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苏州美诺医药科技有限公司专利技术
苏州美诺医药科技有限公司共有16项专利
考布曲钙和其中间体的制备方法技术
本发明公开了一种考布曲钙和其中间体的制备方法,涉及医药技术领域。包括步骤:将化合物2溶于水中,减压蒸馏,至剩余物pH为5.5‑6.5停止蒸馏;将剩余物和水混合,加入阳离子树脂,搅拌,过滤,收集母液,得含化合物3溶液;将含化合物3溶液和碳...
基因毒性杂质2-巯基苯并噻唑及二硫化二苯并噻唑的检测方法技术
本发明涉及药物分析技术领域,具体涉及基因毒性杂质2‑巯基苯并噻唑及二硫化二苯并噻唑的检测方法。所述检测方法包括采用高效液相色谱法,所述高效液相色谱法的色谱条件包括:以0.05‑0.2%甲酸水溶液为流动相A,以乙腈为流动相B。根据二硫化二...
一种LRRK2抑制剂的制备方法技术
本发明提供了一种LRRK2抑制剂的制备方法,涉及杂环化合物药物合成技术领域。该制备方法包括步骤:将2H‑1,2,3‑三唑与Br<subgt;2</subgt;进行反应,得到二溴取代物,然后再进行烷基化反应,得到单一的2‑位异...
一种稳定的辅酶Q10注射液及其制备方法技术
本发明公开了一种稳定的辅酶Q10注射液及其制备方法。以重量百分比计,所述辅酶Q10注射液包括以下组分:0.15%‑0.4%辅酶Q10,1%‑8%增溶剂吐温80,2%‑8%丙二醇,0.01%‑1.0%维生素E,0.5%‑1.0%渗透压调节...
1,3,9-三甲基-1,9-二氢-4H-吡唑并[3,4-b]喹啉-4-酮的制备方法及中间体技术
本发明公开了一种1,3,9‑三甲基‑1,9‑二氢‑4H‑吡唑并[3,4‑b]喹啉‑4‑酮的制备方法及中间体。一种1,3,9‑三甲基‑1,9‑二氢‑4H‑吡唑并[3,4‑b]喹啉‑4‑酮的制备方法,包括如下步骤:(1)将乙酰乙酸乙酯作为底...
一种硫辛酸肠溶胶囊的制备方法技术
本发明提供了一种硫辛酸肠溶胶囊的制备方法,涉及医药技术领域。该胶囊的原料包括硫辛酸,制备步骤为将硫辛酸与崩解剂混合搅拌,加入润湿剂制粒,制粒后出料,得到湿颗粒;将得到的湿颗粒干燥,过筛、包衣,得到包衣后的颗粒,包衣用包衣液包括粘合剂、遮...
嘌呤类衍生物作为NSD2和NSD3抑制剂的用途制造技术
本发明涉及一种嘌呤类衍生物作为NSD2和NSD3抑制剂的用途,该衍生物的结构式如式(I)或式(II)所示。该化合物表现出良好的NSD2、NSD3抑制活性,在细胞内可有效地降低H3K36的甲基化水平,并引起NSD2、NSD3高表达肿瘤细胞...
一种嘌呤类衍生物及其用途制造技术
本发明涉及一种嘌呤类衍生物及其用途,该衍生物的结构式如式(I)或式(II)所示。该化合物表现出良好的NSD2、NSD3抑制活性,在细胞内可有效地降低H3K36的甲基化水平,并引起NSD2、NSD3高表达肿瘤细胞株的细胞增殖活性的降低,可...
一种四氮杂环十二烷衍生物的制备方法技术
本发明公开了一种四氮杂环十二烷衍生物的制备方法。所述制备方法包括:将式VI所示的化合物在酸性条件下进行缩酮水解反应,再在碱性条件下水解,酸化后制得式X所示的四氮杂环十二烷衍生物。所述制备方法还包括以轮环滕宁为起始原料,通过氨基保护、烷基...
一种钆布醇衍生物的制备方法技术
本发明公开了一种钆布醇衍生物的制备方法。所述制备方法包括:将式VI所示的化合物在酸性条件下进行缩酮水解反应,再在碱性条件下水解,酸化后制得式X所示的钆布醇衍生物。所述制备方法还包括以轮环滕宁为起始原料,通过氨基保护、烷基化反应、与钆布醇...
含噻唑类化合物及其中间体与应用制造技术
本发明公开了一种具有式(I)所示的含噻唑类化合物或者其药学上可接受的盐,所述化合物适合用作酪氨酸激酶尤其是ITK抑制剂,因此适于治疗ITK介导的炎性疾病或癌症或自身免疫疾病。病。病。
一种新型含噻唑类化合物、中间体及其应用制造技术
本发明公开了一种具有式(I)所示的含噻唑类化合物或者其药学上可接受的盐,所述化合物适合用作酪氨酸激酶特别是ITK抑制剂,适于治疗ITK介导的炎性疾病或癌症或自身免疫疾病。疗ITK介导的炎性疾病或癌症或自身免疫疾病。疗ITK介导的炎性疾病...
一种3-卤代-5,6,7,8-四氢异喹啉的制备方法技术
本发明涉及一种3
一种舒更葡糖钠衍生物的制备方法技术
本发明涉及一种舒更葡糖钠衍生物的制备方法,利用6
一种菧类化合物树豆酮酸A的合成方法技术
本发明提供了一种菧类化合物树豆酮酸A的合成方法。该方法包括如下步骤:使式(I)化合物酯化生成式(II)化合物;使式(II)化合物还原生成式(III)化合物;使式(III)化合物取代生成式(IV)化合物;使式(IV)化合物取代生成式(V)...
一种菧类化合物甲基树豆酮酸A的合成方法技术
本发明提供了一种菧类化合物甲基树豆酮酸A的合成方法。该方法包括使式(I)化合物酯化生成式(II)化合物;使式(II)化合物还原生成式(III)化合物;使式(III)化合物取代生成式(IV)化合物;使式(IV)化合物取代生成式(V)化合物...
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