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株式会社纳蒂亚斯专利技术
株式会社纳蒂亚斯共有3项专利
立体控制寡核苷酸合成用光学活性片段及其制造方法、以及使用其的立体控制寡核苷酸的合成方法技术
本发明提供以下述式(I)表示的立体控制寡核苷酸合成用光学活性片段及其制造方法、以及使用其的立体控制寡核苷酸的合成方法。式中,B为保护/未保护核苷碱基,R1为取代/未取代脂肪族基团,R2、R3为DMTr基或
寡核苷酸合成中使用的多氟嵌段聚体以及使用其的寡核苷酸合成方法技术
本发明提供一种使用容易获得的氟标记能够减小提纯负荷的多氟嵌段聚体以及使用其的寡核苷酸合成方法。合成由下述式子表示的多氟嵌段聚体,B为天然型或修饰核碱基;R1是在酸性或中性条件下能够脱保护的保护基;R3是磷酸保护基;Pro是无保护、保护或F
寡核苷酸合成用片段及其制造方法、以及使用其的寡核苷酸的合成方法技术
本发明提供以下述式(I)表示的寡核苷酸合成用片段、其制造方法、使用其的寡核苷酸合成方法。式中,B为保护/未保护核苷碱基,R1为保护基,R2、R3、R4为OCH2CH2CN、OCH2CH=CH2等,R5为取代/未取代的脂肪族基团/芳香族基...
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