本实用新型公开了一种硅片对中定位装置，该硅片对中定位装置包括设备机架

本实用新型公开了一种硅片倒角机运动平台，该硅片倒角机运动平台包括设备机架和驱动系统；驱动系统至少部分设置在设备机架上，用于控制硅片的移动；驱动系统包括用于设置硅片并控制硅片转动的旋转装置和运动装置，旋转装置至少部分设置在运动装置上，运动...

本实用新型公开了一种硅片倒角机测量台，该硅片倒角机测量台包括设备机架、测量平台和检测组件，测量平台至少部分设置在设备机架上，用于承载硅片；检测组件至少部分设置在设备机架上。检测组件包括厚度测量装置、外周测量装置、外周轮廓检测装置和凹槽检...

本发明涉及一种抛光液供给系统及晶圆抛光机，该抛光液供给系统应用于晶圆抛光机，该抛光液供给系统包括：中心轴，开设有进液流道；及第一转动件，转动连接于中心轴，开设有出液流道，出液流道用于连通供液通道；进液流道连通出液流道。因为进液流道、出液...

本申请涉及一种抛光机工艺参数调节方法、装置、计算机设备和存储介质。所述方法包括：控制所述抛光机进行抛光，并获取所述抛光机内多个区域采集的温度数据和所述抛光机的工艺参数；将所述温度数据、所述工艺参数和待抛光物件的平整度参数输入至预先训练的...

本发明涉及一种晶片清洁装置及晶片清洁方法，该晶片清洁装置包括：夹持单元，包括固定盘和多个活动设于固定盘的夹爪，多个夹爪沿着固定盘的周向分布；甩干单元，用于带动固定盘运动；检测单元，设有多个且与夹爪一一对应设置，用于检测夹爪对晶片的夹持状...

本申请涉及抛光设备技术领域，尤其是涉及一种抛光液回收装置，包括：座体，座体具有一承载腔，承载腔包括相互独立的第一区和第二区，第一区中开设有第一排液口，第二区中开设有第二排液口；第一排液口和/或第二排液口上设置有滤网；回收管，回收管具有第...

本申请涉及抛光技术领域，尤其是涉及一种抛光液滴液装置，用于对抛光盘进行补充抛光液，包括：滴液机构，所述滴液机构具有多组，每组所述滴液机构均具有滴液部，每个所述滴液部位于所述抛光盘的上方，多个所述滴液部关于所述抛光盘的圆心呈中心对称分布，...

本申请涉及一种抛光压力调节方法、装置、计算机设备和存储介质。所述方法包括：获取所述加压板、陶瓷盘和定盘的形态参数，所述形态参数包括所述加压板、陶瓷盘和定盘的上表面和/或下表面的凹凸参数；将所述加压板、陶瓷盘和定盘的形态参数输入至预先训练...

本发明涉及一种晶圆测量系统及晶圆测量方法，晶圆测量系统包括视觉装置、移载装置及测量装置，视觉装置包括摄像机，摄像机拍摄的图像信息能够用于确定陶瓷盘的圆心；移载装置包括移动组件及旋转组件，移动组件用于带动旋转组件移动至第一预设位置，在第一...