本文推荐了一种磁控管溅射源，它包括至少两个相互电气绝缘的长形靶子（３ａ，３ｂ，３ｃ），在排列时这些靶子的长边相互挨着。它们的侧面间距比靶子（３ａ，３ｂ，３ｃ）的宽度要小得多。每个靶子都具有自己的电气接线（５ａ，５ｂ，５ｃ），特别是在靶子...

在一种在基片（３６－３８）上涂覆薄层的真空处理设备中，配备了一根与开口平面平行地延伸的且支承在真空室（２）的真空室盖板和／或真空室底板（１２）中的轴（１４），其中此设备具有许多位置固定的、由环形或框架真空室（２）侧壁（３）夹持在且装有处...

本方法的特征在于，工件上能涂覆符合外延质量的涂层，而且淀积速度明显增加。为此目的，本发明采用ＤＣ等离子体放电的ＰＥＣＶＤ方法代替ＵＨＶ－ＣＶＤ或ＥＣＲ－ＣＶＤ方法。

本发明涉及一种溅射源，它带有至少两个相互电气绝缘的、固定的长形靶子装置，所述靶子装置相互并排地放置并以相应的间隔隔开，每个所述靶子装置都具有相应的电接线，使得每个所述靶子装置都可以在电气上独立于其它靶子装置进行工作，并且其中每个靶子装置...