本实用新型提供一种可调整磁场分布的沉积腔体，包括一反应腔体、一承载盘、一靶材、一磁力装置及至少一遮蔽单元。承载盘及靶材位于反应腔体的容置空间内，其中承载盘用以承载至少一基板，且靶材的一表面面对承载盘及基板。磁力装置位于靶材的另一表面，并...

本实用新型提供一种可减少微尘污染的基板处理腔室，主要包括一反应腔体、一承载盘、一收纳腔体及一遮挡机构，其中反应腔体连接收纳腔体，而承载盘位于反应腔体内。遮挡机构包括至少一导引单元、至少一连接座、一遮挡板、至少一驱动臂、至少一衬套及一偏压...

本发明为一种对准机构，主要包括一载台、复数个承载针脚、一第一对位针脚及复数个第二对位针脚。承载针脚设置在载台的周围，用以承载一第一基板，并可带动第一基板相对于载台升降。第一及第二对位针脚设置在载台的周围，可相对于载台升降，并远离或靠近载...

本发明为一种基板承载固定机构，主要包括一挡件、一盖环及一承载盘，其中挡件用以承载盖环。挡件的环形底部连接侧壁及环形凸部，并于环形凸部的径向内侧形成一开口。承载盘用以承载一基板，其中承载盘位于盖环的下方，并可进入挡件的开口内。盖环包括一主...

本发明提供一种可提高沉积均匀度的薄膜沉积机台，主要包括一腔体、一载台、一环形构件、一挡件及一盖环。载台及挡件位于腔体的容置空间内，其中环形构件连接载台。盖环设置在挡件的一环形凸缘，并包括至少一凸起部，其中凸起部位于盖环的内侧，并朝腔体的...

本发明提供一种物理气相沉积机台的暖机方法，主要将一遮蔽单元放置在物理气相沉积机台的一承载盘及一靶材之间，并提供一制程气体至物理气相沉积机台的反应腔体内。供电电源对靶材提供电压，使得制程气体形成电浆，电浆会受到靶材上的电压吸引并撞击靶材。...

本发明提供一种具有下吹管线的原子层沉积设备，主要包括一真空腔体、一轴封装置及一驱动单元，其中驱动单元经由轴封装置连接真空腔体，并带动真空腔体转动。真空腔体包括一反应空间及一下吹管线，其中反应空间用以容置复数颗粉末，而下吹管线则连接反应空...

本发明提供一种键合机的对准机构，尤指一种晶圆键合机的对准机构，主要包括一载台、三个第一对准单元及三个第二对准单元。载台的承载面具有一放置区用以放置一第一基板，其中第一对准单元及第二对准单元环绕设置在承载面的放置区周围。第一对准单元包括一...

本发明提供一种具快拆功能的粉末原子层沉积设备，主要包括一真空腔体、一轴封装置及一驱动单元，其中驱动单元连接轴封装置。真空腔体连接轴封装置，并于真空腔体与轴封装置之间形成一密闭空间。至少一抽气管线位于轴封装置内，流体连接密闭空间，其中抽气...

本发明提供一种具有双层式遮蔽构件的薄膜沉积机台，主要包括一反应腔体、一承载盘及一双层式遮蔽构件，其中部分的双层式遮蔽构件及承载盘位于反应腔体内。双层式遮蔽构件包括一第一遮蔽板、一第一保护板、一第二遮蔽板、一第二保护板及一驱动装置，其中驱...

本发明提供一种具有开合式遮蔽构件的薄膜沉积机台，主要包括一反应腔体、一承载盘及一开合式遮蔽构件，其中部分开合式遮蔽构件及承载盘位于反应腔体内。开合式遮蔽构件包括一第一遮蔽板、一第二遮蔽板及一驱动装置，其中驱动装置连接第一遮蔽板及第二遮蔽...

本发明提供一种具有对开式遮蔽构件的薄膜沉积设备，包括一腔室主体、一承载盘及一对开式遮蔽构件，其中承载盘及部分的对开式遮蔽构件位于腔室主体内。腔室主体包括一反应腔体及两个感测区，其中两个感测区连接反应腔体，且感测区的厚度小于反应腔体。对开...

本发明提供一种具有遮蔽机构的薄膜沉积腔体，主要包括一反应腔体、一承载盘及一遮蔽机构，其中部分的遮蔽机构及承载盘位于反应腔体内。遮蔽机构包括一第一承载臂、一第二承载臂、一第一遮蔽板、一第二遮蔽板及一驱动装置，其中驱动装置连接第一及第二承载...

本发明提供一种具有开合式遮蔽构件的薄膜沉积机台，主要包括一反应腔体、一承载盘及一开合式遮蔽构件，其中部分的开合式遮蔽构件及承载盘位于反应腔体内。开合式遮蔽构件包括一第一遮蔽板、一第二遮蔽板、一第一驱动装置及一第二驱动装置，其中第一及第二...

本发明提供一种具有遮蔽装置的薄膜沉积设备，主要包括一反应腔体、一承载盘及一遮蔽装置，其中部分遮蔽装置及承载盘位于反应腔体内。遮蔽装置包括两个遮蔽板及一驱动装置，其中驱动装置连接并驱动两个遮蔽板朝相反方向摆动。两个遮蔽板分别包括一彼此面对...

本发明为一种具有钝化层的量子点粒子及其制作方法，主要包括至少一量子点粒子、至少一第一钝化层及至少一第二钝化层，其中第一钝化层设置在量子点粒子的表面，而第二钝化层则设置在第一钝化层的表面。形成第一钝化层的前驱物不包括水，可避免粉末在沉积过...

本发明提供一种基板分离装置，包括一基座及一吸附移动模块。吸附移动模块包括一吸附组件、一升降机构、一本体及复数个弹性抵件。吸附组件吸附一第二基板，升降机构连接吸附组件，并带动吸附组件及其吸附的第二基板相对于基座升降，本体连接基座及升降机构...

本发明提供一种可产生均匀磁场的薄膜沉积设备，包括一反应腔体、一承载盘、一靶材、一磁力装置及至少一遮蔽单元。承载盘及靶材位于反应腔体的容置空间内，其中承载盘用以承载至少一基板，且靶材的一表面面对承载盘及基板。磁力装置位于靶材的另一表面，并...

本发明提供一种可调整磁场分布的沉积设备，包括一反应腔体、一承载盘、一靶材、一磁力装置及至少一遮蔽单元。承载盘及靶材位于反应腔体的容置空间内，其中承载盘用以承载至少一基板，且靶材的一表面面对承载盘及基板。磁力装置位于靶材的另一表面，并经由...

本发明提供一种可调整磁场分布的薄膜沉积设备，包括一反应腔体、一承载盘、一靶材、一磁力装置、一固定单元及至少一遮蔽单元。承载盘及靶材位于反应腔体的容置空间内，其中承载盘用以承载至少一基板，且靶材的一表面面对承载盘及基板。磁力装置位于靶材的...