源能智创江苏半导体有限公司专利技术

源能智创江苏半导体有限公司共有36项专利

  • 本发明涉及一种曝光镜头装置的调试方法、曝光镜头装置及直写曝光设备,所述曝光镜头装置包括照明组件、与照明组件分体设置且位于照明组件的出光侧的镜头、驱动镜头运动的运动模组,本发明的曝光镜头装置的调试方法调试过程简单,调试效率较高,有效缩短调...
  • 一种背光吸盘及曝光设备,所述曝光设备包括背光吸盘,所述背光吸盘包括吸盘主体,所述背光吸盘还包括背光源和吸盘垫,所述背光源容置于吸盘主体,所述吸盘垫覆盖所述吸盘主体,所述吸盘主体包括真空槽,所述真空槽划分为气体流通区和背光源容置区,所述背...
  • 一种曝光图形网格精度的补偿方法,首先获得曝光标定板,所述曝光标定板包括呈行列排列的基础点;然后选取曝光标定板的基础点作为对位点,对曝光标定板进行对位曝光,获得检测点,所述检测点和基础点一一对应为一组测试点;获取测试点的图像,根据测试点的...
  • 本发明提供了一种光学机构的标定方法,所述光学机构包括多个规则排列的光学镜头,所述光学镜头投影标定图像至标定尺,将标定尺移动至对位机构的视场区域,通过所述对位机构的移动机构移动所述对位相机,依次获取所述标定图像的位置信息,根据所述标定图像...
  • 一种对批量基底进行双面曝光的方法及系统,在第一工位对基底的正面曝光,并在基底的背面获取模板图像,在第二工位对基底的背面进行曝光,并通过模板图像对基底进行对位,按照在第一工位获取的模板图像的顺序进行索引号存储,得到调取序列,在第二工位按照...
  • 一种曝光设备,包括上料装置、下料装置、并排设置的第一曝光装置和第二曝光装置,所述第一曝光装置和所述第二曝光装置结构相同,均具有平台机构、对位机构和曝光机构,所述上料装置包括上料移栽装置,所述下料装置包括下料移栽装置,所述上料移栽装置将工...
  • 一种超大尺寸吸附平台,包括吸盘主体、吸盘垫板、调节支撑机构和真空转接机构,所述吸盘主体内部为真空腔,所述真空转接机构与所述真空腔连通,所述吸盘垫板固定于所述吸盘主体下方,位于中心区域,所述调节支撑机构包括多个调节支撑件分散安装于所述吸盘...
  • 本实用新型提出一种直写式曝光机的图形数据传输装置,包括主机、与主机相连的分图服务器、与分图服务器相连的数据中继设备、与数据中继设备相连的多个数据接收处理板以及与数据接收处理板一一对应连接的多个空间光调制器,分图服务器将图形数据传输至数据...
  • 一种双面光刻的光刻系统及方法,所述光刻系统包括第一载台、第二载台、光刻机构和控制器,基底正面向上放置于所述第一载台,基底背面向上放置于所述第二载台,光刻机构对基底进行光刻操作,所述控制器控制所述第一载台、所述第二载台和所述光刻机构,所述...
  • 一种双面光刻的光刻系统,所述光刻系统包括第一载台、第二载台、光刻机构和控制器,基底正面向上放置于所述第一载台,基底背面向上放置于所述第二载台,光刻机构对基底进行光刻操作,所述控制器控制所述第一载台、所述第二载台和所述光刻机构,所述第一载...
  • 一种防焊油墨的曝光方法,曝光镜头的空间光调制元件的投影图形区域经成像镜头在基板上形成成像区域,曝光镜头和所述基板在扫描方向上相对运动,所述成像区域在扫描方向上形成条带,在垂直于扫描方向上相邻的所述成像区域交叠或者具有间隔。有效解决拼接痕...
  • 一种标定机构及其控制系统,所述标定机构包括标定板和标定板固定座,所述标定机构还包括遮光机构,所述遮光机构包括驱动机构和遮光板,所述驱动机构连接所述遮光板,所述驱动机构安装于所述标定板固定座,所述驱动机构带动所述遮光板覆盖所述标定板或者露...
  • 本发明提供了一种镜头倍率的测量方法,确定镜头的初始倍率;以初始倍率为基准获取多个相近测试倍率;以初始倍率和测试倍率分别曝光图形至感光基材;寻找拼接效果良好的曝光图形,所对应的倍率即为镜头的测量倍率,提高镜头倍率的测量精度。头倍率的测量精...
  • 本发明提供了一种采用镜头组的加工方法,根据镜头组中每个镜头的倍率,获得最小的镜头倍率;以最小的镜头倍率获得投影条带的宽度;根据所述投影条带的宽度获得每个条带的投影图形;根据每个条带投影图形和对应的镜头倍率配置空间光调制元件的每个像素。有...
  • 一种激光加热装置,包括光源组件、扩束装置、扇形光形成装置,所述光源组件发出光束,经所述扩束镜头和所述扇形光形成装置形成条形光斑,覆盖曝光镜头的投影区域。精准的对投影区域进行加热。区域进行加热。区域进行加热。
  • 本实用新型提出一种直写式光刻机的压板装置,包括安装于吸盘台面上的第一压板组件、第二压板组件、平移驱动组件,第一压板组件固定安装于吸盘台面,第二压板组件安装于平移驱动组件,平移驱动组件安装于吸盘台面,第二压板组件可通过平移驱动组件从初始位...
  • 本实用新型公开一种直写式光刻机的对准装置,包括第一图像获取模块、第二图像获取模块、多个标记模块,第一图像获取模块位于直写式光刻机的吸盘台面下方,第二图像获取模块位于吸盘台面上方,吸盘台面的边缘等距或不等距的开设有多个安装槽,多个标记模块...
  • 本实用新型提出一种直写式光刻机的光学系统,包括多个相同的光学子系统,每个光学子系统包括:照明模块,配置为产生光刻所需的照明光束;空间光调制模块,配置为对照明光束进行调制以形成图形光;第一双远心成像模块,配置为对所述空间光调制模块产生的图...
  • 一种调焦装置,包括第一棱镜、第二棱镜、第一棱镜支撑座和第二棱镜支撑座,所述第一棱镜安装于所述第一棱镜支撑座,所述第二棱镜安装于所述第二棱镜支撑座,所述第一棱镜和第二棱镜为楔形棱镜,所述第一棱镜座和/或所述第二棱镜座包括支撑台、驱动机构、...
  • 本实用新型公开了一种真空吸附系统,其包括吸盘,其还包括总进气气路、正压气路、负压气路和进出气气路,所述进出气气路连接所述吸盘,所述正压气路、负压气路分别与所述进出气气路连通,所述正压气路包括储气罐,所述总进气气路为储气罐充气,并通过气控...