武汉吉事达激光技术有限公司专利技术

武汉吉事达激光技术有限公司共有8项专利

  • 本实用新型提供一种整体式多振镜头,包括多个二维振镜头和F-θ透镜,多个二维振镜头成排排列,每个二维振镜头由两个摆动电机和安装架组成,两个轴线成一定角度的摆动电机,每个摆动电机轴上安装有反射镜,F-θ透镜在安装架下方,安装架上还开有入光孔...
  • 本实用新型提供一种卷料自动送料激光刻蚀机,包括机架、控制系统、计算机系统、激光发生器、吸附平台、二维振镜头、F-θ透镜组和卷料输送机构,控制系统、计算机系统和吸附平台都安装在机架上,激光发生器的激光头、二维振镜头和F-θ透镜组安装在吸附...
  • 本实用新型提供一种多振镜头激光刻蚀机,包括机架、控制系统、计算机系统、激光发生器、吸附平台、二维振镜头、两个交叉的直线运动平台和F-θ透镜组,控制系统、计算机系统和激光发生器都安装在机架上,激光发生器的激光头、二维振镜头和F-θ透镜组安...
  • 本发明提供一种卷料自动送料激光刻蚀机,包括机架、控制系统、计算机系统、激光发生器、吸附平台、二维振镜头、F-θ透镜组和卷料输送机构,控制系统、计算机系统和吸附平台都安装在机架上,激光发生器的激光头、二维振镜头和F-θ透镜组安装在吸附平台...
  • ITO银浆激光刻蚀方法
    本发明提供一种ITO银浆激光刻蚀方法,其特征在于:①、将ITO银浆工件正面朝上放置在激光刻蚀机的工作平台上并定位;②、调整激光刻蚀机的工作平台或激光刻蚀机激光头高度,使激光刻蚀机的激光焦点落在ITO银浆工件正面平面上;③、将要刻蚀的IT...
  • 本发明是提供一种双面透明导电膜图形激光制作工艺,其特征在于:①预设双面透明导电膜的上层导电膜激光蚀刻图形和下层导电膜激光蚀刻图形;②将要蚀刻的双面透明导电膜放置在激光蚀刻设备的工作平台上;③调整激光聚焦镜与双面透明导电膜之间距离,使激光...
  • 本实用新型提供一种双工位触摸屏ITO薄膜激光刻蚀机,包括机架、控制系统、计算机系统、激光发生器、吸附平台、二维振镜头、一维运动平台和F-θ透镜组,控制系统、计算机系统、吸附平台和激光发生器都安装在机架上,激光发生器、二维振镜头和F-θ透...
  • 本实用新型提供一种触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备,包括机架、控制系统、显示系统、激光发生器、升降机构和吸附平台,控制系统、显示系统、升降机构和吸附平台都安装在机架上,激光发生器安装在升降机构上,其特征在于:还包括二维振镜头和F-θ透镜组,...
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