本技术公开一种立式气浮导轨，包括底座，所述底座上设置有导轨以及滑台，所述滑台相对所述导轨沿直线滑动设置，所述底座或所述导轨上设置有用于驱动所述滑台相对所述导轨沿直线移动的直线驱动元件，所述底座的左右两侧分别设置有平衡气缸，所述平衡气缸的...

本技术公开一种交叉滚柱移台结构，包括台座，所述台座上设置有相对所述台座前后移动的移台，所述台座的左右两侧分别设置有交叉滚柱导轨，所述交叉滚柱导轨包括第一导轨、第二导轨以及保持架，所述第一导轨和第二导轨左右间隔设置，所述第一导轨与第二导轨...

本发明公开了一种超精密光学测量方法，包括机架、设置于机架上的激光系统、测头系统以及测量平台系统，所述测头系统包括测头、带动测头上下移动的Z向移动机构，所述测量平台系统包括测量座、带动测量座沿X方向和Y方向移动的XY移动机构，所述激光系统...

本发明公开了一种超精密光学测量机床，包括机架、设置于机架上的激光系统、测量座驱动机构，还包括测头以及测量座，所述测头包括外筒及位于外筒中的内筒，所述内筒中设有浮动杆，所述浮动杆上设有探针，所述外筒及内筒上设有气浮结构，所述浮动杆通过气浮...

本发明公开了一种超精密光学测量机床测头结构，其特征在于：包括外筒及位于外筒中的内筒，所述内筒中设有浮动杆，所述浮动杆上设有探针，所述外筒及内筒上设有气浮结构，所述浮动杆通过气浮结构能够于内筒的内孔中浮动，所述浮动杆上安装有反射镜，且所述...

本发明提供了一种具有对中功能的数控磨削加工机床，包括有机柜以及电控柜，在机柜内设有磨削加工仓，在磨削加工仓内设有工件台、磨削机构以及多轴驱使系统，所述工件台用于限位加工工件，所述磨削机构用于对加工工件进行磨削加工，其包括有磨削头；在所述...

本发明公开了一种用于非球面轮廓测量的轮廓仪，包括大理石台架

本实用新型公开了一种具有除尘功能的抛光机床，包括抛光机主体；抛光机外壳；除尘机构，除尘机构位于抛光机主体上方；除污机构，除污机构位于抛光外壳上方，除污机构可祛除降尘时产生的污雾，此具有除尘功能的抛光机床，在使用时，开启抛光机床，可对产品...

本实用新型涉及抛光技术领域，具体公开了一种可实现全方位调整的机械装备加工的抛光机床，包括抛光机本体，抛光机本体内表面设有转盘，固定组件，固定组件位于转盘外表面对非球面玻璃进行固定；调整组件，调整组件位于抛光机本体内表面，调整合适的位置对...

本发明实施例公开了一种基于镜片抛光的定位方法及装置，包括接收镜片抛光信号，响应于其中一条镜片抛光指令，获取镜片抛光指令中的抛光信息，获取当前抛光工位的工作状态，从当前空闲的抛光工位中按照预设选位规则选取目标抛光工位；控制夹具电机驱动夹具...

本实用新型涉及机床加工技术领域，具体公开了具有防护结构的抛光机床，包括主体架，主体架设为长方体结构，主体架的内部设有工作舱，工作组件，工作组件设在主体架的内壁，防护组件，防护组件设在主体架的侧边，防护组件与主体架接触部位焊接，本实用新型...

本实用新型涉及抛光机床技术领域，具体公开了一种带有除尘效果的五轴数控抛光机床，包括：抛光机床主体；防护机构，防护机构设置在抛光机床主体上，防护机构用于阻挡残渣的飞溅；除尘机构，除尘机构设置在防护机构上。本实用新型在抛光机床主体对零件进行...

本发明实施例公开了镜片抛光检测方法及装置，实施例首先获取镜片参数和抛光参数，针对镜片参数对工位上的镜片进行检测是否一致，避免抛光错镜片；之后对当前目标工位对应的抛光设备的抛光参数进行匹配和校正，避免抛光参数出错，造成抛光误差；之后通过采...

本发明实施例公开了一种基于镜片抛光的定位方法及装置，包括接收镜片抛光信号，响应于其中一条镜片抛光指令，获取镜片抛光指令中的抛光信息，获取当前抛光工位的工作状态，从当前空闲的抛光工位中按照预设选位规则选取目标抛光工位；控制夹具电机驱动夹具...