武东星专利技术

武东星共有3项专利

  • 一种低表面缺陷密度的外延基板及其制造方法,该制造方法先自一层晶格不匹配的基材侧向外延,形成一层具有多个缺陷处且表面缺陷降低的第一外延层,再自该第一外延层的平面进行缺陷选择性蚀刻,将所述缺陷处蚀刻出多个第一凹洞,使该第一外延层具有一界定所...
  • 本发明公开了一种高光取出率的固态发光元件,包括:一图案化蓝宝石单晶基材、一叠置于该图案化蓝宝石单晶基材并为六方晶系的缓冲层,及一叠置于该缓冲层的固态发光件。该图案化蓝宝石单晶基材具有多数个凹槽定义面以定义出多数个凹槽。每一凹槽定义面具有...
  • 本实用新型是有关于一种可制作大面积氧化层的设备,其中更可适用于沉积组成均匀的光波导设备,包含有一燃烧器沉积装置与一限压抽气装置,其中燃烧器沉积装置于可加热基材的加热器上设有基材旋转机构,且加热器上方另设有一可使燃烧器上设有基材旋转机构,...
1