承载部件;光扫描单元,包括:光源,根据图像信号发射光束;入射光学系统,包括通量限制元件,限制光源发射的光束的通量;光学偏转器,沿主扫描方向对由光源发射的光束进行偏转;以及图像形成光学系统,包括一个或多个扫描光学元件,在扫描目标表面上对由光学偏转器偏转的光束成像,所述光扫描单兀通过将光束扫描到图像承载部件的扫描目标表面来形成静电潜像;以及显影单元,通过向图像承载部件供应调色剂对在图像承载部件上形成的静电潜像进行显影。图像形成光学系统的一个或多个扫描光学元件的至少一个扫描光学兀件沿副扫描方向相对于图像形成光学系统的中心光轴偏心地设置,并且通量限制元件沿副扫描方向相对于入射光学系统的中心光轴偏心地设置,以便对由于在图像形成光学系统中偏心地设置的扫描光学元件导致出现的束斑直径的劣化进行补偿。【专利附图】【附图说明】通过参考附图详细描述本专利技术示范实施例,本专利技术一般概念的以上和其他特征和优点将变得更加清楚明白,其中:图1是说明了根据示范实施例沿光扫描单元的主扫描平面的光学本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员:金完琎,
申请(专利权)人:三星电子株式会社,
类型:发明
国别省市:
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