本实用新型公开了一种粉末镀膜装置，包括循环连接的四个相同腔室，每个腔室由依次连通的反应区、样品盛放区和传料区构成，反应区设在样品盛放区上方，反应区顶端设有入口，入口下方架设竖直的旋转轴，该旋转轴的轴向上设有粉末流化台，该旋转轴两侧的反应...

本实用新型公开了一种在粉末表面均匀镀膜的原子层沉积装置，包括电机、旋转多孔进源器、反应腔、加热器、进气管路和抽气管路，旋转多孔进源器为由空心轴和桨叶构成，空心轴两端为密封的，侧壁上设有气孔，桨叶螺旋固定在空心轴上，桨叶上设有与空心轴连通...

本发明公开了一种粉末镀膜装置，包括循环连接的四个相同腔室，每个腔室由依次连通的反应区、样品盛放区和传料区构成，反应区设在样品盛放区上方，反应区顶端设有入口，入口下方架设竖直的旋转轴，该旋转轴的轴向上设有粉末流化台，该旋转轴两侧的反应区侧...

本发明公开了一种在粉末表面均匀镀膜的原子层沉积方法，包括以下步骤：⑴、加热反应腔内的粉末，同时搅拌和抽真空，送入清洗气；⑵、停止抽真空和截止通入清洗气，向粉末内部通入反应气，搅拌反应；⑶、停止通入反应气，同时开启抽真空，向粉末内部通入清...