本发明公开了高压水洗单片机，属于晶圆加工技术领域，包括机体，机体的内部固定安装有两个支撑板，调节脚的一侧与机体内部一侧均固定安装有电动滑轨，通过设置的机械臂、清洗仓、卡盘和清洗仓相互配合，即可将多片晶圆依次移动至四个清洗仓的内部，从而一...

本发明涉及晶圆电镀技术领域，具体是一种新型快装式晶圆级电镀挂具，包括支板，所述支板上设置有定位组件，所述定位组件包括定位板和卡槽，支板上设置有吸附组件，所述吸附组件包括滑动座、滑管、吸盘、壳体、电机和连接管，所述壳体的内部设置有调压组件...

本发明涉及一种晶圆电镀上料抓取装置领域，公开了一种晶圆电镀上料抓取装置，包括电镀机构、监测调试机构和抓取机构，通过设置的监测调试机构能够对晶圆的位置进行实时监测和调节，使电流密度、温度、电解液流量和成分的均匀分布，从而得到高质量的电镀层...

本发明公开了一种新型晶圆级单面电镀挂具，涉及晶圆加工技术领域，包括挂板，挂板上开设有贯穿挂板侧壁的圆形孔，挂板的一侧上方开设有两个导电板安装槽，两个导电板安装槽的内部均活动安装有导电板，挂板的内部活动安装有导电环，挂板的内部中间位置设置...

本发明涉及晶片装卸技术领域，具体是一种晶片及载具取放机械手，包括机架，所述机架的顶部内壁安装有载具上下料机构，所述载具上下料机构的内部放置有循环使用的组合载具，所述机架底部的一侧外壁固定连接有底座，所述底座顶端的一侧外壁固定连接有安装架...

本发明公开了一种Ring环清洁设备上下料设备，涉及Ring环加工技术领域，包括底座，底座上活动安装有活动座，活动座的顶部壁面一次竖直向上固定安装有上料架，上料架上活动安装有定位座，底座和活动座上均固定安装有滑轨，活动座通过滑轨滑动安装在...

本发明涉及片状产品夹具技术领域，具体是一种片状产品加工用自动夹具，包括底板，所述底板上开设有滑槽，滑槽上滑动连接有安装板，所述安装板上设置有夹持组件，所述夹持组件包括环形架、滑孔、滑杆和圆片，所述环形架固定连接于安装板上，安装板上设置有...

本发明涉及电镀挂具技术领域，具体是一种先进板级封装用双面电镀挂具，包括挂具底板和产品，所述挂具底板的一侧外壁设置有底框，所述底框的一侧外壁设置有一体式密封胶垫，所述一体式密封胶垫的一侧外壁分段式导电环，所述分段式导电环的一侧外壁设置有双...

本发明涉及夹具解锁技术领域，具体是一种夹具轨迹解锁装置，包括安装架，所述安装架的内壁开设有夹具定位槽，所述夹具定位槽的内壁滑动连接有夹具组件，所述安装架的内壁设置有解锁组件，所述解锁组件包括有有底板、解锁滑板、解锁气缸、解锁板、解锁滚轮...

本发明涉及电镀夹挂具技术领域，具体是一种阴极双面电镀双边夹挂具，包括机箱，机箱的底部设置有夹持组件，夹持组件包括弧形孔、弧形块、滑杆、竖筒和转杆，弧形孔开设于机箱的底部，两个弧形块滑动连接于弧形孔的内部，两个滑杆分别转动连接于两个弧形块...

本发明公开了一种半导体原料水洗搅拌装置，涉及半导体原料水洗技术领域，包括水洗罐，所述水洗罐的底部固定安装有托架座，还包括投料组件、搅拌组件以及下料组件；所述投料组件设置在水洗罐的顶部位置；所述搅拌组件包括转动安装于水洗罐顶部的腔轴杆，且...

本发明公开了一种单片式双面电镀槽，涉及单片电镀技术领域，包括电镀槽体，所述电镀槽体内固定连接有导电阴极，所述电镀槽体内滑动连接有两个摇摆板，两个所述摇摆板分别位于所述导电阴极的两侧，还包括；固定板，所述固定板固定连接于所述电镀槽体的一侧...

本发明公开了一种密封式导电夹具，涉及导电夹具技术领域，包括第一夹具包胶套，所述第一夹具包胶套的上方设有第二夹具包胶套，所述第一夹具包胶套和所述第二夹具包胶套相互靠近的一侧均开设有安装孔。本发明通过挤压单元的设置，推动挤压杆带动活动活塞进...

本发明涉属于电镀装置技术领域，具体是一种分区阳极电镀装置，包括加工框，所述加工框的内部设置有两个分别位于加工框内部前后两侧的区分组件，区分组件包括底板，底板的顶部壁面开设有多个安装槽，多个安装槽的内部均放置有导电条，底板的顶部壁面设置有...

本发明涉及晶圆电镀领域，公开了一种晶圆电镀液循环温控系统，包括外循环桶、内循环桶、循环机构、升温箱、第二温控管以及蓄液池，外循环桶、内循环桶与循环机构联动用于电镀液的循环，使得需要作业的电镀液内不存在气泡，从而保证电镀液的稳定性和镀层质...

本发明公开了一种晶圆用车间储存设备，包括安装箱与晶圆块，安装箱的内壁设置有放置机构，放置机构包括可移动的放置架，安装箱靠近放置架的内壁上端设置有取拿机构，取拿机构包括上下移动的取料板，放置架的上端设置有放置槽，放置槽中放置有放置箱，放置...

本发明涉及半导体封装技术领域，公开了一种半导体封装抓取机械手，包括底座，底座的顶部设置有定位机构，定位机构包括第二摆臂，第二摆臂的顶部转动连接有安装架，定位机构的顶部设置有真空泵，真空泵固定安装在安装架的顶部，真空泵的输出端固定连接有气...

本发明属于半导体制造稳压设备技术领域，具体为一种涂胶显影设备的稳压装置，包括安装箱，安装箱出气结构的内部设置有稳定输出气体的稳压机构，气杆上气压传动的进气端设置有调节推动气杆移动气压大小的控制机构，控制机构包括增加气压的调节管与传动机构...

本发明涉及镀镍钯金技术领域，且公开了一种硅片的化学镀镍钯金装置，包括镀箱主体和位于镀箱主体内的挂篮，镀箱主体上端两侧均固定安装有U型架，两个U型架之间转动设置有控制挂篮移动的收纳机构，本发明通过在镀箱主体内滑动连接的矩形框上端转动设置密...

本发明公开了一种晶圆化镀设备快排清洗槽装置，涉及晶圆生产技术领域，包括基座，所述基座的顶部外壁一侧固定安装有清洗箱，且清洗箱内设置有多个清洗池，所述基座表面靠近清洗箱的一侧固定安装有回形轨槽，还包括悬挑架和装料组件；本发明当活动卡块能够...