本发明专利技术涉及光通信技术领域,公开了一种光栅耦合器及光信号的耦合方法。其中,光栅耦合器包括:顶层硅层、底层硅层及二氧化硅层;二氧化硅层在底层硅层的上面;顶层硅层在二氧化硅层的上面;在垂直于光线的传播方向上,顶层硅层为至少2个直角三角形的排列结构;接收光纤对向直角三角形的排列结构。本发明专利技术通过对三角形光栅的应用,增大了本发明专利技术提供的光栅耦合器的工作带宽,从而增加了光栅耦合器的可适用性,有利于光传输的应用。另外,本发明专利技术还通过三维时域有限差分方法进行仿真计算,使得TE、TM光的耦合效率相同,并确定光栅结构参数,实现了偏振不敏感。本发明专利技术提供的光栅耦合器具有结构简单、工作带宽宽、偏振损耗低和耦合效率高的优点。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及光通信
,公开了。其中,光栅耦合器包括:顶层硅层、底层硅层及二氧化硅层;二氧化硅层在底层硅层的上面;顶层硅层在二氧化硅层的上面;在垂直于光线的传播方向上,顶层硅层为至少2个直角三角形的排列结构;接收光纤对向直角三角形的排列结构。本专利技术通过对三角形光栅的应用,增大了本专利技术提供的光栅耦合器的工作带宽,从而增加了光栅耦合器的可适用性,有利于光传输的应用。另外,本专利技术还通过三维时域有限差分方法进行仿真计算,使得TE、TM光的耦合效率相同,并确定光栅结构参数,实现了偏振不敏感。本专利技术提供的光栅耦合器具有结构简单、工作带宽宽、偏振损耗低和耦合效率高的优点。【专利说明】
本专利技术涉及光通信
,主要适用于光栅耦合器及光信号的耦合方法。
技术介绍
光传输具有带宽大、速率高的特点,因此将光子载体与电子载体相结合,是未来信息传输发展的必然趋势。而波导与光纤的高效耦合是实现光电子集成的关键。光栅耦合器结构简单,制作工艺成熟,便于集成,被广泛应用于集成光电子器件与系统中。但是,现有的光栅耦合器的工作带宽都比较小,这限制了输入光的工作波长,从而限制了光栅耦合器的适用范围,制约了光传输的应用。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供,它具有工作带宽大的特点,增加了光栅耦合器的适用范围,有利于光传输的应用。为解决上述技术问题,本专利技术提供了一种光栅耦合器,包括:顶层硅层、底层硅层及二氧化硅层;所述二氧化硅层在所述底层硅层的上面;所述顶层硅层在所述二氧化硅层的上面;在垂直于光线的传播方向上,所述顶层硅层为至少2个直角三角形的排列结构;接收光纤对向所述直角三角形的排列结构。进一步地,所述直角三角形的排列结构为若干直角三角形的周期性矩阵式排列结构。进一步地,所述周期性矩阵式排列结构中的直角三角形的大小和方向均相同。进一步地,所述直角三角形在沿着光线的传播方向上的长度与所述周期性矩阵式排列结构在沿着光线的传播方向上的周期长度的比值为0.4-1 ;所述直角三角形在垂直于光线的传播方向上的长度与所述周期性矩阵式排列结构在垂直于光线的传播方向上的周期长度的比值为0.4-1。进一步地,所述周期性矩阵式排列结构在沿着光线的传播方向上的行数为所述接收光纤的直径与所述周期性矩阵式排列结构在沿着光线的传播方向上的周期长度的比值;所述周期性矩阵式排列结构在垂直于光线的传播方向上的列数为所述接收光纤的直径与所述周期性矩阵式排列结构在垂直于光线的传播方向上的周期长度的比值。进一步地,还包括:二氧化硅覆盖层或BCB胶覆盖层;所述二氧化硅覆盖层或BCB胶覆盖层在所述顶层硅层和所述接收光纤之间。本专利技术还提供了一种光信号的稱合方法,包括:将光信号从所述顶层硅层、所述底层硅层、所述二氧化硅层的侧面入射到上述的光栅耦合器中,且从所述排列结构的直角三角形的直角边入射;通过3D-FDTD方法进行仿真,确定当TE光和TM光的耦合效率相等时的光栅结构参数,通过所述接收光纤接收耦合光。进一步地,所述接收光纤与所述光栅耦合器的直角三角形的排列结构的夹角在O。-25。之间。本专利技术的有益效果在于:本专利技术提供的光栅耦合器及光信号的耦合方法,通过对三角形光栅的应用,增大了光栅耦合器的工作带宽,从而增加了耦合器的可适用性,有利于光传输的应用。另外,本专利技术还通过三维时域有限差分方法(3D-FDTD)进行仿真计算,使得TE、TM光的耦合效率相同,并确定光栅结构参数,实现了偏振不敏感。本专利技术提供的光栅耦合器具有结构简单、工作带宽宽、偏振损耗低和耦合效率高的优点。本专利技术提供的光栅耦合器与标准CMOS工艺兼容,在集成光电子学、光通信与光互连领域有较广阔的应用前景。【专利附图】【附图说明】图1为本专利技术实施例提供的光栅耦合器的结构示意图;图2为本专利技术实施例提供的光栅耦合器的俯视图;图3为本专利技术实施例提供的光栅耦合器在Lx为0.8微米,Dx为0.8微米,Ly为0.3微米,Dy为0.3微米,刻蚀深度为0.21微米,光纤倾斜角度Θ为10。,无覆盖层时,本实施例的光栅耦合器的TE模和TM模的耦合效率在1400-1850nm波长范围内,随入射波长的变化曲线图;图4为本专利技术实施例提供的光栅耦合器在Lx为0.8微米,Dx为0.8微米,Ly为0.3微米,Dy为0.3微米,刻蚀深度为0.21微米,光纤倾斜角度Θ为10°,无覆盖层时,本实施例的光栅耦合器的偏振相关损耗(PDL)在1400-1850nm波长范围内,随入射波长的变化曲线图。【具体实施方式】为进一步阐述本专利技术为达成预定专利技术目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例,对依据本专利技术提出的光栅耦合器及光信号的耦合方法的【具体实施方式】及工作原理进行详细说明。参见图1和图2,本专利技术实施例提供的光栅耦合器,包括:顶层硅层、底层硅层及二氧化硅层;二氧化硅层在底层硅层的上面;顶层硅层在二氧化硅层的上面;在垂直于光线的传播方向上,顶层硅层为至少2个直角三角形的排列结构;接收光纤对向直角三角形的排列结构,且接收光纤的倾斜角度Θ在0° -25。之间。其中,直角三角形的排列结构为若干直角三角形的周期性矩阵式排列结构,且周期性矩阵式排列结构中的直角三角形的大小和方向均相同。直角三角形在沿着光线的传播方向上的长度(Dx)与周期性矩阵式排列结构在沿着光线的传播方向上的周期长度(Lx)的比值为0.4-1 ;直角三角形在垂直于光线的传播方向上的长度(Dy)与周期性矩阵式排列结构在垂直于光线的传播方向上的周期长度(Ly)的比值为0.4-1。周期性矩阵式排列结构在沿着光线的传播方向上的行数为接收光纤的直径与周期性矩阵式排列结构在沿着光线的传播方向上的周期长度(Lx)的比值;周期性矩阵式排列结构在垂直于光线的传播方向上的列数为接收光纤的直径与周期性矩阵式排列结构在垂直于光线的传播方向上的周期长度(Ly)的比值。为了进一步对本专利技术实施例的优点进行阐述,这里还需要对光栅耦合器的耦合效率进行说明,具体为:光栅耦合器的耦合效率(即光纤所接收到的光能量与总输入光能量的比值)可使用公式CE = Dir.η airtibOT表示。式中,Dir表示方向性系数(即被光栅衍射进入空气的光能量与总输入光能量的比值),在光栅结构确定了之后,方向性系数就被确定;Hairfito表示光从空气耦合进光纤的效率(即光纤接收到的光能量与被光栅衍射进入空气的光能量的比值),它由光的衍射角和光纤的倾斜角度共同决定。为了提高光栅耦合器的方向性系数,从而提高被光栅衍射进入空气的光能量,进而提高光的耦合效率,本专利技术实施例提供的光栅耦合器,还包括:二氧化硅覆盖层或BCB胶覆盖层;二氧化硅覆盖层或BCB胶覆盖层在顶层硅层和接收光纤之间。这里需要说明的是,可以根据实际需求选择添加二氧化硅覆盖层或BCB胶覆盖层,或不添加任何覆盖层。本专利技术实施例还提供了一种光信号的稱合方法,包括:步骤SllO:将光信号从顶层硅层、底层硅层、二氧化硅层的侧面入射到上述的光栅耦合器中,且从排列结构的直角三角形的直角边入射;步骤S120:选定刻蚀深度和接收光纤的倾斜角度Θ,通过3D-FDTD方法进行仿真,确定当TE光和TM光的耦合效率相等时的光栅结构参数,通过接收光纤接收耦合光。其中,光栅结构参数包括:本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:张敏明,周飞亚,刘德明,
申请(专利权)人:华中科技大学,
类型:发明
国别省市:
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