本发明公开了一种新型的机械助力转向方法及装置，针对前置前驱布置形式的汽车，从差速器外壳到转向齿条上设计了一系列零部件，包括减速机构、万向传动机构、行星齿轮机构、转向离合器、转向制动器、带传动机构和磁粉离合器。发动机的动力经减速机构的减速...

一种减少熔覆层裂纹的脉冲电场‑行波磁场复合方法，该方法所用装置包括：激光熔覆数控装置、行波磁场装置和正负脉冲电场装置。在熔覆过程中对熔池施加行波磁场，使熔池中非磁性粒子及带电荷少的粒子在外加电流作用下，其带电荷量增多。这些液态金属粒子在...

一种改善熔覆层缺陷的类缝焊‑行波磁场复合方法，采用的装置主要包括：激光熔覆数控装置、行波磁场装置和类缝焊装置。首先在熔覆前开启类缝焊装置，直至熔覆完成后持续供电一段时间，其次熔覆过程中对熔池施加行波磁场，使熔池中非磁性粒子及带电荷量少的...

一种提高熔覆层质量的直流电场‑行波磁场复合方法，该方法采用的装置主要包括：激光熔覆数控装置、行波磁场装置和直流电场装置。本复合装置首先在熔覆前开启直流电源装置，直至熔覆完成关闭该装置，其次熔覆过程中对熔池施加行波磁场，使熔池中非磁性粒子...

多级磁场电弧离子镀的内衬正偏压多孔型挡板装置，属于材料表面处理技术领域，本实用新型为解决多级磁场过滤装置中大颗粒对薄膜的污染和等离子体传输过程中的损失问题。本实用新型的装置包括：偏压电源、弧电源、电弧离子镀靶源、多级磁场装置、多级磁场电...

一种组合磁场和内衬锥形管与阶梯管复合的真空镀膜方法，属于材料表面处理技术领域，本发明为解决电弧离子镀中大颗粒对薄膜的污染和靶材使用限制、磁过滤电弧等离子体的损失及高功率脉冲磁控溅射放电不稳定等问题。本发明的装置包括：电弧离子镀靶源、多级...

活动磁场的电弧离子镀与孪生靶高功率脉冲磁控溅射方法，属于材料表面处理技术领域，本发明为解决电弧离子镀中大颗粒对薄膜的污染和靶材使用限制、磁过滤装置传输过程中电弧等离子体的损失及高功率脉冲磁控溅射放电不稳定等问题。本发明的装置包括：偏压电...

一种组合磁场和内衬锥形管与阶梯管复合的真空沉积方法，属于材料表面处理技术领域，本发明为解决电弧离子镀中大颗粒对薄膜的污染和靶材使用限制、磁过滤电弧等离子体的损失及高功率脉冲磁控溅射放电不稳定等问题。本发明的装置包括：电弧离子镀靶源、多级...

一种组合磁场、组合管和多孔挡板复合的真空沉积方法，属于材料表面处理技术领域，本发明为解决电弧离子镀中大颗粒对薄膜的污染和靶材使用限制、磁过滤电弧等离子体的损失及高功率脉冲磁控溅射放电不稳定等问题。本发明的装置包括：电弧离子镀靶源、多级磁...

一种组合磁场与内衬阶梯管和多孔挡板复合的真空镀膜方法，属于材料表面处理技术领域，本发明为解决电弧离子镀中大颗粒对薄膜的污染和靶材使用限制、磁过滤电弧等离子体的损失及高功率脉冲磁控溅射放电不稳定等问题。本发明的装置包括：偏压电源、电弧离子...

一种组合磁场与内衬多孔挡板复合的真空镀膜方法，属于材料表面处理技术领域，本发明为解决电弧离子镀中大颗粒对薄膜的污染和靶材使用限制、磁过滤电弧等离子体的损失及高功率脉冲磁控溅射放电不稳定等问题。本发明的装置包括：偏压电源、电弧离子镀靶源及...

一种组合磁场和内衬异形管与多孔挡板复合的真空镀膜方法，属于材料表面处理技术领域，本发明为解决电弧离子镀中大颗粒对薄膜的污染和靶材使用限制、磁过滤电弧等离子体的损失及高功率脉冲磁控溅射放电不稳定等问题。本发明的装置包括：电弧离子镀靶源、多...

一种组合磁场与内衬锥形管和多孔挡板复合的真空沉积方法，属于材料表面处理技术领域，本发明为解决电弧离子镀中大颗粒对薄膜的污染和靶材使用限制、磁过滤电弧等离子体的损失及高功率脉冲磁控溅射放电不稳定等问题。本发明的装置包括：偏压电源、电弧离子...

一种组合磁场与内衬直管和多孔挡板复合的真空沉积方法，属于材料表面处理技术领域，本发明为解决电弧离子镀中大颗粒对薄膜的污染和靶材使用限制、磁过滤电弧等离子体的损失及高功率脉冲磁控溅射放电不稳定等问题。本发明的装置包括：偏压电源、电弧离子镀...

一种组合磁场与内衬偏压锥形管和直管复合的真空沉积方法，属于材料表面处理技术领域，本发明为解决电弧离子镀中大颗粒对薄膜的污染和靶材使用限制、磁过滤电弧等离子体的损失及高功率脉冲磁控溅射放电不稳定等问题。本发明的装置包括：电弧离子镀靶源、多...

一种组合磁场与内衬多孔挡板复合的真空沉积方法，属于材料表面处理技术领域，本发明为解决电弧离子镀中大颗粒对薄膜的污染和靶材使用限制、磁过滤电弧等离子体的损失及高功率脉冲磁控溅射放电不稳定等问题。本发明的装置包括：偏压电源、电弧离子镀靶源及...

多级磁场和内衬异形管与多孔挡板复合型过滤的电弧离子镀，属于材料表面处理技术领域，本发明为解决多级磁场过滤装置中大颗粒对薄膜的污染和等离子体传输过程中的损失问题。本发明包括：偏压电源、电弧离子镀靶源、多级磁场装置、内衬偏压锥形管、阶梯管与...

活动磁场电弧离子镀与高功率脉冲磁控溅射复合沉积方法，属于材料表面处理技术领域，本发明为解决电弧离子镀中大颗粒对薄膜的污染和靶材使用限制、磁过滤装置传输过程中电弧等离子体的损失及高功率脉冲磁控溅射放电不稳定等问题。本发明的装置包括：偏压电...

组合磁场和内衬偏压锥形管与阶梯管复合过滤的电弧离子镀，属于材料表面处理技术领域，本发明为解决多级磁场过滤装置中大颗粒对薄膜的污染和等离子体传输过程中的损失问题。本发明的装置包括：偏压电源、电弧离子镀靶源及电源、多级磁场装置及电源、内衬偏...

多级磁场和内衬偏压锥形管与阶梯管复合过滤的电弧离子镀，属于材料表面处理技术领域，本发明为解决多级磁场过滤装置中大颗粒对薄膜的污染和等离子体传输过程中的损失问题。本发明的装置包括：偏压电源、电弧离子镀靶源及电源、多级磁场装置及电源、内衬偏...